JPS6367743A - 移動ステ−ジ機構 - Google Patents

移動ステ−ジ機構

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Publication number
JPS6367743A
JPS6367743A JP61211923A JP21192386A JPS6367743A JP S6367743 A JPS6367743 A JP S6367743A JP 61211923 A JP61211923 A JP 61211923A JP 21192386 A JP21192386 A JP 21192386A JP S6367743 A JPS6367743 A JP S6367743A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chuck plate
stage
hole
air
negative pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61211923A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Taniuchi
谷内 俊明
Ryoji Nemoto
亮二 根本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP61211923A priority Critical patent/JPS6367743A/ja
Publication of JPS6367743A publication Critical patent/JPS6367743A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、例えば半導体ウェハなどの物品を負圧吸着
により保持しつつ移動させる移動ステージ機構に関する
[従来の技術] 例えば、ある半導体ウェハの異物検査装置においては、
半導体ウェハを移動ステージ機構によって保持して高速
に移動させながら、その表面にレーザビームを照射し、
その散乱光に基づき半導体ウェハの表面の異物を検出す
る。
従来、このような移動ステージ機構は、移動台部材に固
定した金属製のチャック板に、負圧吸着によって半導体
ウェハを保持させるようになっている。
そして、その負圧吸着のためのエアー引きは、チャック
板に直接接続したチューブを介して真空ポンプによって
行われる。
また、チャック板の固定は、ボルト締めによって行われ
る。
[解決しようとする問題点コ チャック板の表面には、′11導体ウェハの裏面の異物
が付着して堆積するので、チャック板を洗浄のために定
期的に交換する必要がある。
しかし、前記のように従来はエアー引き用のチューブが
チャック板に直接接続される構造であるため、チャック
板の交換の度にチューブを着脱しなければならず、交換
作業が面倒であった。
[発明の目的コ したがって、この発明の目的は、そのような問題点を解
消し、チャック板の交換が容易な移動ステージ機構を提
供することにある。
[問題点を解決するための手段] 前記従来技術の問題点の解消ならびに前記目的を達成す
るために、この発明は、移動台部材に固定したチャック
板に負圧吸着によって半導体ウェハなどを保持する移動
ステージ機構において、前記チャック板の負圧吸着のた
めのエアー引き用の孔と接続する孔を移動台部材に形成
し、この孔を介して前記エアー引きを行うことを特徴と
するものである。
[作用コ このように、移動π≦材の孔を介してチャック板のエア
ー引きを行うから、エアー引きのための真空ポンプから
のチューブをチャック仮に直接接続する必要がなく、移
動部材側に接続することができる。
したがって、チャック板の交換時にエアー引き用チュー
ブの着脱操作を行う必要がなくなるので、チャック板の
交換が従来より容易になる。
[実施例コ 以下、図面を参照し、この発明の一実施例について説明
する。
第1図は、この発明による移動ステージ機構の要部を断
面にした概略正面図である。この図において、10はチ
ャック板であり、Zステージ(移動台)12に交換可能
に固定されるものである。
このZステージ12は、Z方向(垂直方向)に移動可能
にXステージ16に支持されている。Xステージ16は
X方向(左右方向)に移動可能にXステージ18に支持
されている。Xステージ18は前後方向に移動可能に図
示しない固定部材に支持されている。
なお、各ステージを移動させるための手段が当然あるが
、この発明の要部に直接関連しないので図中省略されて
いる。
チャック板10は負圧吸着によって半導体ウェハ30な
どをJ−而に保持するものであり、その負圧吸着のため
の格子状の溝32が上面に形成されている。ただし、溝
32は同心円状などでもよい。
また、チャック板10の中央部には、エアー引きのため
の前記溝32に連通した吸気孔34が表裏に貫通して設
けられている。
他方、Zステージ12の上面の中央に孔36が穿たれて
おり、それにはパイプ38が嵌挿されている。Zステー
ジ12の内部には、その外周面と前記孔36とに連通し
た孔40が形成されており、その外方の開放端には図示
しない真空ポンプからのチューブが接続される。
チャック板10が図示のようにZステージ12に固定さ
れた状態において、パイプ38が図示のようにチャック
板10の吸気孔34の下端部に入り込む。したがって、
半導体ウェハ30などをチャック板10に載せた状態で
、前記真空ポンプを作動させて吸気孔34からエアーを
抜けば、チャック板lOの上面と″11導体ウェハ30
などの下面との間が負圧状態となり、半導体ウェハ30
などはチャック板10に強固に負圧吸着される。
なお、42はエアー漏れを防止するためのシールである
ここで、従来の移動ステージ機構においては、半導体ウ
ェハなどの負圧吸着のための真空ポンプからのチューブ
をチャック板に直接接続している。
そのために、チャック板の交換の際に、そのチューブの
着脱操作も必要であり、ボルト締め付は作業と相俟って
、チャック板の交換を面倒にしている。
これに対し、この移動ステージ機構では、前記のように
、Zステージ12側の孔36.40を経由してチャック
