JPS5949057B2 - 粉状物質と反応ガスとの方向付けされた懸濁噴流の形成方法とその装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は粉状物質と反応ガスとの一定の方向を有し且つ
制御された懸濁噴流（Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ５ｐｒａｙ
）を形成する方法及びその装置に関する。

反応室中に懸濁物（Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ）を供給する
ことに関しては文献に数多く記述されている。

それらのうちのほとんどは、空気輸送され細分割された
固体物質を直接吹き込む方式又は懸濁噴流が反応ガス中
に生じる圧力パルスを用いるエゼクタ−中でなされる如
く形成され且つ反応室に吹き込まれる装置のどちらかを
論じたものである。

このような噴流はその噴流の中央で固体濃度が最も高い
円錐形を形作る。

その分布の形状は主に固体の性質と懸濁物の流速に関係
する。

固体とガスはこの場合実質的に同じ方向を有する。

周知の如く、反応固体粒子とそれを取り巻くガスとの集
合体の移動は実質的にそれらの間の速度の違いに関係す
る。

この為速度の違いがそれ自身反応室中で最も大きい、即
ち、極大であることは重要なことである。

この理由から、反応室中で反応ガスと粉状物質とを混合
することは上記例で述べられているエゼクタ−のような
方法よりも懸濁状態を形成する方が有利な方法である。

ガスと固体物質とを反応室内で混合する時、固体粒子が
ガス流の速度にいまだ達しない間はその速度の違いは最
大の状態にある。

反応室中でこのような懸濁状態の形成の例としてはフィ
ンランド特許第５７７８６号に記述されており、以下に
その工程について簡単に述べる：環状で且つ下向きの固
体の流れは粉状物質を部分流として傾斜面に沿って落下
させることにより形成される。

特殊な攪拌室で強い擾乱状態に到った反応ガスは回転軸
に沿って攪拌室の端の均−絞り装置を経て粉状物質の環
状流の内部に流入されることになる。

反応室中に直接開口されるこの排出口から、強く攪拌さ
れた噴射は１５−１８０°の範囲に調整され得るフレア
角度（ｆｌａｒｅ ａｎｇｌｅ）の円錐形として流入し
、反応室内で必然する速度の違いでそれ自身粉状物質流
に合流する。

効果的及び経済的な反応室の利用を図るには、懸濁噴流
がそれ自身反応室内への導入前であろうと反応室内に於
てであろうと制御された方向性と拡がりを有することが
必要である。

反応に関しては、反応ガスの粉状物質に対する混合比率
が反応室のあらゆる箇所で適正であることが重要である
。

スペースの利用に関しては方向付けと供給の為の装置は
出来るだけ小さいこと及び反応室は出来るだけ充たされ
ていることが望ましいが、この場合懸濁噴流の壁に対す
る皮張り（ｗｅａｒｉｎｇ ）もしくは積層効果（ｔｈ
ｉｃｋｅｎｉｎｇｅｆｆｅｃｔ）に考慮を払うことも必
要である。

このことはメインの流れに対してガスが反応室内に統一
性のない角度で導入され易いという事実による困難性が
あるにもかかわらず、反応ガスと粉状物質との懸濁噴流
が反応室に対し常に対称となるよう制御され方向付けさ
れるべきことに通じる。

ガス噴流の方向付けの１つの知られた方法は上述のフィ
ンランド特許第５７７８６号にあるように強い回転運動
を用いることである。

これは非常に過酷な反応条件を要する工程に於てこそ、
しばしば必要とされるものである。

しかしながらこの場合かなりな量の圧力エネルギーを必
要とするものであるから、それ程過酷でない工程ではこ
のエネルギーはむしろ節約されるべきである。

はとんど水平方向に向けられるガス流を垂直な反応室に
対し平行に偏向させる最も簡単な方法はおそらく一定太
さのエルボパイプを用いることであろう。

これは簡単であることとむしろ圧損が小さいと云う利点
を有するが、流入ガス流が非対称であると云う欠点をも
有するものである。

文献（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｆｌｕｉｄ Ｄ
ｙｎａｍｉｃｓ 、 ＶｉｃｔｏｒＬ、５ｔｒｅｅｔ
ｅｒ、ＳＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ Ｂｏｏｋ Ｃｏｍｐ
ａｎｙ。

