JPS5942332A - フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法 - Google Patents
フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法Info
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- JPS5942332A JPS5942332A JP57152675A JP15267582A JPS5942332A JP S5942332 A JPS5942332 A JP S5942332A JP 57152675 A JP57152675 A JP 57152675A JP 15267582 A JP15267582 A JP 15267582A JP S5942332 A JPS5942332 A JP S5942332A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フェノールまたは/およびオルトクレゾール
とメタノールとをシリカに担持されたマンガン酸化物を
主体とする触媒の存在下に、気相接触させオルト位メチ
ル化フェノール化合物を製造する方法に関するものであ
る。
とメタノールとをシリカに担持されたマンガン酸化物を
主体とする触媒の存在下に、気相接触させオルト位メチ
ル化フェノール化合物を製造する方法に関するものであ
る。
本発明の方法で製造されるオルト位メチル化フェノール
化合物は、それぞれ工業原料として重要であり、たとえ
ば2.6−キシレノールはポリフェニレンオキサイドの
原料であり、オルトクレゾールは農医薬品等の原料であ
る。
化合物は、それぞれ工業原料として重要であり、たとえ
ば2.6−キシレノールはポリフェニレンオキサイドの
原料であり、オルトクレゾールは農医薬品等の原料であ
る。
フェノールまたは/およびオルトクレゾールとメタノー
ルとを気相接触させ、オルト位メチル化フェノール化合
物を製造する方法は公知であり、酸化アルミニウムを触
媒とする方法(英国特許第717588号)、酸化マグ
ネシウムを触媒とする方法(米国特許第3446856
号)が提案されている。しかしながら、前者の触媒を使
用する場合は、活性およびオルト位選択性が低く、メタ
位、パラ位のメチル化フェノールが副生じている。
ルとを気相接触させ、オルト位メチル化フェノール化合
物を製造する方法は公知であり、酸化アルミニウムを触
媒とする方法(英国特許第717588号)、酸化マグ
ネシウムを触媒とする方法(米国特許第3446856
号)が提案されている。しかしながら、前者の触媒を使
用する場合は、活性およびオルト位選択性が低く、メタ
位、パラ位のメチル化フェノールが副生じている。
これらの混合物から2.6−キシレノールを分離するに
は複雑な分離、精製工程を必要とし、工業的に実施する
上で有利な方法ではない。また、後者の触媒の場合、触
媒活性が低いため反応温度を475〜600℃ときわめ
て高温に保つ必要があり、加えて活性の低下が速い欠点
を有している。
は複雑な分離、精製工程を必要とし、工業的に実施する
上で有利な方法ではない。また、後者の触媒の場合、触
媒活性が低いため反応温度を475〜600℃ときわめ
て高温に保つ必要があり、加えて活性の低下が速い欠点
を有している。
一方、酸化マンガンを触媒とする方法も、英国特許第7
17588号明細誉で公知である。しかしながら酸化マ
ンガンを主体とする触媒は急激な活性の低下が生じるた
め、この点を解決すべり例工ば四三酸化マンガン触!s
(特公昭51−111 fl 1号公報)酸化マンガン
−酸化セリウム触媒(特公昭5]−zloo−Q公報)
酸化マンガンに少量の酸化ケイ素を加えた触媒(特開昭
54−32425号公報)等が提案されている。
17588号明細誉で公知である。しかしながら酸化マ
ンガンを主体とする触媒は急激な活性の低下が生じるた
め、この点を解決すべり例工ば四三酸化マンガン触!s
(特公昭51−111 fl 1号公報)酸化マンガン
−酸化セリウム触媒(特公昭5]−zloo−Q公報)
酸化マンガンに少量の酸化ケイ素を加えた触媒(特開昭
54−32425号公報)等が提案されている。
しかしながらこれらの触媒はいずれも触媒の強度が充分
でないため、反応中に触媒の割れ、および粉化を生じ、
