JPS5948783B2 - 無機質化粧体の製造方法 - Google Patents

無機質化粧体の製造方法

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JPS5948783B2
JPS5948783B2 JP3541378A JP3541378A JPS5948783B2 JP S5948783 B2 JPS5948783 B2 JP S5948783B2 JP 3541378 A JP3541378 A JP 3541378A JP 3541378 A JP3541378 A JP 3541378A JP S5948783 B2 JPS5948783 B2 JP S5948783B2
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JP
Japan
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microns
thickness
photocurable composition
film
weight
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JP3541378A
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靖司 小松
勝久 森田
康 諸橋
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Highpolymer Co Ltd
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Publication date
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  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、石こう、セメント、天然石材およびテラソー
等の無機質材料を基材とする無機質化粧体の製造方法に
関し、さらに詳しくは、分子量が200〜10000で
、かつ1分子中に少なくとも1個のアクリロイル基また
はメタクリロイル基を有する不飽和アクリル系オリゴマ
−に、0.1〜10重量%の光増感剤を配合してなる光
硬化性組成物を、該組成物が含浸可能である無機質基材
上に、表面の組成物層の厚みが500ミクロン以下に塗
布し、次いでその塗面を厚さが70ミクロン未満のプラ
スチックフィルムで覆つた後、光エネルギーを照射して
硬化せしめることを特徴とする無機質化粧体の製造方法
に関する。
一般に液状物が含浸可能で吸水性の表面を有する無機質
基材は、水の移動により基材表面に異物が付着し易く、
また可溶性の物質は溶剤と共に基材内部に浸透し、基材
を汚染するので清掃が不可能となることが多い。
特に水和硬化性無機質基材は、水分の移動により表面に
エフロレツセンスや芒硝を析出し、甚だしく表面を汚損
する。また、吸湿した基材表面には、かびが発生して汚
染したり、さらに浸透した水分が寒冷時に凍結膨張して
基材表面が破損する等の難点を有する。この無機質基材
の表面性状を改良するために、従来から種々な方法が提
案され、或いは試みられている。
たとえば、液状物が含浸可能で吸水性の表面を有する無
機質基材に、リシン塗料、エマルジョン塗料、繊維壁塗
料または風乾型のアルキッド塗料を塗布し、基材の表面
性状を改良する方法が知られている。しかし、これらの
方法は、基材の外観を美化することに焦点がしぽられて
おり、前述した基材表面の性状改良は充分でない。また
、無機質基材に、ラジカル発生剤を含むモノマー、ある
いはプレポリマーを含浸した後、常温または加熱により
硬化させ、基材の物性、外観を向上させる方法も知られ
ている。しかし、この方法は、硬化に長時間を要するば
かりでなく、研磨仕上げを必要とするため、生産性に問
題がある。さらに、無機質基材に、α・β一不飽和多塩
基酸を1成分として必ず含み、任意の多塩基酸を併用す
るか、あるいは併用せずに、多価アルコールとエステル
化して得られる不飽和ポリエステルを共重合可能なモノ
マーに溶解して得られる混合物に、光増感剤を配合して
なる組成物を含浸した後、光エネルギー、特に紫外線を
照射して硬化させることも知られている。しかし、この
方法は、モノマー臭があること、硬化に長時間を要する
こと、ワツクスを添加する必要があるため、硬化条件に
よつてはワツクスが表面に浮く前に硬化が起つて表面に
ベタツキが残り、硬化条件の選定が困難であること、ワ
ツクスを添加しない、いわゆるノンワツクス型は表面硬
度が不充分であること、等の難点を有する。本発明者ら
は、液状物が含浸可能で吸水性の表面を有する無機質基
材表面の性状を改良すべく、種々検討した結果、無機質
基材上に、分子量が200〜10000で、かつ1分子