Ｉｎｃ、 １９６１、ＰＰ −３−１８−３−２３，９
−１１，１４−１６、）から、遠心力が半径の違いの為
に側部に於てよりもパイプの中央部に於てより強い影響
を有するから、パイプのエルボ部で管流が変化しそれに
よってパイプの中央部分で壁外方向への流れの集中を引
き起しまたそれによってパイプの壁から偏向する２つの
渦流の形成をもたらすと云うことが知られる。

懸濁状態を形成するには粉状物質供給用の管状部材がエ
ルボパイプの内部に追加されなければならず、この部材
が圧損だけでなく上述の現象により生じる一方に片寄っ
たガスの排出流の比率をも増大させることになる。

これよりもつと高度な装置でも方向付けの為には通常か
なり長い（長さ／管径が大である）直管が用いられる。

この直管は単純ではあるが冶金工程には一般に長過ぎ（
高過ぎ）、粉状物質の供給装置をその中に交換自在に設
けることは容易ではない。

ガスの偏向と方向付けの１つのありきたりな解決策は反
応室に流入させる前に比較的大きな部屋を経てそれを絞
り込むことによって反応室に向けることである。

実際には（流入速度が過大であるか供給室が夫々大き過
ぎ、この両者の場合圧損が大き過ぎたりして）充分な程
度に絞り込むことは困難なことがしばしばで、そうする
と方向付けも思うにまかせなくなる。

もちろん１つの流入口の代りにいくつかのそれ（格子）
を用いることは可能で、こうすると大きな流入速度も利
用可能となる。

Ｄ、 Ｒ，Ｒｉｃｈａｒｄｓｏｎは彼の論文”Ｈｏｗ
ｔ。ｄｅｓｉｇｎ ｆｌｕｉｄ−ｆｌｏｗ ｄｉｓ
ｔｒｉｂｕｔｏｒｓ ”、Ｃｈｅｍ、 Ｅｎｇ、 ６
８Ｎｏ、 ９．８３−８６ （１９６１）に於て、該格
子に関し、格子の開口部での主たる流入速度もしくは格
子上での供給ガス量を一定にするに必要な圧損値、即ち
その数値は入口速度に基づく圧損と比較して少なくとも
１００倍であると決定した。

この場合でもなお均一性と方向付けは大掛りな浪費と圧
損のもとでしか達成され得ないのである。

とりわけ優れた方向付けは、３もしくは数方向から対称
的に反応室の中心軸に配されたガス供給室に反応ガスを
導入する方法によって、またこのような対称に形成され
る環状ガス流を反応室に流入させることを可能にするこ
とによって、更に該環状ガス流の内部から中心方向に粉
状物質を供給することによって得られる。

このことは関係するものが、例えば３もしくはいくつか
の反応ガスと粉状物質との懸濁状態を形成する為のユニ
ットが１つに縮小される時、有利で有りしかも推薦し得
るものである、なぜならこの場合ガス供給パイプは事前
に供給室に連結されていることが有効だからである。

しかしながらもし問題が全く新しいユニットを構築する
ことにあるならば、物質と熱の損失が大きい為に上述の
複数のパイプを作ることは価値がない；そこで本発明の
圧損の小さな背の低い単−一チヤンネルー供給ユニット
を用いることが有効となる。

冶金製錬装置、特に懸濁製錬に於て、反応ガスと粉状物
質とを互いに良く混合するよう反応室へ供給するには単
一もしくは複数の装置が必要であるので、懸濁状態の形
成の方法には特に製錬ユニットの大きさが増大しがちで
あることに注意を払う必要がある。