このため触媒層での圧力損失が太き(なり、連続運転が
不可能となる欠点を有している。この原因は、反応中に
触媒に炭素析出を生じ、このため膨潤−割れ一粉化を引
きおこすためであると推定される。
でないため、反応中に触媒の割れ、および粉化を生じ、
このため触媒層での圧力損失が太き(なり、連続運転が
不可能となる欠点を有している。この原因は、反応中に
触媒に炭素析出を生じ、このため膨潤−割れ一粉化を引
きおこすためであると推定される。
又本反応は強い還元雰囲気下で行なわれるため、反応中
にマンガン酸化物は高位の酸化状態のMnO。
にマンガン酸化物は高位の酸化状態のMnO。
(二酸化マンガン)あるいはMn304(四三酸化マン
ガン〕の形状から低位の酸化状態であるMnO(−酸化
マンガン)の形状にまで還元される。
ガン〕の形状から低位の酸化状態であるMnO(−酸化
マンガン)の形状にまで還元される。
つまり触媒から大量の酸素が奪われることによって触媒
の空孔率が増大し、触媒の強度は上述の炭素析出とあい
まって反応中に太1〕に低下する。
の空孔率が増大し、触媒の強度は上述の炭素析出とあい
まって反応中に太1〕に低下する。
更に触媒の活性劣化の主原因である触媒上に析出した炭
素を除き、触媒を賦活させることが本触媒の場合必要に
なるが、通常この賦活操作は高温で酸素を導入し、触媒
上に析出した炭素をCO2に転化することによって行な
われる。
素を除き、触媒を賦活させることが本触媒の場合必要に
なるが、通常この賦活操作は高温で酸素を導入し、触媒
上に析出した炭素をCO2に転化することによって行な
われる。
しかしながらこのとき触媒自身も酸化され、低位の酸化
状態から高位の酸化状態に変化する。このように反応−
再生の繰返しにより触媒は還元−酸化を繰返すことにな
り、触媒の強度は経時的に低下することが避けられない
。
状態から高位の酸化状態に変化する。このように反応−
再生の繰返しにより触媒は還元−酸化を繰返すことにな
り、触媒の強度は経時的に低下することが避けられない
。
触媒の強度を向上させるため、アルカリ土類金属を添加
した触媒も提案されている(特開昭54−81231号
公報)が工業的に長期間実施する上では、強度の低下が
太き(本質的な解決に到ってない。
した触媒も提案されている(特開昭54−81231号
公報)が工業的に長期間実施する上では、強度の低下が
太き(本質的な解決に到ってない。
本発明者らは、フェノールまたは/およびオルトクレゾ
ールとメタノールとを気相接触させオルト位メチル化フ
ェノール化合物を製造するための工業触媒、つまり、高
活性、高選択性を有し、かつ反応雰囲気下でも充分な強
度を有する寿命の長い、流動床用、固定床用いずれの反
応器にも適する酸化マンガン系触媒を開発するべく鉄量
研究を進めた結果、550℃以上の温度で焼成され、1
0〜80重量%のシリカに担持された酸化マンガン系触
媒を使用することにより、前記の問題が解決されること
を見出し、本発明を完成するに至った。
ールとメタノールとを気相接触させオルト位メチル化フ
ェノール化合物を製造するための工業触媒、つまり、高
活性、高選択性を有し、かつ反応雰囲気下でも充分な強
度を有する寿命の長い、流動床用、固定床用いずれの反
応器にも適する酸化マンガン系触媒を開発するべく鉄量
研究を進めた結果、550℃以上の温度で焼成され、1
0〜80重量%のシリカに担持された酸化マンガン系触
媒を使用することにより、前記の問題が解決されること
を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、フェノールまたは/およびオルト
クレゾールとメタノールとを気相接触させてオルト位メ
チル化フェノール化合物を製造するに当り、550℃以
上の温度で焼成され、10〜80重量%のシリカに担持
されたマンガン酸化物を主体とする触媒を使用すること
を特徴とするオルト位メチル化フェノール化合物の製造
方法である。
クレゾールとメタノールとを気相接触させてオルト位メ
チル化フェノール化合物を製造するに当り、550℃以
上の温度で焼成され、10〜80重量%のシリカに担持
されたマンガン酸化物を主体とする触媒を使用すること
を特徴とするオルト位メチル化フェノール化合物の製造
方法である。
本発明において使用する触媒は、担体としてシリカを用
いることが必泊である。
いることが必泊である。
