JPS5952536B2 - マスクアライナ - Google Patents
マスクアライナInfo
- Publication number
- JPS5952536B2 JPS5952536B2 JP52100494A JP10049477A JPS5952536B2 JP S5952536 B2 JPS5952536 B2 JP S5952536B2 JP 52100494 A JP52100494 A JP 52100494A JP 10049477 A JP10049477 A JP 10049477A JP S5952536 B2 JPS5952536 B2 JP S5952536B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- wafer
- vacuum chuck
- aligner
- mask aligner
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、半導体工業等において使用されるマスクア
ライナの改良に関する。
ライナの改良に関する。
従来からいわゆる写真感光処理を行うにあたつては、被
処理ウェハの表面に光に対するマスクをＪ正しく位置合
せして密着させるためのマスクアライナが広く用いられ
ている。
処理ウェハの表面に光に対するマスクをＪ正しく位置合
せして密着させるためのマスクアライナが広く用いられ
ている。
この種のマスクアライナにおける１つの問題点は、写真
感光処理後にマスクの一面に密着されたウェハを破損さ
せずに引離すことが容易でないことにある。通常、マス
。クアライナにおけるウェハ引離し操作は、従来から真
空チャックでウェハを吸着して行われていたが、特にウ
ェハ密着面の一部に真空部分が生じて密着力が増大した
場合には真空チャックの力だけでは引離し不可能であつ
た。この発明の目的は、ウェハ引離し操作を容易に行え
るようにした改良されたマスクアライナを提供すること
にある。
感光処理後にマスクの一面に密着されたウェハを破損さ
せずに引離すことが容易でないことにある。通常、マス
。クアライナにおけるウェハ引離し操作は、従来から真
空チャックでウェハを吸着して行われていたが、特にウ
ェハ密着面の一部に真空部分が生じて密着力が増大した
場合には真空チャックの力だけでは引離し不可能であつ
た。この発明の目的は、ウェハ引離し操作を容易に行え
るようにした改良されたマスクアライナを提供すること
にある。
この発明の特徴とするところは、ウェハ密着面の周辺部
に集中的にガスを吹付けて一種のくさび打込作用を生じ
させることにより、真空チャックによるウェハ引離しを
援助するようにした点にある。
に集中的にガスを吹付けて一種のくさび打込作用を生じ
させることにより、真空チャックによるウェハ引離しを
援助するようにした点にある。
次に、添付図面を参照してこの発明の一実施例を説明す
る。
る。
図において、マシンベース１０上にはシリンダ１２が配
置されており、このシリンダ１２内には昇降自在にピス
トン１４が配置されている。
置されており、このシリンダ１２内には昇降自在にピス
トン１４が配置されている。
ピストン１４の先端には、フランジ部１６ａを有する真
空チャック１６が装着されてレ）’る。マスクホルダ２
０は、図示しない位置でマシンベース１０に固定されて
おり、開口部２０ａに相当する位置でマスク２４を保持
している。マスクホルダ２０の開口部２０ａに隣接する
部分には、この発明の教示にしたがつて高圧ガスＡを吹
出すためのノズル２２が設けられている。写真感光処理
にあたつては、表面にフォトレジスト剤が塗布されたウ
ェハ１８を真空チャック１６で吸着するとともにシリン
ダ１２でピストン１４を上方へ駆動してウェハ１８をマ
スク２４の下面に密着させる。
空チャック１６が装着されてレ）’る。マスクホルダ２
０は、図示しない位置でマシンベース１０に固定されて
おり、開口部２０ａに相当する位置でマスク２４を保持
している。マスクホルダ２０の開口部２０ａに隣接する
部分には、この発明の教示にしたがつて高圧ガスＡを吹
出すためのノズル２２が設けられている。写真感光処理
にあたつては、表面にフォトレジスト剤が塗布されたウ
ェハ１８を真空チャック１６で吸着するとともにシリン
ダ１２でピストン１４を上方へ駆動してウェハ１８をマ
スク２４の下面に密着させる。
次に、マスク２４の上方から光を照射してウェハ１８上
のフォトレジスト剤をマスクパターンを介して露光する
。その後、ウェハ１８を真空チャック１６で吸着した状
態で、ピストン１４を下方に駆動してマスク２４からウ
ェハ１８を引離す。このとき、ノズル２２を介して高圧
ガスＡをウェハ１８の密着面の周辺部に吹付け、一種の
くさび打込作用を生じさせ、それによつて真空チャック
１６によるウェハ１８のマスク２４からの引離しを助け
る。この場合、図示のようにウエハ１８の周縁部１８ａ
