JPH0641213A - 光硬化性尿素含有組成物からテキスチャー被覆を得るための方法 - Google Patents

光硬化性尿素含有組成物からテキスチャー被覆を得るための方法

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JPH0641213A
JPH0641213A JP2419040A JP41904090A JPH0641213A JP H0641213 A JPH0641213 A JP H0641213A JP 2419040 A JP2419040 A JP 2419040A JP 41904090 A JP41904090 A JP 41904090A JP H0641213 A JPH0641213 A JP H0641213A
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JP2419040A
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Alison Darnell Beckett
アリソン・ダーネル・ベケット
Joseph V Koleske
ジョゼフ・ビクター・コレスケ
Richard M Gerkin
リチャード・マイケル・ジャーキン
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Union Carbide Chemicals and Plastics Technology LLC
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光硬化性組成物からテキスチャー被覆を得る
方法を提供する。 【構成】 エチレン式不飽和化合物、芳香族ケトン光増
感剤及び特定の多機能性尿素化合物から光硬化性組成物
を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般には、光硬化性尿
素含有組成物からテキスチャー被覆を得るための方法に
関する。特に、本発明は、芳香族ケトン光増感剤と多官
能性尿素化合物との組み合わせを使用したエチレン式不
飽和化合物の光重合法に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合法は、特に薄フイルム又は層を短
時間で硬化させる必要があるような場合にかなりの産業
上の重要な面を達成していることが知られている。この
ような場合の典型的なものは、透明被覆又はオーバープ
リントワニス、着色被覆、インキ、接着剤、印刷版等の
硬化である。かゝる製品は、様々の工業的な最終用途に
おいて用いられている。主な興味はかような薄フイルム
技術に向けられているけれども厚フイルム又は厚形材照
射硬化技術の重要性が増々ふえている。厚形材技術は、
シーラント、接着剤、造形部材、印刷版、ガラス繊維−
又は炭素/グラファイト繊維補強製品等の分野において
重要である。
【0003】また、エチレン式不飽和化合物の光重合に
おいてベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体等の如き
芳香族ケトンを光増感剤として使用することも斯界にお
いて知られている。しかしながら、ベンゾフェノンの如
きいくらかの光増感剤は、単独で使用すると機能せず、
そして相乗剤である第二化合物の存在を必要とする。加
えて、かゝる芳香族ケトンと相乗剤との併用によって、
かゝる光重合開始剤を単独で使用する場合よりも著しく
速い重合速度を得ることができる。相乗剤は、通常、低
分子量第三アミン、尿素又はアミドである。
【0004】一般に用いられる光増感剤と相乗剤との組
み合せとしては、1種以上の芳香族ケトン(この1つは
ベンゾフェノン、イソプロピルチオキサントン等であ
る)と、ジメチルエタノールアミン、トリエチルアミ
ン、ビス(4,4′−ジメチルアミノ)ベンゾフェノン
(ミヒラ−ケトン)等の如き低分子量第三アミンとの混
合物が挙げられる。光増感剤と相乗剤との組み合わせ
は、光重合開始剤系又は光重合開始剤組み合わせと称さ
れるかゝる組み合わせは、α−水素を有しそして励起錯
体を迅速に形成するアミン又は他の適当な低分子量窒素
含有化合物と相互作用する芳香族ケトンによって紫外線
を吸収させるところの分子間水素吸収機構によって機能
すると言われる。この錯体(時には“エピプレックス
(exiplex)”と称される)は、アミンから水素
原子を移動させてアミンを遊離基開始剤分子(これはア
クリレート及び他の適当なエチレン式不飽和化合物の迅
速な重合を引き起こす)にする転移反応を受ける。もし
単独で使用すると、アミン又は他の窒素含有化合物は重
合をもたらさない。この機構は真実であると考えられる
けれども、本発明は、これ又は他の記載される機構によ
って限定されない。
【0005】テキスチャー仕上は、織成又は編成外観に
よって特徴づけられしかして表面単位当りの織目又はス
トランドの数によって特徴づけられるものの視覚的若し
くは触角的な表面又は外観である。テキスチャー仕上の
性状は、粗目、細目又はこれらの中間になり得る。ま
た、テキスチャー仕上は、優れた光学的透明度、半透明
度又は不透明度を有することができる。一般的な面で
は、それは、平滑に見える表面よりもむしろ粗く見える
表面を意味する。テキスチャー被覆、有用で且つ装飾的
である。これらは、事務機、管理灯、発光ダイオード及
び他の最終用途の被覆を含めて様な面で用いることがで
きる無光沢の表面を提供することができる。加えて、テ
キスチャー被覆は、表面の汚れ及び僅かな表面欠陥を隠
す傾向がある。
【0006】また、基体被覆に対して各種の仕上が望ま
しいことも知られている。これらの仕上としては、つや
消し、つや出し、ちりめん、ハンマートーン、又はこれ
らの仕上の中間的なものが挙げられる。光硬化業界で
は、テキスチャーの形成を行なうのは困難でありそして
テキスチャー紫外線硬化被覆を形成するための特殊な方
法に技術開発がなされてきた。一般的な面では、この技
術は、表面の制御、硬化環境、光源の種類並びに照射の
強度及び数に関係する。全結果は、細工することができ
るがしかし複雑な方法が見い出されたことである。
【0007】米国特許第4,421,784号に従え
ば、特定の処方物又はつや消剤の如き添加剤を使用し、
紫外線への暴露間の時間間隔を許容し、表面を除いた被
覆の全部を硬化させ次いで未硬化表面に空気中で表面が
完全硬化するまで紫外線を施こし、紫外線を使用して先
ず空気中で外部及び内部の部分硬化を得そして硬化を完
結させ、空気中で表面を除いた被覆の全部を硬化させ次
いで不活性雰囲気中において表面に照射を施こし、そし
て先ず被覆の内面を硬化させることによることを含めて
様々な方法でテキスチャー仕上が達成されている。
【0008】米国特許第4,421,784号は、公知
法の改良であり、そして基体に少なくとも50センチポ
イズの粘度を持つ紫外線硬化性処方物を適用し、そして
その被覆基体を不活性雰囲気中において180〜275
nmの波長を持つ紫外線に被覆表面上にテキスチャーの
形成を開始させるのに十分な時間暴露することによって
被覆の粘度を上昇させることを包含する。暴露後、被覆
基体は、紫外線を欠いた空間に表面がテキスチャーにな
るのに十分な時間維持される。次いで、表面がテクスチ