特公昭55−30493号公報に1アルミナ、シリカ等
の担体や水ガラス、ホウ酸、リン酸、粘土系成分等の粘
結剤、あるいは活性炭を添加してもさしつかえない」と
記載されている。
の担体や水ガラス、ホウ酸、リン酸、粘土系成分等の粘
結剤、あるいは活性炭を添加してもさしつかえない」と
記載されている。
本発明者らの実験によれば、本反応においては、担体の
種類は触媒に付与すべき活性、選択性および強度に極め
て大きな影響を与えるため、任意に選択すべきものでは
なく、厳密に選択されるべきものである。
種類は触媒に付与すべき活性、選択性および強度に極め
て大きな影響を与えるため、任意に選択すべきものでは
なく、厳密に選択されるべきものである。
例えば、アルミナまたはシリカ・アルミナを担体に選ん
だ場合、通常の方法では2.6−キシレノールとの分離
が不可能であるm−およびp−クレゾールの生成が激増
する等、オルト位選択性が著1、 < 低下する。筐だ
、叶い藻土、シリコンカーバイト、ジルコニアを担体に
用いた場合、オルト位選択性が低い上、バインダー効果
が低いため、触媒の強度が小さく、はく離、粉化等が短
期間のうちに生じるため、工業的に実施する上で重大な
欠点を有する。
だ場合、通常の方法では2.6−キシレノールとの分離
が不可能であるm−およびp−クレゾールの生成が激増
する等、オルト位選択性が著1、 < 低下する。筐だ
、叶い藻土、シリコンカーバイト、ジルコニアを担体に
用いた場合、オルト位選択性が低い上、バインダー効果
が低いため、触媒の強度が小さく、はく離、粉化等が短
期間のうちに生じるため、工業的に実施する上で重大な
欠点を有する。
これに対してシリカを担体に選び、かつシリカの担持量
が本発明の範囲である10〜80重量%であれば、触媒
の活性、オルト位選択性および触媒の強度が工業的に充
分満足され、長期間の反応に耐えうるものである。
が本発明の範囲である10〜80重量%であれば、触媒
の活性、オルト位選択性および触媒の強度が工業的に充
分満足され、長期間の反応に耐えうるものである。
シリカの担持量が本発明の範囲外であ・る】0%未満の
場合、触媒の強度が充分でない。特に流動床反応器を用
いて反応を行う場合、固定床に比べ触媒の耐摩れ強度は
著しく高いことが要求されるが、本発明の範囲であるシ
リカ担持量が10%以上、好ましくは20%以上であれ
ば、流動床にも充分耐えうるものである。一方、シリカ
の担持量が80%を超える場合、触媒の活性および選択
性が低下するばかりでなく、触媒の強度も低下するので
、工業的に実施する上で不利となる。
場合、触媒の強度が充分でない。特に流動床反応器を用
いて反応を行う場合、固定床に比べ触媒の耐摩れ強度は
著しく高いことが要求されるが、本発明の範囲であるシ
リカ担持量が10%以上、好ましくは20%以上であれ
ば、流動床にも充分耐えうるものである。一方、シリカ
の担持量が80%を超える場合、触媒の活性および選択
性が低下するばかりでなく、触媒の強度も低下するので
、工業的に実施する上で不利となる。
本発明において使用するシリカ担持触媒は、触媒の活性
、選択性および強度を付与するため550℃以上、好ま
しくは650〜1000℃の温度で焼成することが必要
である。焼成温度が本発明の範囲より低い場合は、触媒
の活性、選択性および強度が不充分であり、また、活性
の経時的低下が認められる。一方、焼成温度が1000
℃より高い場合は、触!!活性かや一低下する傾向があ
るものの工業的には使用可能である。しかしながら、焼
成設備上の問題および省エネルギー十の問題から有利で
はない。
、選択性および強度を付与するため550℃以上、好ま
しくは650〜1000℃の温度で焼成することが必要
である。焼成温度が本発明の範囲より低い場合は、触媒
の活性、選択性および強度が不充分であり、また、活性
の経時的低下が認められる。一方、焼成温度が1000
℃より高い場合は、触!!活性かや一低下する傾向があ
るものの工業的には使用可能である。しかしながら、焼
成設備上の問題および省エネルギー十の問題から有利で
はない。
本発明のオルトメチル化フェノール化合物の製造法は、
流動床反応器あるいは固定床反応器のいずれでも実施で
きる。一般に流動床反応器を用いろ場合は、除熱が容易
で均一な反応温度が得られるため大規模の生産に適する
。流動床で反応を実施する場合、良好な流動性を与える