反応ガスと粉状物質とを懸濁状態で反応室に供給するに
は２つの原理が用いられ、そしてこの原理によれば懸濁
状態は実際の吹き込み一供給装置の前かその吹き込み一
供給装置自体によって形成される。

前者の方法は炭素粉末を加熱する一般のカーボンバーナ
ー、あるいは空気輸送され、細分割された鉱石もしくは
精鉱がキャリアガスと共に直接反応容器に吹き込まれる
冶金装置に於て用いられる。

この方法を応用する際、吹き込み一供給速度は反応物の
吹き戻りが起らないような速度に調整されなければなら
ない。

高い予備加熱温度を要する時、もしくは、硫化物精鉱の
酸素冶金精錬に於けるような形成される懸濁状態が反応
性に富んでいる場合には、懸濁状態は反応室に出来るだ
け近いところであるいは理想的には本発明のように反応
室自体の中で形成されるべきである。

本発明の目的は、高反応性物質の懸濁状態を有効に形成
し得るよう、反応物質同志を反応室内で始めて接触させ
るようにした新規な懸濁状態の形成方法と装置を提供せ
んとするものである。

本発明による方法の主たる特徴は特許請求の範囲第１項
に記載されておりまたこの方法を遂行する為に用いられ
る装置の特徴は特許請求の範囲第４項に記載されている
。

反応ガスが一方向に向けられる本発明に於ては、水平に
導入されたチャンネルは流束（ｍａｓｓｏｆ ｔｈｅ
ｆｌｏｗ）の中心点から放射状に離反した仕切りにより
主に３もしくはいくつかの部分チャンネルに分割される
。

必要に応じてガイドブレード及び若しくはベンチュリー
のような混合器及び案内部材が用いられる。

反応ガスは意図する方向に、例えばフラッシュースメル
チング炉の反応シャフトのような反応室の中心軸に平行
となるよう垂直下方に偏向される。

このようにして形成される反応ガス流の部分流は可能な
限りの小さな圧損で流れの中心に配された粉状物質供給
用装置の全周を包囲するような環状流として反応室に流
入するようになる。

全体として回転していないが乱流であるこの反応ガス流
により、反応室に到るまでは分散されていない粉状物質
は反応ガスとの速度の違いから反応室内で主に放射状に
効果的に混合される。

このように反応ガス流と粉状物質とは両者の速度差にも
とづいて混合されて懸濁噴流を形成するため、反応室内
に流入された環状流は、全体として反応に必要な制御さ
れた（調整された）比率をもち且つ機壁に対する皮張り
及びもしくは加熱を考慮して所望の方向付けをされた乱
流となって反応ガス流と粉状物質とを混合するのである
。

本発明に於て、反応ガスの配向及び方向の制御とそれに
より混合された粉状物質の懸濁状態の形成とは反応スペ
ースの頂部に設けられた装置によりその反応スペース内
でなされる。

その例を下記に示すが、 明解にする為本発明のフラッシュースメルチング炉への
応用について述べるものであって他の冶金法に同様に用
いられないということを意味するもので゛はない。

フラッシュースメルチング炉に用いられる工業規模での
反応ガス量はＶ ＝ １００００・・・・・・１４００
０ｍ３／ｈの範囲で変化し、また粉末の冶金用精鉱の量
は１０・・・・・・１３０ｔ／ｈのオーダーで変化する
。

従って反応室（円筒形反応シャフト）は高く径も大であ
る。

この為反応ガスは簡略化のため通常反応シャフトに平行
に且つそれに隣接して上下に向けられ、そして熱損失を
除くよう反応シャフトに沿ってチャンネルは断熱されて
いる。