ャーの被覆は、不活性又は空気雰囲気中において約18
0〜400nmの波長を持つ紫外線に被覆が硬化される
まで暴露される。
【0009】米国特許第4,483,884号は、硬化
プロセス間に紫外線に対して非反射性及び反射性の暗色
及び淡色バックグラウンドを使用するのを可能にすると
いう点で上記の米国特許第4,421,784号の改良
である。
【0010】米国特許第4,485,123号は、硬化
プロセス間に暗色及び淡色赤外吸収剤及び反射性バック
グラウンドを使用することを可能にするという点で上記
米国特許第4,421,784号の他の改良である。
【0011】照射硬化性被覆をテキスチャーにするため
の現在知られた方法は多くの欠点を有している。これら
は、特別な低波長の紫外線源を収容する硬化照射用予備
室、紫外線が本質上全く存在しない暗所又はトンネル、
及び硬化を完結させるために被覆に全スペクトルの紫外
線を施こすところの第三領域を備えた特別設計型の被覆
装置の使用を必要とする。加えて、予備室において不活
性雰囲気を使用することが必要である。この方法での改
良は、テキスチャー形成プロセス間において表面又は基
体に対して反射性又は非反射性の特別な暗色又は淡色紫
外線又は赤外バックグラウンドを使用することを要件と
する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、複雑
な方法において一連の特殊な紫外線ランプを使用せずに
中圧水銀灯から得られる如き広範囲の紫外線に暴露した
ときにテキスチャーになる被覆及びインキ組成物を提供
することである。
【0013】本発明の他の目的は、テキスチャー形成プ
ロセス又は紫外線暴露間に不活性雰囲気又は特殊紫外線
又は赤外線バックグラウンドの使用を必要としない被覆
組成物を提供することである。
【0014】本発明の他の目的は、所定の処方物中に用
いられるエチレン式不飽和アクリレート(このアクリレ
ートは、皮膚や目の刺激物になることが知られておりそ
して他の望ましくない健康上の特性を有する場合があ
る)の量を有意に減少させることである。
【0015】本発明の更に他の目的は、最終の硬化フイ
ルム又は製品において系の重合収縮率の低下かくして向
上した固有接着力を提供することである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は、光硬化性エチ
レン式不飽和処方物中において芳香族ケトン光増感剤相
乗剤又は共光増感剤として多官能性尿素化合物を使用す
ることによってテキスチャー被覆又はインキを製造する
方法を提供するものである。こゝに本発明において、こ
れらの物質は、先に記載した不利益を示さない簡単な方
法によって優れたテキスチャー面をもたらすことが分か
った。
【0017】本発明の尿素化合物は、分子間水素抽出機
構によって機能するベンゾフェノン、クロルチオキサン
トン等の如き芳香族ケトン光増感剤と共に使用されるの
が好ましいけれども、他の光重合開始剤を用いることも
できる。加えて、芳香族ケトン光増感剤は、単独で、互
いに組み合わせて、又は尿素化合物及び光重合性エチレ
ン式不飽和化合物と併用したときにホモリシス分解機構
によって機能する光重合開始剤と組み合わせて用いるこ
とができる。この組成物は、尿素化合物の分子量/当量
に、またテキスチャー形成の程度を含めたテキスチャー
製品の所望の性能特性に応じた様々な量の尿素化合物を
含有することができる。
【0018】本発明に従えば、一般式(I)
【化1】 [式中、Rは、ツエレウィチノフ活性水素原子を含有す
る化合物に基づく開始剤基であり、そして水酸化カリウ
ム、ヘキサシアノコバルト酸亜鉛等の如き適当な触媒と
共に用いたときにアルキレンオキシドで重合を開始する
ことができる]の尿素を用いるテキスチャー被覆を形成
する方法が提供される。当業者には、ポリオールを作る
反応プロセス間に潜在的活性水素原子の全部が活性状態
になる必要はなくそしてヒドロキシルの如き出発官能基
のいくらかは開始剤分子にとどまる可能性があることが
理解されよう。
【0019】ツエレウィチノフ活性水素原子を含有する
かゝる化合物の例としては、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、水、1,4−ブタンジオール、ジエ
チレングリコール等の如き二官能性化合物、トリメチロ
ールプロパン、グリセロール、トリメチロールエタン等
の如き三官能性化合物、並びにペンタエリスリトール、
ソルビトール、しよ糖、アンモニア、エチレンジアミ
ン、1,3−ジアミノプロパン、1,6−ヘキサンジア
ミン、フェニレンジアミン及びトルエンジアミンの異性
体、4,4′−ジフェニルメタンジアミン及びその異性
体、ジエタノールアミン、エタノールアミン、ジメチル
エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、トリイソプロパノールアミン及びプ
ロピレンジスルフィドの如き他の高級官能性化合物が挙
げられるが、これらに限定されるものではない。
【0020】アルキレンオキシドの重合を開始させるの
に好適な化合物の追加的な例は、斯界において知られた
種々のオリゴマーポリオールである。これらの例として
は、ポリ(1,4−ブチレンオキシド)ポリエーテル並
びにヒドロキシル−及びアミン停止ポリブタジェンが挙
げられる。アルキレンオキシドの重合を開始させるのに
ポリオール(又は他のオリゴマー)を用いるときには、
それらの分子量は、400〜3,000(オリゴマーか
ら重合体)の範囲内であってよい。上記の如き慣用開始
剤(即ち、グリセリン、水等)を用いるときには、それ
らの分子量は約18から約400までの範囲内であって
よい。好ましくは、Rは2〜約6個の炭素原子を含有す
【0021】Rの例としては次の(1)〜(4)の如き
開始剤基が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。
【0022】(1)もしRが線状でそしてグリセロール
からの如き3個の炭素原子を有するならば、それは、次
の構造
【化8】 を有する。
【0023】(2)もしRが分枝状でそしてトリメチロ
ールプロパンからの如き6つの炭素原子を有するなら
ば、それは、次の構造
【化9】 を有する。
【0024】(3)もしRが分枝状でそしてペンタエリ
スリトールからの如き5個の炭素原子を有するならば、
またもし活性水素のうちの3個だけが除去されたなら
ば、それは、次の構造
【化10】 を有する。
【0025】(4)もしRが線状且つ二官能性でそして
水によるテトラヒドロフランの開始及び重合からの如き
(テトラメチレンオキシド)ポリオール又はポリ(1,
4−ブチレンオキシド)から誘導されるならば、それ
は、次の構造
【化11】 [式中、dは0〜50の範囲内であってよく、好ましい
範囲は4〜35である]を有する。テトラヒドロフラン
の重合によって得られるヒドロキシル停止ポリ(テトラ
メチレンオキシド)化合物は、クェーカー・ケミカル・
カンパニー及びデュポン・カンパニーによって製造され
る“Polymeg”(商標名)及び“Teretha
ne”(商標名)として市場で入手可能であるが、この
場合の開始剤は知られていない。
【0026】本発明において使用可能なアルキレンオキ
シド及び他の単量体は斯界において周知のものである。
これらの例としては、エチレンオキシド、プロピレンオ