中に少なくとも1個のアクリロイル基またはメタクリロ
イル基を有する不飽和アクリル系オリゴマ一に、0,1
〜10重量?の光増感剤を配合してなる光硬化性組成物
を、表面の組成物層の厚みが500ミクロン以下に塗布
し、次いで、その塗面を厚さが70ミクロン未満のプラ
スチツクフイルムで覆つた後、光エネルギーを照射して
硬化してなる無機質化粧体が、従来不可能であつた低エ
ネルギー照射においても短時間で充分に硬化し、かつ不
透水性で、ネエフロレツセンス、芒硝の析出とかびの発
生を防止し、表面硬度が大きく、外観の性状等を著しく
改善することを見出し、本発明に到つた。
本発明において使用される分子量200〜10000で
、かつ1分子中に少なくとも1個のアクリロイル基また
はメタクリロイル基を有する不飽和アクリル系オリゴマ
一としては、次の種類のものがあげられる。
囚 分子中にスピラン構造を有し、不飽和結合を少なく
とも1個有する不飽和スピロアセタール樹脂これは不飽
和スピロアセタールと同一分子中に水酸基とアクリロイ
ル基またはメタクリロイル基を有する不飽和アルコール
とを、飽和多価アルコールまたはヒドロキシポリエステ
ル等で変性するか、あるいは変性せずに反応して得られ
るものであり、代表的な例としては、次式で示されるジ
アリリデンペンタエリスリツトと2−ヒドロキシエチル
アクリレートとの反応生成物があげられる。
圓 ビニルエステル樹脂 ビニルエステル樹脂の例としては、1分子中にエポキシ
基を少なくとも2個有するエポキシ樹脂とアクリル酸ま
たはメタクリル酸との反応生成物があげられる。
エポキシ樹脂としては、ビスフエノールージグリシジル
エーテル型、ノボラツクーポリグリシジルエーテル型、
グリシジルエステル型、過酢酸型があげられる。代表的
な例としては、次式のものがあげられる。0不飽和アク
リル−ウレタン樹脂 この樹脂には種々のものがあるが、一般的には、アクリ
ロイル基とヒドロキシル基とを同一分子中に含む不飽和
アルコールを、ポリオール、ポリエーテルまたはヒドロ
キシポリエステルを併用するか、あるいは併用せずに、
ジイソシアナートと反応させて得られるものであり、代
表的な例としては、次式のものがあげられる。
(自)不飽和ポリエステル−アクリレート樹脂グリシジ
ルアクリレートまたはメタクリレートのごとき不飽和エ
ポキシ化合物と多塩基酸無水物との反応によつて合成さ
れるもの、または多価アルコール、多塩基酸またはその
酸無水物鱈アクリル酸またはメタクリル酸からなる系を
酸性触媒下に直接エステル化して合成されるものであり
、代表的な例としては、次式のものがあげられる。上記
、不飽和アクリル系オリゴマ一は、1分子中に少なくと
も1個のアクリロイル基またはメタクリロイル基を有す
るものであるが、1分子中に少なくとも2個のアクリロ
イル基またはメタクリロイル基を有するオリゴマ一を主
成分として含有していることが好ましい。
また、不飽和アクリル系オリゴマ一の分子量は、200
〜100001好ましくは300〜3000であり、分
子量が200以下では、皮膜形成性が十分でないばかり
でなく、オリゴマ一が基材に浸透し易くなるので好まし
くない。一方、分子量が10000以上では、粘度が高
くなり過ぎて塗装性が悪くなるばかりでなく、基材との
接着性も向上しないので好ましくない。不飽和アクリル
系オリゴマ一は、1種または2種以上混合して使用して
もよく、また、必要に応じて、これらオリゴマ一と反応
性の単量体、例えば、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリツトトリアクリレート、ジペンタエリスリ
トールポリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレ
ート等の官能性単量体を配合して使用してもよい。
本発明において使用される光増感剤としては、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、アセトフエノン、ベンゾフエノン、アント
ラキノン、ベンゾフエノンとアミンとの併用等、一般に
用いられている光増感剤を任意に使用できる。
光増感剤の配合量は、不飽和アクリル系オリゴマ一の重
量を基準にして0.1〜10重量%である。光増感剤の
配合量が、0.1重量?以下では、硬化するのに長時間
を要するので好ましくなく、一方、光増感剤の配合量が
10重量%以上では、経済的に好ましくないばかりか、
硬化性にも特別顕著な効果が認められない。本発明にお
いては、用途に応じて不飽和アクリル系オリゴマ一と光
増感剤とからなる光硬化性組成物に、光硬化性を損なわ
ない範囲内で充填剤、着色剤を併用することができる。
光硬化性組成物を該組成物を含浸可能な無機質基材上に
塗布するには、ロール、スプレー、ヘラ付け、刷毛およ
びフローコーター等いずれの方法で行なつてもよい。
光硬化性組成物の塗布は、1回または2回以上行なつて
