JPS61151333U - - Google Patents

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JPS61151333U
JPS61151333U JP3524485U JP3524485U JPS61151333U JP S61151333 U JPS61151333 U JP S61151333U JP 3524485 U JP3524485 U JP 3524485U JP 3524485 U JP3524485 U JP 3524485U JP S61151333 U JPS61151333 U JP S61151333U
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JP
Japan
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sample
cassette
electron beam
exposure apparatus
beam exposure
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JP3524485U
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【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の電子線露光装置等の試料保持
用カセツトの１実施例を示す図、第２図は本考案
の電子線露光装置等の試料保持用カセツトの他の
実施例を示す図、第３図はニードルを有するカセ
ツトの従来例を示す図である。 １と１３―１……固定支点、２……試料、３と
１３―２……可動支点、４……スクリユー部、１
１……マスクブランク、１２……ニードル、１３
……ホルダー、１４……カセツト本体。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 試料上に被着された絶縁膜を突き破つて導
    電性膜をアースするためのニードルを有する電子
    線露光装置等の試料保持用カセツトであつて、ホ
    ルダーの固定支点をニードル形状にしたことを特
    徴とする電子線露光装置等の試料保持用カセツト
    。 (2) 固定支点は、スクリユー部を設けて試料を
    固定する高さの調節ができるように構成したこと
    を特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)項記
    載の電子線露光装置等の試料保持用カセツト。
JP3524485U 1985-03-12 1985-03-12 Pending JPS61151333U (ja)

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JP3524485U JPS61151333U (ja) 1985-03-12 1985-03-12

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JP3524485U JPS61151333U (ja) 1985-03-12 1985-03-12

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JPS61151333U true JPS61151333U (ja) 1986-09-18

Family

ID=30539348

Family Applications (1)

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JP3524485U Pending JPS61151333U (ja) 1985-03-12 1985-03-12

Country Status (1)

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JP (1) JPS61151333U (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63221617A (ja) * 1987-03-10 1988-09-14 Fujitsu Ltd 荷電粒子線露光における乾板の製造方法
JP2006049910A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Schott Ag フォトリトグラフィー処理用マスクブランクの製造方法及びマスクブランク
JP2013165283A (ja) * 2013-04-04 2013-08-22 Nuflare Technology Inc 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2006049910A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Schott Ag フォトリトグラフィー処理用マスクブランクの製造方法及びマスクブランク
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