キシド、α−オレフィンオキシド例えば1,2−エポキ
シブタン及び1,2−エポキシオクタデカン、オキセタ
ン及びテトラヒドロフランが挙げられる。
【0027】“T”は、式
【化2】 のヒドロキシ含有基を表わす。
【0028】“P”は、式
【化3】 の第一アミン含有基を表わす。
【0029】“S”は、式
【化4】 の第二アミン含有基を表わす。
【0030】“T”は、式
【化5】 の第四アミン含有基を表わす。
【0031】上記式において、(1)記号“a”は尿素
のエチレンオキシド含量を規定し、0〜175の値の範
囲内であってよく、好ましい範囲は0〜90であり、そ
して“b”又は“c”が0でないときは、最とも好まし
い範囲は0〜50であり、(2)記号“b”は尿素のプ
ロピレンオキシド含量を規定し、0〜175の値の範囲
内であってよく、好ましい範囲は0〜115であり、そ
して最とも好ましい範囲は3〜98であり、 し、0〜30の範囲内であってよく、好ましい範囲は0
〜15であり、そして最とも好ましい範囲は0〜2であ
り、(4)記号“n”は1〜3の整数好ましくは1又は
3であり、(5)記号“y”は0〜uであり、そして
(6)記号“u”は、相対尿素含量であって、0.3〜
1.0そして最とも好ましくは0.4〜1.0の範囲内
であってよい。
【0032】生成物の基幹には、任意の逐次態様即ちラ
ンダム又はブロック序列でエチレンオキシド、プロピレ
ンオキシド、α−オレフィンオキシド及びテトラメチレ
ンオキシドを任意の形状又は配座において組み込むこと
ができる。
【0033】R′は、尿素の製造に用いるα−オレフィ
ンオキシドに応じて2〜18個の炭素原子を含有するア
ルキル基である。R′が18個までの炭素原子を含有す
るときには、R′は2個の炭素原子を含有するのが最と
も好ましい。
【0034】R″は水素又は1〜18個までの炭素原子
を含有するアルキル基であるが、R″は水素又は2個ま
での炭素原子を含有するアルキル基であるのが好ましく
そしてR″は水素又はメチル基であるのが最とも好まし
い。
【0035】R′′′及びR′′′′は、それぞれ、2
〜12個好ましくは2〜6個の炭素原子を含有するアル
キル基である。
【0036】基Iは、イソシアネートに依存して同種又
は異種であってよく、そして式
【化6】 [式中、Rは水素、1〜10個の炭素原子のアルキ
ル、アリール、置換アリールアリル、アラルキル、シク
ロアルキル、フェニル、置換フェニルである]によって
表わされる。
【0037】Pは、アミン反応体の第一アミノ化部分の
モル分率であって、0〜1.0好ましくは0〜0.75
未満である。
【0038】Sは、アミン反応体の第二アミノ化部分の
モル分率であって、0〜1.0好ましくは0.25〜
1.0である。
【0039】tは、アミン反応体の第三アミノ化部分の
モル分率であって、0〜0.75好ましくは0〜0.5
である。
【0040】wは、中間化合物のツエレウィチノフ活性
水素原子のアミノ化%であって、一般には30〜100
%好ましくは70%以上である。
【0041】(zw)は、zとwとの積である。
【0042】p、s及びtの合計は1.0でなければな
らない。
【0043】記号“z”は、開始剤のツエレウィチノフ
活性水素の数に相当する整数であって、少なくとも2で
なければならない。記号“z”は、好ましくは2〜6で
ある。
【0044】上記のパラメーターは官能価が2〜6であ
るときに約100〜10,000又はそれ以上の当量を
持つアミンを記述しているが、本発明の実施には600
〜10,000又はそれ以上の当量を使用するのが好ま
しい。
【0045】本発明において有用な尿素は、式
【化12】 の如き適当なポリオールをR′′′−NH又は
R′′′−N(H)−R′′′′の如きアミンで直接接
触アミノ化することにって製造される。かゝる化合物の
製造操作に詳細については、1988年3月31日付け
出願の米国特許願第176,222号及び米国特許第
3,654,370号に見い出すことができる。次い
で、このアミン停止ポリエーテルは、有用な尿素を得る
ために二官能性イソシアネートと反応される。アミノ化
ポリオールから尿素を製造するのに用いることができる
二官能性イソシアネートの例は、m−イソプロペニル−
α,α−ジメチルベンジルイソシアネート、イソシアナ
トエチルメタクリレート、p−イソプロペニル−α,α
−ジメチルベンジルイソシアネート、2−イソシアナト
エチルアクリレート、3−イソシアナトプロピルトリエ
トキシシラン、ナフタリンイソシアネート等である。
【0046】芳香族ケトン光増感剤は、光増感剤として
作用するような芳香族ケトンであって、ケトン性基が、
芳香族又は不飽和環に存在する炭素に直接結合したもの
である。かゝる化合物の例は、ベンゾフェノン及びベン
ゾフェノン誘導体、キサンテン−9−オン、チオキサン
トン、2−クロルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サントン、2,3−ジエチルチオキサントン、ナトリウ
ム−4−(スルホメチル)ベンジル、(4−ベンゾイル
ベンシル)トリメチルアンモニウムクロリド、ナトリウ
ム−4−(スルホメチル)ベンゾフェノン、フルオレノ
ン、ベンジル、ビス(4,4′−ジメチルアミノ)ベン
ゾフェノン、4−クロルベンゾフェノン、4−フェニル
ベンゾフェノン、4−p−トリルチオベンゾフェノン、
2−メチルアントラキノン、ジベゾスベロン、ビアセチ
ル、ドデシルチオキサンテノン、9,10−アントラキ
ノン、樟脳キノン、1,3,5−トリアセチルベンゼ
ン、3−ケトコクマリン、アクリドン、p−ジアセチル
ベンゼン、3−アセチルフエナントレンペンアントレン
キノン等である。好ましくは、これはベンゾフェノン又
はベンゾフェノン誘導体である。
【0047】本発明で使用するのに好適なエチレン式不
飽和単量体の例は、アクリル酸又はメタクリル酸と一価
又は多価化合物とのエステル、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル等のアクリレート及びメタクリレート並びに
これらの及び他の化合物の種々の異性体、ネオペンチル
グリコールジアクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒ
ドロキシプロピル−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシ
プロピオネートジアクリレートの如きエステルジオール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールジ−、トリ−及びテトラア
クリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シプロピルアクリレート、カプロラクトンアクリレー
ト、エトキシ化アクリレート、プロポキシ化アクリレー
ト、グリセロールアクリレート、トリエチレングリコー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、エトキシエチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、イ
ソボルニルアクリレート、1,3−ブチレングリコール
ジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、グリシ