もよいが、通常は生産性と経済性の点からも1回塗布が
好ましく、1回塗布のみでも無機質基材表面層の補強、
もろさ改良、吸い込み防止、汚染防止、エフロレツセン
ス防止の目的からは充分である。基材表面の外観と耐候
性向上を目的とする場合には、2回塗布の方がより好ま
しい。この場合は、下塗りと上塗りで光硬化性組成物の
タイプを任意に選択でき、また、2回塗布では、使用す
る基材のタイプ、製品の使用環境等に応じ、1回目塗布
の光硬化性組成物のタイプと2回目塗布の光硬化性組成
物のタイプを変えることにより、一層良好な製品が得ら
れる。本発明において使用される無機質基材は、光硬化
性組成物が含浸可能で、かつ吸水性のものであれば、板
状およびその他いずれの形状でもよい。代表的な例とし
ては、セメント製品、石こう製品、天然石材製品および
テラソー製品等があげられる。組成物層の厚みは、50
0ミクロン以下、好ましくは50〜400ミクロンであ
る。組成物層の厚みが極端に薄すぎると本発明の効果を
顕著に発揮し得ず、一方、組成物層の厚みが500ミク
ロン以上では、その効果において実質的な差がないばか
りか経済性の点からも好ましくない。本発明において使
用されるプラスチツクフイルムとしては、厚さが70ミ
クロン未満、好ましくは10〜60ミクロンであつて、
高圧水銀灯、低圧水銀灯および太陽光等の光エネルギー
を透過し、光硬化性組成物が硬化後、容易に組成物層か
ら離型するものであれば、いずれでも使用することが可
能であるが、光エネルギー源として高圧水銀灯を使用す
る場合は、ポリエチレンテレフタレートフイルムの使用
が好ましく、また光エネルギー源として低圧水銀灯や太
陽光を使用する場合は、ポリプロピレンフイルム、ポリ
エチレンフイルム、ポリ塩化ビニルフイルム、ポリエチ
レンテレフタレートフイルム、ポリビニルアルコールフ
イルム等の使用が好ましく、場合によつてはセロフアン
を使用してもよい。
プラスチツクフイルムの厚さが70ミクロン以上では、
本発明の顕著な効果が得られないばかりでなく、経済性
の点からも好ましくない。
本発明による無機質化粧体は、不透水性で、エフロレツ
センス、芒硝の析出およびかびの発生を防止し、表面硬
度、耐熱性、耐汚染性、耐薬品性耐久性、耐寒性のすぐ
れた塗面を有する。
また、光硬化性組成物に、顔料や染料等の着色剤を配合
すれば、各種の模様や色調を有する化粧体が得られる。
以下、実絶例によつて本発明を具体的に示すが、これに
よつて本発明の範囲が限定されるものではない。
実施例 1. 11の三ツロフラスコに、ジアリリデンペンタエリスリ
ツト2129、2−ヒドロキシエチルアクリレート23
29、パラトルエンスルホン酸1.29、ベンゾキノン
0.19、を仕込み、85〜90℃に4時間加熱撹拌す
ると、赤外分析の結果、水酸基の約90%が反応した。
生成樹脂は分子中にスピラン構造を有するスピロアセタ
ール樹脂でカードナー色数は2−3、分子量約500、
粘度は44ポイズであつた。生成樹脂100重量部に、
ベンゾインイソプロピルエーテル1重量部を加え光硬化
性組成物を製造した。
縦45(1−JモV!、横60cm1厚さ1.5C:!!
Lのインド砂岩板上に前記光硬化性組成物をフローコー
ターで300ミクロン厚になるように塗布した後、厚さ
が20ミクロンのポリプロピレンフイルムで塗面を均一
に覆い、端部をブラツクテープで固定した。
これを8月下旬のほぼ正午の太陽光に30分間さらした
ところ、塗面が完全に硬化し、その表面硬度は2Hであ
つた。しかし、塗面をポリプロピレンフイルムで覆わな
いものは、同一条件下では硬化しなかつた。実抱例 2 滴下ロード、温度計、還流コンデンサーを付した11の
三ツロフラスコに、エピコート827を3509、アク
リル酸1449、ジエチルアミン塩酸塩2f!、パラベ
ンゾキノン0.159を仕込み、130〜135℃で3
時間加熱撹拌すると、酸価はほとんどOとなつた。
生成物の分子量は約540、粘度は約1000ポイズで
あつた。
次いで、トリメチロールプロパントリアクリレート30
0g.ヘキサンジオールジアクリレート1501を加え
ビニルエステル樹脂を製造した。得られたビニルエステ
ル樹脂は、カードナー色数1〜2、粘度6.4ポイズで
あつた。ビニルエステル樹脂100重量部にベンゾフエ
ノン2重量部、ジメチルアミノエタノール2重量部を添
加して光硬化性組成物を製造した。表面に大理石模様を
転写印刷した縦45CTIL.横60儂、厚さ2儂の石
こう板上に前記光硬化性組成物をフローコーターを用い
て厚さが150ミクロン程度になるように塗布し、直ち
に塗面を微細な凹凸を有する厚さが20ミクロンのポリ
エチレンテレフタレートフイルムで覆い、フイルム上1
0(177!のところから、100Wの殺菌燈3個で1
5分間照射した。
フイルムを取去つた後の硬化塗膜の硬度は2Hであつて
、天然石と外観的に区別がつかない位であつた。