板10の吸気孔34からエアー抜きを行う構造であり、
そのための1′〔空ポンプからのチューブはチャック板
10には直接接続されない。したがって、チャック板1
0の交換の際に、従来のようなチューブの着脱操作は不
要であり、チャック板10の交換が容易である。
さて、従来の移動ステージ機構において1よ、チャック
板(10)を移動台部材(12)にボルトで締め付けて
固定していたが、この移動ステージ機構においては、チ
ャック板10の交換を一層容易にし、また、ボルト締め
付は固定の他の問題を解消するために、負圧吸着によっ
てチャック板10をZステージ12に固定する構造にな
っている。
その負圧吸着による固定のための手段について説明すれ
ば、Zステージ12の上面に、リング状溝20が形成さ
れている。また、このリング状溝20の一部とZステー
ジ12の外周面に連通ずる孔22がZステージ12の内
部に形成されている。
Zステージ12の外周面に開口する孔22の端部に、真
空ポンプがチューブを介して接続されるが、これは図中
省略されている。
また、チャック板10の位置決めのために、Zステージ
12の上面に、複数の位置決めピン24(1本だけ図示
されている)が植設されている。
当然のことながら、チャック板10側に、この位置決め
ピン24と嵌合する位置決め孔2Bが形成されている。
このような構成において、チャック板10を位置決め孔
26および位置決めピン24によって位II¥I:決め
してZステージ12に載置し、前記真空ポンプによって
リング溝20内のエアーを引けば、Zステージ12の表
面き、それに接しているチャック板10の下面部分との
間は負圧となり、チャック板10は固定される。
ここで、従来のようにチャック板をボルトによって締め
付けて固定する構造では、その締め付は力によってチャ
ック板の反りなどの変形が発生し、チャック板の平面度
を出しにくいという問題があった。
また、締め付はトルクによってチャック板の位置ずれが
生じやすいという問題もあった。そして、ボルト締め作
業そのものが比較的手間がかかる上に、チャック板の変
形を最少限に抑えるようにボルトの締め付はトルクの微
妙な調整が必要であり、またチャック板の位置合わせ調
整が必要であるので、吸着板の交換がかなり面倒であっ
た。
このように、従来の移動ステージ機構は、チャック板へ
のエアー引き用チューブの着脱が面倒なだけでなく、チ
ャック板の固定構造の而からも、チャック板の交換が面
倒であった。
これに対し、この実施例にあっては、チャック板10は
広い面積で吸着されるため、従来のような中央部などを
ボルト締めした構造と違い、チャック板10に大きな曲
げ応力が集中的に加わることがないので、その反り変形
を防止できる。
また、ボルトの締め付はトルクのような横方向の力はチ
ャック板10に加わらないので、位置決めピン24と位
置決め孔26の加工精度および位置精度を出しておけば
、チャック10は高精度に位置決めされる。
他方、エアーの吸引を停市して負圧杖態を解くだけで、
チャック板10をZステージ12から取り外すことがで
きる。
このように、この移動ステージ機構は、チャック板10
の交換が極めて容易であるとともに、チャッキング板1
0の反り変形および位置ずれを容易に防止できる。
次にチャック板10の材質について説明する。
従来のチャック板は金属製であったが、この実施例のチ
ャック板10は、石英から作られている。
このように材質として石英を用いたことにより次のよう
な利点がある。
まず、従来の金属製のチャック板の場合、その金属粉や
イオンが半導体ウェハに付着し、それが不純物として悪
影響があったが、石英を材料としたので、この問題を解
決できる。
また、金属製のチャック板に比べ、石英製のチャック板
10は表面を高精度に加工できるとともに、熱膨張お上
び熱収縮が少ないので、チャック板10の平面度を高く
でき、半導体ウエノ1などとの密着性およびZステージ
12との密着性を向上させ、それぞれの吸着効果を向」
―できる。
さらに、石英製のチャック板10は、金属製チャック板
に比べて洗浄時の薬品に侵されに(く、良好な表面状態
を長期間維持できる。
なお、このような石英製のチャック板10は、従来のよ
うにボルト締めによって固定する構造では割れやすいと
いう問題があるが、この実施例のように負圧吸着によっ
て固定する構造であれば、そのようなチャック板10の
割れを確実に防止できる。
以上、一実施例について説明したが、この発明はそれだ
けに限定されるもではない。
例えば、前記実施例においては、チャック板を負圧吸着
によって固定する構造であったが、その固定構造を変更
してもよい。
また、チャック板の位置決め用のビンをチャック板側に
設け、位置決め用の孔を移動台側に形成することもでき
る。また、ピンと孔の組み合わせ以外の位置決め手段を
用いてもよい。
前記実施例ではチャック板はZ方向に移動する移動台(
Zス、テーツ)に固定するようになっているが、チャッ
ク板の固定される移動台の移動方向は任意である。
前記以外にも、この発明はその要旨を逸脱しない範囲内
で様々に変形して実施し得るもである。
[発明の効果コ 以上の説明から明らかなように、この発明は、移動台部
材に固定したチャック板に負圧吸着によって1こ導体ウ
ェハなどを保持する移動ステージ機構において、チャッ
ク板の負圧吸着のためのエアー引き用の孔と接続する孔
を移動台部材に形成し、この孔を介して前記エアー引き
を行うものであるから、エアー引きのための真空ポンプ
からのチューブをチャック板に直接接続する必要がなく
、移動部材側に接続することができるので、チャック板
の交換時にエアー引き用チューブの着脱操作を行う必要
がなく、チャック板の交換が従来より容易になる。
このように、この発明によれば、従来よりもチャック板
の交換が容易な移動ステージ機構を実現できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の移動ステージ機構の一実施例の要
部を断面で示した概略正面図である。 10・・・チャック板、12・・・Zステージ(移動台
部材)、20・・・負圧成行用リング状溝、34・・・
エアー引き用吸気孔、36.40・・・エアー引き用孔