ジルアクリレート並びにかゝる化合物のメタクリレート
等、そしてスチレン、ジビニルベンゼン、N−ビニルピ
ロリドン等である。光重合性反応処方物中に用いること
ができるオリゴマー又は重合体の例は、ポリ(エチレン
グリコール)アクリレート、カプロラクトンジ−、トリ
−及びテトラアクリレート、トリプロピレングリコール
ジアクリレート、ポリ(プロピレングリコール)アクリ
レート、エトキシ化又はプロポキシ化ビスフェノールA
ジアクリレート、アルコキシ化エステルジオールジアク
リレート例えばエトキシ化又はプロポキシ化2,2−ジ
メチル−3−ヒドロキシプロピル−2,2−ジメチル−
3−ヒドロキシプロピオネートジアクリレート、エステ
ルジオールを反応させたカプロラクトンのアクリレー
ト、エトキシ化又はプロポキシ化トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、エトキシ化又はプロポキシ化ペン
タエリスリトールジ−、トリ−又はテトラアクリレー
ト、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸等の不飽和ジ
カルボン酸からのエチレン性不飽和を含有する不飽和ポ
リエステル、各種のウレタンアクリレート、エポキシア
クリレート、アクリレート化ポリブタジェン、アクリレ
ート化アマニ油、アクリレート化大豆油等である。これ
らの化合物は当業者には知られており、多くのものが市
場で入手可能である。好ましくは、モノアクリレート、
ジアクリレート、トリアクリレート、及びそれよりも高
官能価のアクリレートの如きアクリレートが用いられ
る。
【0048】本発明の光重合プロセスは斯界の慣用操作
に従って行われるが、その区別される特徴は、光重合開
始剤として芳香族ケトン光増感剤と尿素化合物との組み
合わせを使用することである。光重合プロセスにおいて
用いられる本発明の処方物又は系は、1種以上の光重合
性エチレン式不飽和単量体、オリゴマー及び重合体と、
本発明の1種以上の尿素化合物と、1種以上の光増感剤
又は光増感剤/光重合開始剤の混合物とを含む。また、
処方物は、系の製造、取り扱い及び貯蔵間おける早期重
合を防止するヒドロキノン又はメトキシヒドロキノンの
如き安定剤、酸化防止剤、表面活性剤又は他の均展剤、
充填剤、顔料、シラン又はチタンカップリング剤、シッ
クナー、不活性溶剤、不活性重合体、ワックス、接着促
進剤、滑剤例えばシリコーン油、粉末状ポリテトラフル
オルエチレン及び(又は)ポリエチレン、並びに当業者
に知られた類似物(これらのいくらかについては以下で
詳細に説明されている)を含めて様々な添加剤を含有す
ることもできる。
【0049】処方物は、ロール被覆、浸漬被覆、噴霧被
覆、はけ塗、フレキソ印刷、平版印刷、オフセット湿式
印刷等の如き様々な方法によって適当な基体に薄フイル
ムとして適用される。
【0050】光重合は、フイルム又は被覆を短波放射線
に富む光線に暴露させることによって実施される。特に
有用なものは、波長が約200〜約450ナノメートル
の放射線である。適当な光源の例は、低圧、中圧及び高
圧水銀灯、キセノン及び他のフラッシュランプ、螢光
灯、レーザー、無電解質水銀灯等である。また、電子ビ
ーム、γ線、X線、日光等の如き放射エネルギーの他の
源を用いることもできる。
【0051】通常、上記処方物成分の適当な選択によっ
て、容易に適用される系が提供される。しかしながら、
ある場合には、流れ特性を向上させる目的で又は他の応
答性を変更させるために系に1種以上の不活性又は非反
応性溶剤を約1〜約25重量%の量で加えることによっ
て粘度を低下させるのが望ましいこともある。ある場合
には、25%よりも多い溶剤を使用するのが望ましい。
かゝる溶剤の例は、1,1,1−トリクロルエタン、ブ
タノール、エタノール、エトキシエタノール、エトキシ
エチルアセテート、エトキシブタノール、エトキシブタ
ノールアセテート、ブチルアセテート、メチルイソブチ
ルケトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、
プロピレングリコールメチル−、プロピル−及びブチル
エーテル、ジプロピレングリコールアルキルエーテル等
である。ある場合には、被覆処方物に水又は水と有機溶
剤との混合物を加えるのが望ましい。
【0052】また、スクリーン印刷又は特殊のレオロジ
ー応答を必要とする他の最終用途に用いられるものの如
きある種の処方物を増稠するのが望ましい場合もある。
用いることができる各種不活性増稠剤の例は、フューム
ドシリカ、粘土、ガラス球体又は他の微小中空体、アル
ミニウムトリハイドレート、セルロースアセテートブチ
レート、ビニル重合体、フェノキシ、アクリレート等の
如き重合体である。系に用いられるかゝる物質の量は、
所望の粘度、チキソトロピー性又は他の流れ特性に左右
されそして当業者によって知られている。
【0053】処方物の各成分は混和性であるけれども、
ベンゾフェノンの如き光増感剤が系に十分に溶解される
こと及び最適な結果が得られることを確実にするために
は、24時間程の長い又はそれ以上の時間が周囲条件下
に経過するのが必要な場合もある。当業者には知られて
いるように、かゝる時間は、処方物成分、光増感剤濃
度、温度等を含めた多くの因子に左右される。特別な場
合には、全成分の混和性を確保するには使用間に系を撹
拌することが必要である。
【0054】本発明の光重合プロセス又は方法を実施す
るときには、系の各成分は、通常の形式の機械的又は手
動的混合装置を使用して任意の順序で一緒にすることが
できる。芳香族ケトン光増感剤又はこれらの混合物、尿
素化合物又はこれらの混合物及び所望ならば任意種類の
光増感剤を別個の成分として処方物に加えることがで
き、又はそれらを予備混合して単一成分として加えるこ
ともできる。所望ならば、この混合物は、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミン等の如き公知の相乗剤を
1〜約2%の少量で含有することもできる。後者の予備
混合法がしばしば好ましい。と云うのは、多くの場合
に、光重合開始剤成分以外の系中の全成分を使用前に調
製して貯蔵し、そして使用直前に光重合開始剤成分のみ
が添加されるからである。加えて、ベンゾフェノンの如
きある種の芳香族ケトン化合物は固体であり、従って溶
解を生ぜしめるのに時間の経過を必要とする。予備混合
は、直ちに使用することができる液状の容易に取り扱わ
れ且つ使用される混合物をもたらす。この方法は、系の
全成分を混合し次いで使用前に長時間貯蔵する場合に起
こり得る不安定性又は反応性上のすべての問題を回避す
る。光硬化性アクリレート系を処方する技術に精通した
者には知られるように、貯蔵寿命の長さは、変動的であ
りそして温度、光特に紫外線の存在、容器内の空間等の
如き因子に左右される。
【0055】本発明の光重合系に成分の混合物を用いる
場合の量は、系の性状に応じて広い範囲にわたって変動
することができる。一般には、光硬化性物質の総重量を
基にして芳香族ケトン光増感剤と多官能性尿素化合物と
の組み合わせが約2〜約65重量%の量で使用される。
好ましくは、2〜50重量%が使用される。芳香族ケト
ン光増感剤に本発明の尿素化合物を混合する際の割合は
広範囲であり、そして化合物の分子量/当量に左右され