反応ガスは室温の空気もしくは酸素過剰の空気であるべ
きである。

通常反応ガスは２００−５００℃、時には９００℃にも
予備加熱される。

反応シャフトの上部ではガスチャンネルは反応シャフト
の中心軸方向に向って水平に向けられる。

本発明ではこの水平チャンネルの終端部は主に３つの部
分チャンネルに分割され、この場合単一のチャンネルシ
ステムとは違い夫々に断熱を講じることを要しない。

このことはチャンネルの断面での反応ガスの速度分布が
出来る限り対称で且つ均一である点で仕切壁を開始させ
ることに帰せられる。

流れの方向に対し該仕切壁は放射状になっている。

即ち、それらは流れに平行で且つ流束の中心点に位置す
る同一ラインからすべて張出しチャンネル壁にまで達す
る。

３つの部分チャンネルの場合、通常の実施態様では１つ
のチャンネルは流束の中心点から直接上方にせり上がり
、残る２つは夫々１２０°の角度で下方に向いている。

このように仕切壁によって部分流に分割された反応ガス
流は、粉状物質を包囲する如く環状流として反応室に流
入される時、仕切壁の効果によって回転を生起せず従っ
て回転による圧損が少なく、一方乱流状態は維持される
から反応ガスと粉状物質とは効率的に混合されるのであ
る。

斯くして設定されたチャンネルでも、ある理由もしくは
他の理由で仕切壁に到達前になおまだガスの分布が均一
でないならば、以下の２つの方法が有用である。

１つは仕切壁の起点の極く近傍において各部分チャンネ
ルへの反応ガス量の分布を正常化する為調整自在なガイ
ドブレードを具備させることである。

他の方法は仕切壁の前方部に優秀な混合器として知られ
るベンチュリーの如き適当な安定化及び混合の為の装置
を配することである。

これは反応ガスと第２のガス、例えば酸素とを混合する
のに優れた方法である。

部分チャンネルは反応ガスがチャンネル中を流れる時開
−速度を維持するかむしろその速度が流れの進行方向に
増大するよう構成されなければならない。

即ち、構造上このことはチャンネルの断面積が徐々に小
さくなるか極大の大きさをそのまま維持するということ
を意味する。

この方法は流れの方向に影響を及ぼす２次的な乱流（逆
流−渦流）の形成を阻止し従って圧損を極力抑えるに効
果的である。

部分チャンネルに沿って流れる反応ガスの部分流は一般
の管状の垂直粉状物質供給装置を包囲するよう向けられ
、且つ反応シャフトの中心軸に平行となるよう３０−９
０°に偏向される。

即ち、この反応ガスの偏向は、上記粉状物質供給装置に
対し斜め上方若しくは水平に導入され、この導入角度が
３０−９０°で偏向後反応シャフトの中心軸と平行とな
ることと均等であり、この偏向角度が３０°未満の場合
は装置の背が高くなり過ぎ本発明の利点が減退し、亦９
０°を超える場合は斜め下方より導入されることと等し
いからこのような導入方法は一般に採用されないこと等
の理由で斯かる偏向角度範囲が設定される。

反応ガスの反応シャフトへの流入点の手前で各部分ガス
流を２分する為及び方向付けを阻害するようなあらゆる
回転を阻止する為流入口内に垂直ブレードが設置される
。

このことによって、粉状物質の供給、拡散及び分散装置
の周囲からの環状流として反応室に流入する時、反応ガ
スは３−チャンネル式のガスチャンネルであれば６つの
乱流に分割され、それによって中心軸近傍の全反応ガス
流の回転がより有効に阻止される。

粉状の冶金精鉱は粉状物質の適当な分散及び拡散装置に
よってガス流の内部からこの反応−ガス流内に主に放射
状に供給される。

粉状物質供給の為の極めて好適な方法には、例えば米国
特許第４２１０３１５号に記述されている装置があり、
それには反応室での精鉱分散装置の形状を活用すること
による粉状物質と数種の効果的なガス噴流との落下エネ
ルギーが利用されている。