ために、触媒は直径数十〜百ミクロンの球状を有するこ
と、および触媒粒子間あるいは粒子と器壁間の衝突によ
って摩耗されるため、これに耐える耐摩耗強度を有する
ことが必要である。一方、固定床反応器に用いる場合は
、触媒層の圧力損失を減らすため、一般に柱状、球状、
あるいはベレット状に成形した触媒が用いられるが、反
応中に触媒が破砕、粉化すると、触媒層に圧力損失を生
じ運転の継続が困難となるため、充分な触媒強度、こと
に反応雰囲気下に長時間さらされたときに充分な触媒強
度を有することが不可欠である。
流動床反応器あるいは固定床反応器のいずれでも実施で
きる。一般に流動床反応器を用いろ場合は、除熱が容易
で均一な反応温度が得られるため大規模の生産に適する
。流動床で反応を実施する場合、良好な流動性を与える
ために、触媒は直径数十〜百ミクロンの球状を有するこ
と、および触媒粒子間あるいは粒子と器壁間の衝突によ
って摩耗されるため、これに耐える耐摩耗強度を有する
ことが必要である。一方、固定床反応器に用いる場合は
、触媒層の圧力損失を減らすため、一般に柱状、球状、
あるいはベレット状に成形した触媒が用いられるが、反
応中に触媒が破砕、粉化すると、触媒層に圧力損失を生
じ運転の継続が困難となるため、充分な触媒強度、こと
に反応雰囲気下に長時間さらされたときに充分な触媒強
度を有することが不可欠である。
本発明におけろ触媒の原料として、マンガンの硝酸塩、
炭酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、水酸化物、マンガン酸化物等
が用いられる。
炭酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、水酸化物、マンガン酸化物等
が用いられる。
またシリカ源としてはシリカゾルを用いることが好適で
ある。
ある。
触媒の調製法
臥)流動床用触媒の調製法の例
原料の調整は硝酸マンガンを適当量の水で希釈し、シリ
カゾルを加えることによって好適に行うことができる。
カゾルを加えることによって好適に行うことができる。
次いで、原料液を公知の噴霧乾燥装置を用いて乾燥する
ことにより、球状の乾燥微粒子として得られる。
ことにより、球状の乾燥微粒子として得られる。
原料液の噴霧化は、通常工業的実施に用いられる遠心方
式、二流体ノズル方式あるいは高圧ノズル方式のいずれ
によっても行いうるが、特に遠心方式が好適である。粒
子径は遠心方式においてはディスクの回転速度およびヌ
シリーの供給速度を調節することによって、流動層反応
器に用いるに適シた10〜150ミクロンの間に分布さ
せることかできる。
式、二流体ノズル方式あるいは高圧ノズル方式のいずれ
によっても行いうるが、特に遠心方式が好適である。粒
子径は遠心方式においてはディスクの回転速度およびヌ
シリーの供給速度を調節することによって、流動層反応
器に用いるに適シた10〜150ミクロンの間に分布さ
せることかできる。
最後に該乾燥品は、通常のトンネル型あるいはロータリ
ー型のキルンを用いて熱処理焼成される。
ー型のキルンを用いて熱処理焼成される。
叫固定用触媒の調製法の例
二酸化マンガンを粉砕したのちシリカゾルを加え、よく
混練し適当な形に成型する。
混練し適当な形に成型する。
あるい&j−IAIの流動床用触媒の調製法で述べた噴
霧乾燥粒子を低温で脱硝した粒子にシリカゾルを加え、
よ(混練し適当な形に成型することもできる。
霧乾燥粒子を低温で脱硝した粒子にシリカゾルを加え、
よ(混練し適当な形に成型することもできる。
この成形品を通常のトンネルをキルンを用いて熱処理焼
成される。
成される。
本発明の場合、供給原料中のフェノールまたは/オヨヒ
オルトクレゾールに対するメタノールの比は1:1〜2
0、好ましくは1:2〜1oである。また、水蒸気また
は不活性ガスは必要に応じ導入することもできる。反応
温度は:300〜5oo℃、好ましくは350〜450
℃の範囲が適している。
オルトクレゾールに対するメタノールの比は1:1〜2
0、好ましくは1:2〜1oである。また、水蒸気また
は不活性ガスは必要に応じ導入することもできる。反応
温度は:300〜5oo℃、好ましくは350〜450
℃の範囲が適している。
反応の圧力は常圧でもよいが、必要に応じて減圧または
加圧下でも実施できる。ガスと触媒との接触時間は()
5〜50秒、好呼しくは1〜20秒が適している。