然るに、フイルムで覆わない場合は、同一照射条件下で
は硬化しなかつた。実癩例 3. 滴下ロード、温度計、還流コンデンサーを付した11の
四ツロフラスコに、アクリル酸144y,無水フタル酸
299、トリフエニルホスフイン0.5y,ヒドロキノ
ン0.089を仕込み、温度95〜100ドCに昇温さ
せながらプロピレンオキシド155yを滴下反応させた
滴下終了後、同温度で合計反応時間が6時間になるよう
に維持した。次いで、フラスコを40〜 50mmHy
で30分減圧すると、酸価は4、9となる。
これにトリメチロールプロパントリアクリレート190
yを加え均一に溶解した後、温度60゜Cでヘキサメチ
レンジイソシアナート135yを滴下反応させた。滴下
終了後、1時間同温度で反応を続け、さらに、ヘキサン
ジオールジアクリレート100gを追加し、不飽和アク
リル−ウレタン樹脂を製造した。
この樹脂のカードナー色数は4〜5、粘度は約20ポイ
ズ、分子量は800〜2000であつた。不飽和アクリ
ル−ウレタン樹脂100重量部に、ペンゾインイソブチ
ルエーテル2重量部を添加して光硬化性組成物を製造し
た。粗研磨のみで止めた縦45Cr1L,横60cm,
厚さ2C!ILのセメントを基材とするテラソーの面上
に、ロールコーターにより光硬化性組成物を200ミク
ロン厚になるように塗布した後、直ちに12kWの出力
をもつランプ3本を有する紫外線照射装置により60秒
間で硬化させた。
次いで、1回目塗布の光硬化性組成物と同一物をさらに
200ミクロン厚に再塗布した後、厚さが20ミクロン
のポリエチレンテレフタレートフイルムで表面を覆つて
同一の装置にかけたところ、硬化に17秒要し、得られ
た塗膜の硬度は2H〜3Hであつた。
ポリエチレンテレフタレートフイルムで覆わない場合で
は、硬化に約35秒要し、得られた硬度はH〜2Hであ
つた。
実施例 4 エチレングリコール621,ヘキサヒドロ無水フタル酸
3209を滴下ロード、温度計、還流コンデンサーを付
した11の四ツカフラスコに仕込み、140−150′
Cで1時間加熱すると水酸価が10以下となつた。
この段階でヘキサンジオールジアクリレート160y,
グリシジルメタクリレート2849、ヒドロキノン0.
4g、トリエチルアミン4!lを仕込み、100〜11
0トCに5時間加熱すると酸価は11.4となつた。生
成物の分子量は約700であつた。次いで、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート200yを追加し、不飽
和ポリエステルアクリレート樹脂を製造した。得られた
不飽和ポリエステルアクリレート樹脂は、黄褐色の液状
物でその粘度は約30ポイズであつた。この不飽和ポリ
エステルアクリレート樹脂100重量部にベンゾフエノ
ン2重量部加え光硬化性組成物とした。表面を平滑に研
磨した大谷石上に、上記光硬化性組成物をロールコータ
ーを用いて200ミクロン厚に塗布した後、厚さが20
ミクロンのポリエチレンテレフタレートフイルムで半分
だけ覆つた。
これを出力1kWの殺菌用水銀燈下20CTILで照射
したところ、フイルムで覆つた部分は20分で硬化し、
その表面硬度はH−Fであつたが、フイルムで覆わない
部分は40分後でも硬化しなかつた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 分子量が200〜10000で、かつ1分子中に少
    なくとも1個のアクリロイル基またはメタクリロイル基
    を有する不飽和アクリル系オリゴマーに、0.1〜10
    重量%の光増感剤を配合してなる光硬化性組成物を、該
    組成物が含浸可能である無機質基材上に、表面の組成物
    層の厚みが500ミクロン以下に塗布し、次いでその塗
    面を厚さが70ミクロン未満のプラスチックフィルムで
    覆つた後、光エネルギーを照射して硬化せしめることを
    特徴とする無機質化粧体の製造方法。
JP3541378A 1978-03-29 1978-03-29 無機質化粧体の製造方法 Expired JPS5948783B2 (ja)

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JPS5973484A (ja) * 1982-10-19 1984-04-25 昭和高分子株式会社 低発煙性化粧材
JPS5983987A (ja) * 1982-10-29 1984-05-15 石浜 恵喜男 陶貴石
JP2609897B2 (ja) * 1988-03-25 1997-05-14 ワシ中越ボード株式会社 無機質板状体の平滑下地調整法
JP2001328881A (ja) * 2000-05-17 2001-11-27 Inax Corp 陶磁器,人工石材等の補修方法

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