時には、反応室の大きさによって反応ガスと粉状物質と
の懸濁噴流形成の為にいくつかの装置を用いることも必
要である。

この場合それらは反応室の頂部に於て対称位置に適宜各
々側々に上記原理を適用して配置される。

反応室中でのその配置と懸濁噴流の方向付けとに際して
、皮張りと堆積を防止する為反応室の充満度と壁同志の
接近度に考慮が払われなければならない。

本発明の最も重要な利点はニ ー唯一のチャンネルが部分チャンネルに分割される（断
熱性、材料コスト、スペース的要件、等で実益がある）
。

一反応ガス流が回転を伴わない為、圧損が小さい、特に
大量ガスの場合に有利である。

−反応ガス流を反応室の中心軸に対し３０−９０°の角
度で導入しこれと平行となるよう偏向させるようにした
から、簡素で背の低い構造である（米国特許第４２１０
３１５号に記述されているような粉状物質の供給装置を
構築することは可能で、それによって高さを抑え粉状物
質供給装置を軽量化し得る）。

一反応ガス噴流を所望の及び制御された方向に向けるこ
とが出来る。

本発明を別紙図面を参照して以下に更に詳しく述べると
、第１図は本発明の一応用例であるフラッシュースメル
チング炉の構成図、第２図は本発明の好ましい実施例の
概略的縦断面図、第３図は第２図に示す装置のより詳細
な部分切欠斜視図、第４図はエルボパイプからの反応ガ
ス流出状態を示し４Ａはその側面図、４Ｂはその正面図
、第５図は本発明による反応ガスの流出状態を示し５Ａ
はその側面図、５Ｂはその正面図を夫々示す。

第１図に於て、符号１は粉状物質を粉状物質供給用パイ
プ２の上端部に移送する為のコンベアを。

示しそれによって粉状物質は第２図に詳しく示すように
反応室５の上端部にある反応ガス供給口９を貫通して延
びる流入パイプから連続的に落下する。

反応ガス４はチャンネル３を経て供給口９を通り粉状物
質供給用パイプ２の周囲から反応室５に供給される。

第２図に於て、個々の部分チャンネルへの反応ガスの定
量供給はガイドブレード６によって調整され、且つ該部
分チャンネルの断面積は偏向チャンネル機構のセクショ
ン７に於て一定を維持するか減少するように設定される
。

実質的に反応ガスの方向付けをする該セクションは８の
位置迄到り、そこから最終の方向性を得たガスは反応室
のドーム型天井にある供給口９を通り反応室５に到る。

粉状物質は、例えば良い懸濁状態を形成する為米国特許
第４２１０３１５号による分散装置１０によって、粉状
物質供給用パイプ２に沿って反応室に導入される：ここ
で符号２２は炉の支持構造体を示す。

第３図はガイドブレード６と、その延長としての全ガス
束の中心点を通るライン１１を起点とした仕切壁１２と
を示す。

該仕切壁は１３の位置まで続きそこで終る。

部分チャンネルは１４の位置で夫々２つに分割される。

粉状物質供給用パイプ２としてパイプ１５が存する。

第４図Ａは数々の実験をもとにして描かれたエルボパイ
プ１６からの反応−ガスの流出噴流１８の側面図を示す
。

その垂直線からの偏りは垂線１７から観測され得る。

速度曲線１９は数々の実験結果に基付き図面に平行で且
つ流入口２０の中心軸を通る面に於てプロットされたも
のであり、その面は同時に該噴流の速度極大点をも通る
ものである（比較例１）。

第４図Ｂは同じ比較例１に基づき第４図Ａを９０°回転
した、即ち同じ結果を説明する正面図であり、それには
該流出口を通る面での曲線ａと速度極大点を通り且つ図
面に平行な面での曲線すとがプロットされている。