加圧下でも実施できる。ガスと触媒との接触時間は()
5〜50秒、好呼しくは1〜20秒が適している。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例中のフェノール転化率、選択率は次式によって定
義されるものである。なお、オルトクレゾールの場合も
同様である。
義されるものである。なお、オルトクレゾールの場合も
同様である。
実施例1
市販の二酸化マンガンを粉砕したものを33g−とり、
これに30重量%の5i02を含むシリカゾル(日照化
学製スノーテックスN)10047’を加え、よ(混練
し、成形が可能な適当な水分濃度に調節したのち、直径
51、長さ51o+の円柱状に成型した。これを100
℃で12時間乾燥させたのち、800℃で3時間焼成し
た。
これに30重量%の5i02を含むシリカゾル(日照化
学製スノーテックスN)10047’を加え、よ(混練
し、成形が可能な適当な水分濃度に調節したのち、直径
51、長さ51o+の円柱状に成型した。これを100
℃で12時間乾燥させたのち、800℃で3時間焼成し
た。
本触媒6ccを内径が2cIILのガラス製反応管に充
てんし、反応温度を400℃、圧力を大気圧に保ち、こ
の中にフェノールとメタノールのモル比が1=8の原料
液を蒸発器を通して導入した。このとき原料ガスと触媒
との接触時間が3.5秒となるように流量を調節し、反
応を48時間継続させた。
てんし、反応温度を400℃、圧力を大気圧に保ち、こ
の中にフェノールとメタノールのモル比が1=8の原料
液を蒸発器を通して導入した。このとき原料ガスと触媒
との接触時間が3.5秒となるように流量を調節し、反
応を48時間継続させた。
48時間目に反応器から流出するガスを全量#Mさせ、
凝縮液をガスクロマトグラフィーで分析した。この結果
を表]に示す。
凝縮液をガスクロマトグラフィーで分析した。この結果
を表]に示す。
また、反応後、触媒を取り出し、16メツシユのふるい
でふるい、全体の重量に対する網目を通過したものの割
合を粉化率と定義すると、本触媒の粉化率は0.1%以
下であった。
でふるい、全体の重量に対する網目を通過したものの割
合を粉化率と定義すると、本触媒の粉化率は0.1%以
下であった。
なお反応前および反応後の触媒をX線回折装置で調べた
ところ、前者はMn2O3、後者はMnOの結晶形態を
有していた。
ところ、前者はMn2O3、後者はMnOの結晶形態を
有していた。
比較例1〜2
実施例1とはぼ同様な方法によって、アルミナ担持触媒
、ベントナイト担持触媒を調製し、実施例1と同一の装
置を用い、反応温度以外は同一条件で反応試験を行った
。
、ベントナイト担持触媒を調製し、実施例1と同一の装
置を用い、反応温度以外は同一条件で反応試験を行った
。
たyし、アルミナは20JiE量%アルミナゾル(8産
化学製)を用い、ベントナイトは久木田製薬製化学用を
用いた。試験結果を表1に示す。
化学製)を用い、ベントナイトは久木田製薬製化学用を
用いた。試験結果を表1に示す。
比較例3
10〜2oメツシユの活性アルミナ(西尾T業製)35
Iに硝酸マンガン(Mn(NO3)2・6H20、和元
純薬製特級)11?を含浸し300℃で1時間加熱した
。上記の含浸・加熱操作を4回繰り返し、さらに750
℃で3時間焼成した。
Iに硝酸マンガン(Mn(NO3)2・6H20、和元
純薬製特級)11?を含浸し300℃で1時間加熱した
。上記の含浸・加熱操作を4回繰り返し、さらに750
℃で3時間焼成した。
これを実施例1と同一の装置を用い、反応温度を380
℃とした以外は実施例1と同一条件で反応試験を行った
。試験結果を表1に示す。
℃とした以外は実施例1と同一条件で反応試験を行った
。試験結果を表1に示す。
(以下余色)
比較例4
実施例1とほぼ同様な方法によって、
叶いそう土担持およびシリコンカーバイト担持した成型
触媒を調製した。この触媒を実施例1と同一装置を用い
、同一条件で反応を行った。反応後の触媒の粉化率は、
けいそう土相持触媒は7%、シリコンカーバイト触媒は
10%であり、反応中に触媒の粉化が起り、工業的使用
は困難であると判定された。
触媒を調製した。この触媒を実施例1と同一装置を用い
、同一条件で反応を行った。反応後の触媒の粉化率は、
けいそう土相持触媒は7%、シリコンカーバイト触媒は