る。一般には、芳香族ケトン光増感剤は、全光硬化性物
質を基にして約0.5〜約15重量%の量で存在する。
より好ましくは、約1〜約10重量%が使用される。光
重合開始剤組成物は、芳香族ケトン光増感剤と多官能性
尿素化合物とホモリシス分解型光重合開始剤との混合物
の重量を基にして約75重量%までのホモリシス分解型
光重合開始剤を任意に含有することができる。
【0056】ホモリシス分解型光重合開始剤の例は、ベ
ンジルケタール、2,4,6−トリメチルベンゾイルジ
フェニルホスフィンオキシド、アセトフェノン及びその
誘導体例えば2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒ
ドロキシ−2,2−ジメチルアセトフェノン等、1−ベ
ンゾイルシクロヘキサン−1−オール、ベンゾイン、ア
ルキルベンゾインエーテル例えばメチル−、エチル−、
イソプロピル−、n−ブチル、イソブチルベンゾインエ
ーテル等である。
【0057】本発明の組成物は、空気、窒素、アルゴン
等の如き様々な雰囲気中で照射に暴露することができ
る。被覆は硬化のために不活性雰囲気を必要とせず、そ
して空気の如き活性若しくは酸素含有雰囲気又は窒素の
如き不活性雰囲気のどちらを用いることもできることが
分かった。
【0058】固体で機能性の且つ装飾的なテキスチャー
面を提供することの他に、本発明の組成物は、種々の基
体への接着性、テキスチャー面仕上によって光重合性系
を硬化させることのできる迅速性、黄色化の不在、並び
にフイルム形態及び低臭気性系で適用したときの機械的
特性の優秀性の面で優れた結果をもたらす。かゝる基体
の例は、鋼、処理鋼、錫めっき鋼、亜鉛めっき鋼、処理
又は未処理アルミニウム、ガラス、木材、紙、被覆又は
印刷紙、エポキシガラス繊維複合体、印刷回路板の製造
に用いられるものの如き難燃化エポキシガラス繊維複合
体、グラファイト繊維補強積層体/複合体、ポリ(エチ
レンテレフタレート)、ポリ(ブチレンテレフタレー
ト)の如き重合体、処理ポリエチレン及びポリプロピレ
ン、ビニルフイルム、真空蒸着アルミニウム、金及び他
の金属、ガラス補強不飽和ポリエステル/スチレン製品
等である。
【0059】本発明の複合体は、様々な最終用途におい
て有用である。これらの最終用途の例は、鋼、錫めっき
鋼、錫不含鋼、亜鉛めっき鋼、燐酸塩処理又は他の処理
鋼、アルミニウム、銅、錫−鉛はんだ並びに他の金属に
対する一般的な金属被覆、ガラス、木材、家庭電化製品
の被覆、事務機の被覆、事務用品の被覆、照明取付器具
の被覆、飲料及び他の缶の被覆、装飾被覆、機能性のつ
や消被覆、オーバープリントワニス、インキ、シーラン
ト、接着剤、エレクトロニクス製品の被覆例えばレーザ
ーマーカー被覆、相似被覆、ホトレジスト、はんだマス
ク又はレジスト、光学繊維の被覆、ガラス繊維補強ポリ
エステル物質の被覆、スパッター法蒸着又は蒸着アルミ
ニウム、金又は他の金属、グラファイト又は炭素繊維補
強積層体/複合体の被覆、ガラス、木材、プラスチック
例えばポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホ
ン、処理ポリエチレン及びポリプロピレン等の被覆であ
る。
【0060】本発明の正確な範囲は特許請求の範囲に示
されているけれども、次の特定の実施例は、本発明のあ
る面を例示し特に本発明の評価法を示すものである。し
かしながら、これらの実施例は、例示のために提供する
ものであって、特許請求の範囲に示した点を除いて本発
明を限定するものと解釈すべきでない。すべての部数及
び百分率は、特に記してなければ重量比による。
【0061】以下の実施例で調整した被覆組成物は、次
の操作に従って評価された。
【0062】耐溶剤性(二重アセトンこすり) これは、フイルム被覆表面をアセトン浸漬布で手圧によ
って前後にこすった場合のアセトンによる攻撃に対すウ
硬化フイルムの抵抗性の尺度である。アセトン浸漬チー
ズクロスによるフイルム被覆面の前後のこすりを一回の
“二重アセトンこすり”と称した。フイルム被覆表面に
及ぼしたある数の二重アセトンこすりの影響を、二重ア
セトンこすりの数の後のカッコ内の数によって報告し
た。所定数の二重アセトンこすりに対するアセトン抵抗
性を評価するための評点方式は次の通りであった。
【0063】こすりの数の後のカッコ内の数: (1)被覆外観に全く変化なし (2)表面のかき傷 (3)表面の無光沢化又は擦傷、いくらかの被覆の除去 (4)被覆の明白な破損 (5)被覆の約50%以上の除去
【0064】ペンシル硬度 ASTM D3363−74に記載した如き態様で、フ
イルム被覆面に対して硬度値の増加する鉛筆の芯を、1
つの鉛筆の芯でフイルム被覆の表面が切られるまで強制
的に走らせた。フイルム被覆面に傷をつけることができ
ない表面硬度を最っとも高い鉛筆等級と見なした。最と
も軟いものから最とも硬いものまでの鉛筆芯を、6B、
5B、4B、3B、2B、B、HB、F、H、2H、3
H、4H、5H、6H、7H、8H及び9Hとして報告
した。
【0065】クロスハッチ接着力 基体の被覆フイルムの各方向に10個の切線で格子模様
を作り、そして切り目を付けた基体に感圧性接着テープ
(スコッチブランド606)を適用し次いでASTM
D3359−78に記載の如くして迅速に除去した。接
着力は、該方法に詳細に記載される如き性状及び実例と
の比較によって評価された。
【0066】ガードナー耐衝撃性 これは、基体上の硬化フイルム被覆が落下する重りから
の破断に対して抵抗する能力の尺度である。鋼パネル上
に流延され硬化されたフイルム被覆を試験するために、
8lbの槍を備えたIG−1120型ガードナー衝撃試
験機を使用した。槍を所定の高さ(in単位)に上げ、
そして被覆鋼パネルの被覆側(直接又は前面耐衝撃性)
又は被覆鋼パネルの未被覆側(裏面耐衝撃性)のどちら
かの上に落下させた。破断せずにフイルムによって吸収
された槍(8lb)の重量のin倍の落下高さ(in−
lbと称する)をフイルムの直接又は裏面衝撃抵抗性と
して報告した。
【0067】光沢度 光沢度の測定は、20°及び60°ヘッドを備えたガー
ドナー光沢計を使用してASTM D523−78に従
って20°及び(又は)60°で行われた。
【0068】用語 「ポリアミンI」は、約2169倍の当量及び約0.4
61meg/gのアミン価を有するトリアミン官能性プ
ロピレンオキシド化合物である。これは、約73%の第
一アミン末端基、約20〜25%の第二アミン末端基及
び0〜5%の第三アミン末端基を含有する。もし所定の
分子中のすべての末端基が第一であるならば、それは次
の平均構造
【化13】 を有する。
【0069】「イソシアネートI」は、201の分子
量、20.9%の理論イソシアネート含量及び270℃
の沸点を持つm−イソプロペニル−α,α−ジメチルベ
ンジルイソシアネートである。これは、アメリカン・サ
イアナミド・カンパニーによって商品名“TMI”の下
に販売されている。
【0070】「表面活性剤I」は、ユニオン・カーバイ
ド・コーポレーションによって商品名“SILWET
L−7604”の下に販売されているシリコーン/アル
キレンオキシド表面活性剤である。
【0071】「表面活性剤II」は、スリー・エム・カ
ンパニーによって商品名“FLUORAD FC−43
0”の下に販売されているフルオルケミカル表面活性剤