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)移動台部材と、半導体ウェハなどを負圧吸着によ
    って保持するためのチャック板と、このチャック板を前
    記移動台部材に固定するための手段とを有し、前記移動
    台部材には、前記チャック板の負圧吸着のためのエアー
    引き用の孔と接続する孔が形成されており、この孔を介
    して前記エアー引きがなされることを特徴とする移動ス
    テージ機構。
  2. (2)チャック板を移動台部材に固定する手段は前記チ
    ャック板を負圧吸着により固定する手段であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載の移動ステージ機
    構。
  3. (3)チャック板は石英で作られることを特徴とする特
    許請求の範囲第2項に記載の移動ステージ機構。
JP61211923A 1986-09-09 1986-09-09 移動ステ−ジ機構 Pending JPS6367743A (ja)

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JP61211923A JPS6367743A (ja) 1986-09-09 1986-09-09 移動ステ−ジ機構

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JP61211923A JPS6367743A (ja) 1986-09-09 1986-09-09 移動ステ−ジ機構

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JPS6367743A true JPS6367743A (ja) 1988-03-26

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ID=16613906

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61211923A Pending JPS6367743A (ja) 1986-09-09 1986-09-09 移動ステ−ジ機構

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JP (1) JPS6367743A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02270320A (ja) * 1989-04-11 1990-11-05 Hitachi Ltd 表面処理方法および装置
EP0452969A2 (en) 1990-04-19 1991-10-23 Hitachi, Ltd. Charged particle beam apparatus
US5254856A (en) * 1990-06-20 1993-10-19 Hitachi, Ltd. Charged particle beam apparatus having particular electrostatic objective lens and vacuum pump systems
JP2014093384A (ja) * 2012-11-02 2014-05-19 Disco Abrasive Syst Ltd チャックテーブル
TWI663685B (zh) * 2016-11-30 2019-06-21 南韓商細美事有限公司 用於支承基板的吸盤模組和包括該吸盤模組的探針台

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02270320A (ja) * 1989-04-11 1990-11-05 Hitachi Ltd 表面処理方法および装置
EP0452969A2 (en) 1990-04-19 1991-10-23 Hitachi, Ltd. Charged particle beam apparatus
US5187371A (en) * 1990-04-19 1993-02-16 Hitachi, Ltd. Charged particle beam apparatus
US5254856A (en) * 1990-06-20 1993-10-19 Hitachi, Ltd. Charged particle beam apparatus having particular electrostatic objective lens and vacuum pump systems
JP2014093384A (ja) * 2012-11-02 2014-05-19 Disco Abrasive Syst Ltd チャックテーブル
TWI663685B (zh) * 2016-11-30 2019-06-21 南韓商細美事有限公司 用於支承基板的吸盤模組和包括該吸盤模組的探針台

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