第５図Ａは実施例■に基づき本発明装置からの反応−ガ
ス噴流１８と垂線１７からのその偏りとを実測速度曲線
１９と合わせてすべてを側面図として示しである。

第５図Ｂは第４図Ｂに対応する実施例１の第５図Ａの、
即ちそれを９０°回転した正面図である。

本発明を実施例をもとにして以下に更に詳述する。

比較例 １ 比較の為に、極めて簡単な反応−ガス偏向器、即ち粉状
物質分散装置１０を内装するエルボパイプ１６を用いて
測定を行なった（第４図Ａ及びＢ）。

反応ガス（空気）の温度は３００’にとした。空気流入
口２０の直径は８２．５ｍｍとし、また粉状物質分散装
置１０の直径は３４ｍｍとした。

本実験での空気量はＶｎ ＝ １００ ｍ３／ｈであっ
た。

エルボパイプから流入する空気噴流１８と流入口２０か
ら３７５ｍｍの距離で測定した速度曲線１９とを第４図
Ａ及びＢにプロットしである。

側面図（第４図Ａ）及び正面図（第４図Ｂ）の両方共噴
流１８の方向性もしくは実測速度曲線１９のどちらかに
関して垂線１７からの方向の偏りを示している。

点２１とその周囲との間の圧損（△Ｐ）に対応する異っ
た量の空気（Ｖｎ）を用いて決定される係数ζは次式で
計算される如＜１．２７であった。

ここで△Ｐ＝測定点からその周囲に到るまでの全圧損／
Ｐａ ζ＝全圧損係数、 ρ＝空気密度／ｋｇ／ｍ”、 Ｗ＝流入口での空気の速度／ｍ／Ｓ、 実施例 １ 本発明装置を用いて比較例１の如く測定を行なった（第
５図Ａ及びＢ）。

流入口８の直径は７５ｍｍとし、また分散装置１０に関
しては比較例１と同様とした。

空気温度は３００’Ｋ及び空気量はＶｎ＝１００ｍ３／
ｈであツタ。

第５図Ａ及びＢは比較例１の第４図Ａ及びＢと同様の方
法で本発明の装置を用いた夫々の実験結果を示す。

方向付けの成果についてはやはり垂線１７の方法で比較
し得る。

同時に速度Ｗは流入口８でのガス速度として、比較例１
と同じ方法で全圧損係数ζ＝１．８５を測定した。

実施例 ２ 本発明による精鉱バーナー（流入口直径Ｄｏ−１９５ｍ
ｍ、回転自在なチャンネル入口直径Ｄｉ ＝ ２３０ｍ
ｍ及び粉状物質の供給及び分配用装置の中心軸での高さ
Ｈ＝ １７５ｍｍ ）を準工業的規模のフラッシュース
メルチング実験炉に於てｍ（反応ガス）＝０．３６ｋｇ
／Ｓ、 ｍ （精鉱） ＝０．６１ｋｇ／Ｓ （０，
４０・・−・−・０．６９ｋｇ／Ｓの範囲で用いられる
）、反応室中の主な温度１７００’Ｋ、等の条件下で用
いた。