である。
【0072】「表面活性剤III」は、ユニオン・カー
バイド・コーポレーションによって商品名“SILWE
T L−7610”の下に販売されているシリコーン/
アルキレンオキシド表面活性剤である。
【0073】「表面活性剤IV」は、ユニオン・カーバ
イド・コーポレーションによって商品名“L−542
0”の下に販売されているシリコーン/アルキレンオキ
シド表面活性剤である。
【0074】「エポキシジアクリレートI」は、SAR
TOMER社によって商品名“Epoxg Diacr
ylate C−3000”として販売されるアクリレ
ート化エポキシドである。
【0075】[実施例]例1 本例は、ポリアミン及び二官能性化合物からの尿素誘導
体の製造を例示する。アミン官能基の部分キャッピング
だけが実施されたので、最終生成物は元の未反応アミン
末端基のいくらか及び尿素含有末端基の両方を含有し、
そして第一アミン基の1個の活性水素がイソシアネート
分子と反応したときには次の構造
【化14】 を有する。当業者には、分子の第二アミン基でもいくら
かの反応が起こることも理解されよう。
【0076】熱制御系、撹拌機、窒素流入管及び流出管
を備えた1リットルのガラス製反応フラスコに450g
(0.207当量)のポリアミンIを加え、そして窒素
下に70℃に加熱した。次いで、撹拌しながら20.9
g(0.104当量)のイソシアネートIを迅速に加え
た。反応混合物は発熱して約80℃になった。発熱後、
系は70℃の発熱温度に冷却したので、これを3.5時
間維持した。この時間後、赤外スペクトルによれば生成
物にはイソシアネート官能基が全く残っていないことが
示された。次いで、この生成物を室温に冷却しそして後
での使用のために貯蔵した。単離された部分キャップポ
リアミン/尿素化合物は、25℃において3,985の
粘度、0.209meg/gのアミン価及び0.224
meg/gの不飽和含量を有していた。
【0077】例2 本例は、ポリアミン及び二官能性化合物からの尿素誘導
体の製造を例示するものであり、そしてアミン官能基の
全部が二官能性化合物と反応されて本質上完全にキャッ
プされた生成物を生成したという点で例1とは異なる。
この場合に0.207当量のイソシアネートIを加えた
ことを除いて、例1を反復した。70℃で3時間後に、
赤外分析はすべてのイソシアネート官能基が反応したこ
とを示した。生成物を室温に冷却しそして後での使用の
ために貯蔵した。単離された完全キャップポリ尿素化合
物は、25℃において8,975センチストークスの粘
度、0.011meg/gのアミン価及び0.386m
eg/gの不飽和含量を有していた。
【0078】例3〜6 次の成分をガラス製容器に入れそして十分に混合した。
【表1】
【0079】NO.15線巻棒を使用して“ボンデライ
ト37”鋼パネル上に処方物を被覆し、次いで空気雰囲
気中において100ワット/in中圧水銀灯に3分間暴
露した。暴露は、3.7ジュール/cmの放射エネル
ギーに等しかった。得られた被覆は、均一なテキスチャ
ー面及び次の特性を示していた。テキスチャーの度合の
定量的測定を行なった。
【表2】
【0080】例7〜8 例7は、部分又は完全キャップ尿素の製造に用いたポリ
アミンがテキスチャー面を生成しないことを例示する対
照例である。例8は、完全キャップポリアミン化合物が
テキスチャー面をもたらすことを例示するものである。
【表3】
【0081】例3〜6に記載したと同じ態様で処方物を
“ボンデライト37”鋼パネル上に被覆しそして硬化さ
せた。対照例の被覆は、平滑な高光沢面を有していた。
例8は被覆は、極めて微細なテキスチャー面及びつや消
外観を有していた。被覆は次の特性を有していた。
【表4】
【0082】例9〜13 これらの例は、処方物中に種々の表面活性剤及び様々な
表面活性剤濃度を用いることができそしてテキスチャー
フイルムを得ることができることを例示するものであ
る。加えて、異なる濃度のベンゾフェノン(光増感剤)
を用いてテキスチャーフイルムを得ることができる。次
の成分をガラス製容器に入れそして十分に混合した。
【表5】
【0083】6分間の暴露を用いたことを除いて例3〜
6で記載したと同じ態様で処方物を“ボンデライト3
7”鋼パネル上に被覆しそして硬化させた。得られた被
覆は、均一なテキスチャー面を有していた。また、例7
と同じ処方物からの対照例も同じ条件下に硬化させた。
これは、平滑で光沢のある高“鮮明画像”仕上をもたら
した。
【0084】例14〜16 これらの例は、ポリアミンと二官能性イソシアネート化
合物でキャップしたポリアミンとの混合物がテキスチャ
ー仕上をもたらすことを例示するものである。混合物
は、様々な量のキャップポリ尿素を含有する。次の成分
をガラス製容器に入れそして十分に混合した。
【表6】
【0085】例9〜13に記載したと同じ態様で処方物
を“ボンデライト37”鋼パネル上に被覆しそして硬化
させた。得られた被覆は、均一なテキスチャー面を有し
ていた。また、例7と同様の処方物からの対照例も同じ
条件下に硬化させた。これは、平滑で光沢のある高“明
確画像”仕上をもたらした。
【0086】例17〜18 これらの例は、ポリアミン及び二官能性化合物からの尿
素誘導体の製造を例示するものであり、そして異なる量
のアミン官能基を二官能性イソシアネート化合物と反応
させて部分キャップ生成物を製造した点において例1と
は異なる。この場合には表示の量及び当量のイソシアネ
ートIを加えたことを除いて例1を反復した。70℃で
1時間後、赤外分析はすべてのイソシアネート官能基が
反応したことを示した。生成物を室温に冷却し、そして
更に分析することなく後での使用のために貯蔵した。
【表7】
【0087】例19〜20 これらの例は、二官能性イソシアネート化合物で部分キ
ャッピングしたポリアミンがアクリレートと併用したと
きにテキスチャー仕上をもたらすことを例示するもので
ある。次の成分をガラス製容器に入れそして十分に混合
した。
【表8】
【0088】例9〜13で記載したと同じ態様で処方物
を“ボンデライト37”鋼パネル上に被覆しそして硬化
させた。両方の被覆ともテキスチャー面を有していた。
被覆は次の特性を有していた。
【表9】
【0089】例21 本例は、尿素化合物を用いたときに異なる厚さのフイル
ムがテキスチャーになることを例示するものである。ア
ミン官能基の約50%をイソシアネートIと反応させた
5gの例Iポリアミン/尿素、5gのトリメチロールプ
ロパントリアクリレート0.3gのベンゾフェノン及び
0.1gの表面活性剤IVをガラス製容器に入れそして
十分に混合した。次いで、異なる番数の線巻棒を用いて
混合物を“ボンデライト37”鋼パネル上に被覆して様
々な厚さの被覆を生成した。以下に示すように、すべて
の被覆は、空気雰囲気中において100ワット/in紫
外線源に6分間暴露したときにテキスチャー仕上を有し
ていた。
【表10】
【0090】例22 例21に記載した如くしてNO.22線巻棒で例21の
被覆組成物を“ボンデライト37”鋼パネル上に被覆し
そして硬化させた。硬化後、被覆パネルに同じ処方物の
第二層を再被覆し次いで同じ態様で再び硬化させた。被
覆厚は約3.5ミルであった。
【0091】例23〜28 次の成分をガラス製ビンに入れ、十分に混合しそして後
での使用のために貯蔵した。紫外線に暴露したにテキス
