JPS5945849U - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

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Publication number
JPS5945849U
JPS5945849U JP14069182U JP14069182U JPS5945849U JP S5945849 U JPS5945849 U JP S5945849U JP 14069182 U JP14069182 U JP 14069182U JP 14069182 U JP14069182 U JP 14069182U JP S5945849 U JPS5945849 U JP S5945849U
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JP
Japan
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ion beam
sample
ion implanter
ion
beam source
Prior art date
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Pending
Application number
JP14069182U
Other languages
English (en)
Inventor
西山　和夫
黒田　全
後藤　信子
Original Assignee
ソニー株式会社
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5945849U publication Critical patent/JPS5945849U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、従来のイオン注入装置の概略図、第２図は本
考案の要部の概略図、第３図はイオンビーム強度モ、ニ
タ手段の断面図、第４図は第３図のＡ−Ａ線上の縮小断
面図である。 １はイオンビーム源、２はイオン加速器、３は質量分離
器、４は走査機構、５はイオンビーム、６は試料、７は
マトリックススリット板、８は小ファラデーカップ、９
はイオンビーム強度モニタ手段である。　　　。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオンビーム源と、該イオンビームに垂直な面に対して
    傾斜可能に試料を保持する手段と、上記イオンビーム源
    と上記試料の間にあって該試料に照射されるイオンビー
    ムが透過する開口を有し、上記試料と平行に配置可能な
    イオンビーム強度モニタ手段を有するイオン注入装置。
JP14069182U 1982-09-17 1982-09-17 イオン注入装置 Pending JPS5945849U (ja)

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JP14069182U JPS5945849U (ja) 1982-09-17 1982-09-17 イオン注入装置

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JP14069182U JPS5945849U (ja) 1982-09-17 1982-09-17 イオン注入装置

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JPS5945849U true JPS5945849U (ja) 1984-03-27

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ID=30314908

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