全圧損係数は比較例１で定義される通りでζ−１，２１
を得た。

精鉱と反応ガスとの合流点は反応室中の反応シャフトの
ドーム型天井下５０ｍｍのところであった。

反応シャフトから採取したいくつかのサンプルに基づき
また他の研究に基づき検した結果、反応ガスの方向付け
は制御（調整）されて、本発゛明の要件に一致した。

実施例 ３ 以下の例に於ては、本発明装置を工業的規模、即ち粉状
精鉱混合物の全供給量が２０ｋｇ／Ｓ及び反応ガス量が
１１ｋｇ／Ｓに適用しである。

反応ガスは予備加熱する。

流入口直径Ｄｏ ＝ ７５０ｍｍ及びチャンネル入口直
径ＤＩ ＝ １４００ ｍｍとする。

粉状精鉱の供給及び分配装置の中心軸で反応−ガスチャ
ンネルの高さはＨ＝１３００ｍｍとする。

このガス量での圧損は０．５ＫＰａのオーダー内になろ
う。

計算上理解される通り圧損は非常に小さくまた構造自体
低いものであり、従って精鉱−分散装置は充分小さなも
のとなろう。

亦、反応ガスと粉状物質との懸濁噴流は所望の方向性と
調整された形状を有し、反応にとって頗る好適な状態と
なった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一応用例であるフラッシュースメルチ
ング炉の構成図、第２図は本発明の好ましい実施例の概
略的縦断面図、第３図は第２図に示す装置のより詳細な
部分切欠斜視図、第４図はエルボパイプからの反応ガス
流出状態を示し４Ａはその側面図、４Ｂはその正面図、
第５図は本発明による反応ガスの流出状態を示し５Ａは
その側面図、５Ｂはその正面図を夫々示す。 （符号の説明）、１・・・・・・コンベア、２・・・・
・・粉状物質供給用パイプ、５・・・・・・反応室、６
・・・・・・ガイドブレード、１２・・・・・・仕切壁
、１４・・・・・・仕切板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 粉状物質を反応室内に流入させ且つこの粉状物質の
   流れの廻りに反応ガス流を均一に導入させることにより
   粉状物質と反応ガスとの方向付けされまた制御された懸
   濁噴流を形成する方法に於て、初期の分割されていない
   反応ガス流が部分壁によって少なくとも３つの部分流に
   分割され、且つその部分流の方向は反応室の中心軸にほ
   は゛平行となるよう３０−９０°に偏向され、この部分
   流の速度は流れの断面積を減らすか若しくは一定に維持
   することによって同時に増大し若しくは不変とされ、斯
   くして形成された部分反応ガス流は再び合流され環状流
   として前記反応室内に流入され、この環状流と同軸的に
   供給される粉状物質の流れを包囲し、これにより上記粉
   状物質は反応室に流入されて上記反応ガス流と効率的に
   混合され、この反応ガス流は乱流ではあるが反応にとっ
   て必要な制御された懸濁噴流を生起する為全体としては
   回転していないことを特徴とする粉状物質と反応ガスと
   の方向付けされた懸濁噴流の形成方法。 ２ 上記部分流の方向が９０°に偏向されることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 反応室の中心軸にほは゛平行となるよう予め偏向さ
   れた反応ガスの部分流が更に各々最少の２つの独立した
   部分流に分割され、それがその内部から供給される粉状
   物質流を包囲する連続した環状流を相互に形成すること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項もしくは第２項いず
   れか記載の方法。 ４ 反応室５の上部に位置する垂直の粉状物質供給用パ
   イプ２の廻りに反応ガスを導入し、この反応ガスと粉状
   物質とを反応室５に流入させることによって、粉状物質
   と反応ガスとの方向付けされた懸濁噴流を形成させる為
   の装置であって、初期の連続した反応ガスの供給チャン
   ネルがその流束の中心点を起点として放射状に隔設され
   た各仕切壁１２により少なくとも３つの部分チャンネル
   に分割され、これらの部分チャンネルは粉状物質供給用
   パイプ２を包囲する如く反応室５の中心軸にほは゛平行
   となるよう３０−９０°偏向され且つその中央に配され
   ると共に流れの方向に対しその断面積が減少するか一定
   を維持することを特徴とする粉状物質と反応ガスとの方
   向付けされた懸濁噴流を形成する為の装置。 ５ 仕切壁１２がガイドブレードであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第４項記載の装置。 ６ 反応室の中心軸にほぼ平行な部分−チャンネルの各
   部分は少くとも１つの仕切板１４を有し、該仕切板は粉
   状物質供給用パイプ２から放射状に配位し且つ各部分チ
   ャンネルをほぼ等しい部分に分割することを特徴とする
   特許請求の範囲第４項もしくは第５項いずれか記載の装
   置。