チャーになる系を例示することの他に、これらは、多量
のベンゾフェノンを組成物中に使用することができるこ
とエポキシアクリレートの如き他のアクリレートを用い
ることができること、及び組成物を異なる雰囲気(空気
又は窒素)中において且つ異なる硬化速度(コンベヤー
速度)において異なる光源で硬化かせることができるこ
とを例示するものである。
【表11】
【0092】これらの処方物を表示の温度下に表示の基
体上に次の紫外線源で硬化させた。すべての場合に、テ
キスチャー面が得られた。
【0093】硬化装置Iは、ユニオン・カーバイド・コ
ーポレーションのホトキュア・システムズによって販売
される市販PS−7001紫外線光硬化系である。これ
は、コンベヤー系(達成できる最高硬化速度は68fp
mである)、種々の窒素雰囲気を生成することができ又
は止めることができそして空気雰囲気を使用することを
可能にする窒素送出系、及び紫外線照射条件をもたらす
ための100ワット/in型中圧水銀灯が備えられてい
る。また、この装置には、上記の紫外線雰囲気に入る前
に優先的な表面硬化に使用することができしかも“O
N”又は“OFF”のどちらの状態にすることができる
2つの低強度紫外線殺菌灯も備えられている。硬化装置
Iは、これらの灯を“OFF”状態にした紫外線硬化系
を表わす。更に、この装置には、“ON”又は“OF
F”のどちらの状態にすることもできる補助300ワッ
ト/in型紫外線灯が備えられている。硬化装置Iは、
この灯を“OFF”状態にした紫外線硬化系を表わす。
【0094】硬化装置IIは、2つの殺菌灯が“ON”
状態になっていることを除いて硬化装置Iと同じであ
る。
【0095】硬化装置IIIは、コンベヤー系及び“O
N”状態にある硬化装置Iの300ワット/in型紫外
線灯のみを備えた紫外線硬化系である。
【0096】表示の例の組成物をNO.15線巻棒よっ
て、“ボンデライト37”鋼(Bと称する)、商品名
“MYLAR”ポリエステムフイルム(Mと称する)、
家庭用/工業用フローリングの製造に用いられる種類の
ワックス処理していない未被覆ビニタイル(Vと称す
る)、ポリカーボネートフイルム(Cと称する)、又は
他の基体(表示されていれば)、のどれかの上に被覆し
た。
【0097】次いで、被覆基体を紫外線に暴露しそして
次の表に記載した態様で硬化させた。上に記載した方法
を使用して、硬化テキスチャー被覆を試験した。
【表12】
【0098】* クロスハッチ接着力は、フイルム基体
に通常の態様で実施することができなかった。接着力
は、フイルムを前後に曲げることによって測定された。
もし被覆が接着していれば、評点は良好であった。もし
被覆が剥離すれば、評点は貧弱であった。 ** テキスチャーは、フイルムがテキスチャー面を有
していたことを示す。微細テキスチャーは、フイルムが
微細テキスチャー面を有していたことを示す。 # FR−4は、印刷回路材料の技術に精通した者には
FR−4ボードとして知られるガラス繊維補強難燃化エ
ポキシ印刷回路ボード材料である。
【0099】例29〜34 次の成分をガラス製ビンに入れ、十分に混合しそしてそ
の後の使用のために貯蔵した。紫外線への暴露時にテキ
スチャーになる系の例示の他に、これらは、エポキシア
クリレートの如き他のアクリレートを使用することがで
きること、及び組成物を異なる雰囲気(空気又は窒素)
中で且つ異なる硬化速度(コンベヤー速度)で異なる光
源によって硬化させることができることを例示するもの
である。
【0100】
【表13】
【0101】これらの処方物を表示の条件下に表示の基
体上に次の紫外線源によって硬化さてた。すべての場合
に、テキスチャー面が得られた。硬化装置I、II及び
III並びに基体の表示については例23〜28に記載
されている。処方物をNo.15線巻棒によって基体上
に被覆した。次いで、被覆基体を紫外線に暴露しそして
次の表に記載の態様で硬化させた。先に記載の方法を用
いて、硬化したテキスチャー被覆を試験した。
【表14】
【0102】* クロスハッチ接着力は、フイルム基体
及びビニルタイル基体に通常の態様で実施することがで
きなかった。接着力は、フイルムを前後に曲げることに
よって測定された。もし被覆が接着していれば、評点は
良好であった。もし被覆が剥離すれば、評点は貧弱であ
った。中間の接着度は普通と記載された。 ** テキスチャーは、フイルムがテキスチャー面を有
していたことを示す。微細テキスチャーは、フイルム
が、微細テキスチャー面を有していたことを示す。 ## Cu−FR−4は、印刷回路材料の技術に精通し
た者にはFR−4ボードとして知られる銅クラッドガラ
ス繊維補強難燃化エポキシ印刷回路ボード材料である。
【0103】例35 本例は、処方物中に異なるアクリレートを用いることが
できることを更に例示するものである。50gのエポキ
シアクリレートI、116.7gのアルコキシ化脂肪族
ジアクリレートエステル(Sartomer社によって
C9207として販売されている)、1.67gの表面
活性剤IV及び6.67gのベンゾフェノンをガラス製
容器に入れそして十分に混合して均質なブレンドを得
た。このブレンドの20gに例2のポリ尿素化合物を1
3.36gを加え、これらを十分に混合してそしてN
O.20線巻棒によって“ボンデライト37”鋼上に被
覆した。被覆を300ワット/in型中圧水銀灯源下に
100ft/分で1回通過によって硬化させた。テキス
チャー被覆が得られた。
フロントページの続き (72)発明者 アリソン・ダーネル・ベケット 米国ウエストバージニア州ナイトロ、ワシ ントン・アベニュー510 (72)発明者 ジョゼフ・ビクター・コレスケ 米国ウエストバージニア州チャールスト ン、ブレントウッド・ロード1513 (72)発明者 リチャード・マイケル・ジャーキン 米国ウエストバージニア州クロス・レイン ズ、ケンジントン・ドライブ5300

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光硬化性組成物を紫外線に該組成物を硬
    化させるのに十分な時間暴露することからなるテキスチ
    ャー被覆の形成法において、光硬化性組成物が、 i)芳香族ケトン光増感剤、 ii)式(I) 【化1】 [式中、 Rは、ツエレウィチノフ活性水素原子を含有する化合物
    に基づく開始剤基であって、2〜6個の炭素原子を含有
    するものであり、 Hは、式 【化2】 のヒドロキシ含有基であり、 Pは、式 【化3】 の第一アミン含有基であり、 Sは、式 【化4】 の第二アミン含有基であり、 Tは、式 【化5】 の第三アミン含有基であり、 上記の式において、aは0〜175の値を有し、bは0
    〜175の値を有し、cは0〜30の値を有し、nは1
    〜3の整数であり、yは0〜uの値を有し、uは0.3
    〜1.0の値を有し、R′は2〜18個の炭素原子のア
    ルキル基であり、R″は水素又は1〜18個の炭素原子
    のアルキル基であり、R′′′及びR′′′′はそれぞ
    れ2〜12個の炭素原子のアルキル基であり、Iは式 【化6】 (ここで、Rは水素、1〜10個の炭素原子のアルキ
    ル、アリール、置換アリール、アリル、アラルキル、シ
    クロアルキル、フェニル、置換フェニルである)によっ
    て表わされる基であり、pはモル分率であって0〜1.