が面とりされていると、そこに隔間ができるために高圧
ガスによるくさび効果が顕著になり好ましい。以上に述
べたこの発明のマスタアライナによれば、高圧ガスの吹
付力でウエハの剥離を促進するようにしているので、た
とえウエハ密着面に部分的に真空が生じ密着力が増大し
た場合であつても、真空チヤツクの吸着力とガス吹付力
との合力によつて容易に且つ破損を伴うことなしにマス
クからウエハを引離すことができ、写真感光処理工程に
おける処理能力ないし作業効率を大幅に向上させること
が可能になる。
のフォトレジスト剤をマスクパターンを介して露光する
。その後、ウェハ１８を真空チャック１６で吸着した状
態で、ピストン１４を下方に駆動してマスク２４からウ
ェハ１８を引離す。このとき、ノズル２２を介して高圧
ガスＡをウェハ１８の密着面の周辺部に吹付け、一種の
くさび打込作用を生じさせ、それによつて真空チャック
１６によるウェハ１８のマスク２４からの引離しを助け
る。この場合、図示のようにウエハ１８の周縁部１８ａ
が面とりされていると、そこに隔間ができるために高圧
ガスによるくさび効果が顕著になり好ましい。以上に述
べたこの発明のマスタアライナによれば、高圧ガスの吹
付力でウエハの剥離を促進するようにしているので、た
とえウエハ密着面に部分的に真空が生じ密着力が増大し
た場合であつても、真空チヤツクの吸着力とガス吹付力
との合力によつて容易に且つ破損を伴うことなしにマス
クからウエハを引離すことができ、写真感光処理工程に
おける処理能力ないし作業効率を大幅に向上させること
が可能になる。
図は、この発明の一実施例によるマスクアライナの要部
断面図である。 １０・・・・・・マシンベース、１２・・・・・・シリ
ンダ、１４・・・・・・昇降ピストン、］６・・・・・
・真空チヤツク、］８・・・・・・ウエハ、２０・・・
・・・マスタホルダ、２２・・・・・・高圧ガス吹出ノ
ズル、２４・・・・・・マスク。
断面図である。 １０・・・・・・マシンベース、１２・・・・・・シリ
ンダ、１４・・・・・・昇降ピストン、］６・・・・・
・真空チヤツク、］８・・・・・・ウエハ、２０・・・
・・・マスタホルダ、２２・・・・・・高圧ガス吹出ノ
ズル、２４・・・・・・マスク。
Claims (1)
- １ マスクの一面に密着されたウェハを真空チャックで
引離すようになつているマスクアライナにおいて、前記
ウェハの前記マスクへの密着面の周辺部に集中的にガス
を吹付ける装置を設け、このガスの吹付力により前記ウ
ェハの前記マスクからの引離しを助けるようにしたこと
を特徴とするマスクアライナ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52100494A JPS5952536B2 (ja) | 1977-08-24 | 1977-08-24 | マスクアライナ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52100494A JPS5952536B2 (ja) | 1977-08-24 | 1977-08-24 | マスクアライナ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5434778A JPS5434778A (en) | 1979-03-14 |
| JPS5952536B2 true JPS5952536B2 (ja) | 1984-12-20 |
Family
ID=14275470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52100494A Expired JPS5952536B2 (ja) | 1977-08-24 | 1977-08-24 | マスクアライナ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952536B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55130542A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-09 | Fujitsu Ltd | Exposing method |
| KR101079513B1 (ko) | 2009-05-13 | 2011-11-03 | 삼성전기주식회사 | 범프 인쇄장치 및 그 제어방법 |
-
1977
- 1977-08-24 JP JP52100494A patent/JPS5952536B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5434778A (en) | 1979-03-14 |
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