    0の範囲内であり、sはモル分率であって0〜1.0の
    範囲内であり、tはモル分率であって0〜0.7の範囲
    内であり、(p+s+t)の合計は1であり、wはアミ
    ノ化%であって0.3〜1.0の範囲内であり、zは2
    〜6の整数であり、そして(zw)はzとwとの積であ
    る]の多官能性尿素化合物、及び iii)光重合を受けるエチレン式、不飽和化合物、を
    含むことからなるテキスチャー被覆の形成法。
  2. 【請求項2】 aが0〜90であり、bが0〜115で
    あり、cが0〜15であり、R′がエチル基であり、
    R″が水素又はメチル若しくはエチル基であり、そして
    R′′′及びR′′′′が2〜6個の炭素原子を含有す
    る請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 aが0〜50であり、bが3〜98であ
    り、cが0〜2であり、そしてnが1である請求項2記
    載の方法。
  4. 【請求項4】 tが0〜0.2である請求項1記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 a及びcが0であり、bが30〜40で
    あり、zが3であり、nが1であり、そしてR″がメチ
    ルである請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 pが0.65〜1.0であり、sが0〜
    0.30であり、そしてtが0〜0.05である請求項
    5記載の方法。
  7. 【請求項7】 p+tが0〜0.30であり、そしてs
    が0.70〜1.0である請求項5記載の方法。
  8. 【請求項8】 R′′′がイソプロピルである請求項5
    記載の方法。
  9. 【請求項9】 Rが[O−(CH−O−(C
    −O(こゝで、dは0〜50である)であり、
    a、b及びcが0であり、zが2であり、nが3であ
    り、そしてR″が水素である請求項1記載の方法。
  10. 【請求項10】 dが、4〜35である請求項9記載の
    方法。
  11. 【請求項11】 芳香族ケトン増感剤がベンゾフェノン
    である請求項1記載の方法。
  12. 【請求項12】 芳香族ケトン増感剤がベンゾフェノン
    とイソプロピルチオキサントンとの混合物である請求項
    1記載の方法。
  13. 【請求項13】 ホモリシス分解型の1種以上の光重合
    開始剤を含有する請求項1記載の方法。
  14. 【請求項14】 光重合開始剤が1−ヒドロキシシクロ
    ヘキシルフェニルケトンである請求項13記載の方法。
  15. 【請求項15】 光重合開始剤が2,2−ジエトキシア
    セトフェノンである請求項13記載の方法。
  16. 【請求項16】 光重合開始剤としての1−ヒドロキシ
    シクロヘキシルフェニルケトンも含有する請求項11記
    載の方法。
  17. 【請求項17】 エチレン式不飽和化合物がモノアクリ
    レート、ジアクリレート、トリアクリレート及び高級官
    能性アクリレートよりなる群から選択される請求項1記
    載の方法。
  18. 【請求項18】 アクリレートが、トリメチロールプロ
    パントリアクリレートである請求項17記載の方法。
  19. 【請求項19】 アクリレートがウレタンアクリレート
    である請求項17記載の方法。
  20. 【請求項20】 アクリレートがエポキシアクリレート
    である請求項17記載の方法。
  21. 【請求項21】 アクリレートがトリメチロールプロパ
    ントリアクリレートとエポキシアクリレートとの混合物
    である請求項17記載の方法。
  22. 【請求項22】 アクリレートがトリメチロールプロパ
    ントリアクリレートとウレタンアクリレートとの混合物
    である請求項17記載の方法。
  23. 【請求項23】 Iが式 【化7】 の基である請求項1記載の方法。
  24. 【請求項24】 請求項1記載の硬化生成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005141243A (ja) * 2000-01-31 2005-06-02 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版材料

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5554666A (en) * 1995-02-24 1996-09-10 Sunrez Corporation Photocurable compositions
US6113801A (en) * 1997-02-14 2000-09-05 Physical Optics Corporation Method of making colored replicas and compositions for use therewith
US5922238A (en) * 1997-02-14 1999-07-13 Physical Optics Corporation Method of making replicas and compositions for use therewith
JP4014803B2 (ja) 1997-08-05 2007-11-28 セリコル、リミテッド インクジェットインク
US6231931B1 (en) * 1998-03-02 2001-05-15 John S. Blazey Method of coating a substrate with a structural polymer overlay
US6316099B1 (en) 1999-03-31 2001-11-13 3M Innovative Properties Company Multi-layered sealant
US6635152B1 (en) * 2000-06-07 2003-10-21 Exciton, Inc. Process of driving a non-polymerization solution-phase photochemical transformation
US6951623B2 (en) * 2001-11-02 2005-10-04 The Boeing Company Radiation curable maskant and line sealer for protecting metal substrates
DE102006015010A1 (de) * 2006-03-31 2007-10-18 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung einer supraleitenden Magnetspule sowie Magnet-Resonanz-Gerät
JP5909039B2 (ja) * 2010-04-06 2016-04-26 株式会社小森コーポレーション 巻紙印刷機

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE597983A (ja) * 1959-12-11
US3661744A (en) * 1966-07-26 1972-05-09 Grace W R & Co Photocurable liquid polyene-polythiol polymer compositions
US3654370A (en) * 1970-08-28 1972-04-04 Jefferson Chem Co Inc Process for preparing polyoxyalkylene polyamines
IT1162770B (it) * 1979-08-10 1987-04-01 Anic Spa Metodo per ricoprire superfici varie e mezzi adatti allo scopo
US4320221A (en) * 1980-12-12 1982-03-16 The Dow Chemical Company Addition polymerizable isocyanate-polyol anaerobic adhesives
US4421784A (en) * 1982-02-12 1983-12-20 Union Carbide Corporation Process for producing textured coatings
US4483884A (en) * 1982-02-12 1984-11-20 Union Carbide Corporation Process for producing textured coatings
US4485123A (en) * 1982-02-12 1984-11-27 Union Carbide Corporation Process for producing textured coatings
US4512340A (en) * 1983-02-22 1985-04-23 Johnson & Johnson Products, Inc. Visible light cured orthopedic polymer casts
US4429096A (en) * 1983-06-01 1984-01-31 American Cyanamid Company Quaternary amine carbamate or urea compounds based on isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate
US4559382A (en) * 1983-06-06 1985-12-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Processable radiation curable poly(vinyl chloride) resin compositions
US4716209A (en) * 1986-01-23 1987-12-29 Desoto, Inc. Strong and elastic polyurethane polyurea polyacrylates and electron beam-cured coatings containing the same
US4806574A (en) * 1985-07-22 1989-02-21 Desoto, Inc. Ultraviolet curable coatings for optical glass fiber based on a polyfunctional core
EP0243890A3 (en) * 1986-04-30 1988-08-03 EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation) Novel diol monomers and polymers thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005141243A (ja) * 2000-01-31 2005-06-02 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP4648695B2 (ja) * 2000-01-31 2011-03-09 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料

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