10%であり、反応中に触媒の粉化が起り、工業的使用
は困難であると判定された。
比較例5
市販の二酸化マンガンを粉砕したのち、少量の水を添加
し、油圧プレス機で直径5關、長さ5m+の円柱状に成
形し、100℃で12時間乾燥させたのち750℃で3
時間焼成した。この触媒な実施例1と同一の装置を用い
、同一条件で反応を行った。
し、油圧プレス機で直径5關、長さ5m+の円柱状に成
形し、100℃で12時間乾燥させたのち750℃で3
時間焼成した。この触媒な実施例1と同一の装置を用い
、同一条件で反応を行った。
反応後の触媒の粉化率は18%であった。
実施例2
硝酸−r7ガ7 (Mn(NOa)t・6RtO) 3
27 gに純水450?を加えた溶液に60重量%の濃
硝酸数meな添加しP Mを10に調整した3ON量%
の5i02を含むシリカゾル(日照化学製スノーテツク
ヌN)3005/を加えることによって得られる原料液
を並流式の噴霧乾燥器に送り乾燥した。得られた乾燥粉
末を、トンネル型キルンな用い、350℃で2時間予備
焼成したのち、800℃で3時間焼成を行った。この触
媒の表面積をBET法で測定すると87mン2であり、
電子顕微鏡の観察から流動床法に適した球状を有してい
た。
27 gに純水450?を加えた溶液に60重量%の濃
硝酸数meな添加しP Mを10に調整した3ON量%
の5i02を含むシリカゾル(日照化学製スノーテツク
ヌN)3005/を加えることによって得られる原料液
を並流式の噴霧乾燥器に送り乾燥した。得られた乾燥粉
末を、トンネル型キルンな用い、350℃で2時間予備
焼成したのち、800℃で3時間焼成を行った。この触
媒の表面積をBET法で測定すると87mン2であり、
電子顕微鏡の観察から流動床法に適した球状を有してい
た。
又、本触媒について耐摩耗試験な行った。耐摩耗試験は
通常FCC触媒の試験方法として行なわれているように
、底部に1i64インチの三つのオリフィスを有する有
孔円板を備えた内径1.5インチの垂直チューブに、触
媒約50ffを精秤投入し、有孔円板を通して毎時15
立方フイートの速度で空気を流し、激しく流動させた。
通常FCC触媒の試験方法として行なわれているように
、底部に1i64インチの三つのオリフィスを有する有
孔円板を備えた内径1.5インチの垂直チューブに、触
媒約50ffを精秤投入し、有孔円板を通して毎時15
立方フイートの速度で空気を流し、激しく流動させた。
触媒の摩耗度を5〜20時間の間に微細化して、垂直チ
ューブの上部から逸散した触媒の重量の、初期投入量に
対する割合として求めた結果19%であり、流動床反応
にも十分耐える強度を有していることがわかつた。
ューブの上部から逸散した触媒の重量の、初期投入量に
対する割合として求めた結果19%であり、流動床反応
にも十分耐える強度を有していることがわかつた。
本触媒300y−を直径が1.5インチの流動床反応器
に投入し、反応温度を400〜405℃、圧力は大気圧
に保ち、フェノールとメタノールの比が1:8の原料液
を蒸発器を通して反応器に導入した。
に投入し、反応温度を400〜405℃、圧力は大気圧
に保ち、フェノールとメタノールの比が1:8の原料液
を蒸発器を通して反応器に導入した。
このとき原料ガスと触媒との接触時間が60秒となるよ
うに流量を調節した。
うに流量を調節した。
反応器から流出するガスを全量凝縮器に通して凝縮した
液をガスクロマトグラフィーで分析した。
液をガスクロマトグラフィーで分析した。
この反応は120時間連続して行った。この反応結果を
表2に示す。
表2に示す。
又反応終了後の触媒について耐摩耗試験を行った結果2
.0%であり、反応中において耐摩耗強度の低下は認め
られなかった。
.0%であり、反応中において耐摩耗強度の低下は認め
られなかった。
表 2
実施例3−8.比較例6〜9
24〜120時間継続して行った。反応成績および触媒
の耐摩耗試験結果を表3に示す。
の耐摩耗試験結果を表3に示す。
なお、実施例中のMgおよびCe源は硝酸塩を使用した
。
。
(以下余色)
実施例9
実施例2で用いた触媒を使用して、実施例1と同一の反
応装置によって、オルトクレゾールとメタノールの反応
を行った。このとき反応温度は380℃、圧力は大気圧
、オルトクレゾールとメタノールと水のモル比を1:3
:3とし、接触時間は5秒に保った。24時間反応を継
続したあとの反応成績は、オルトクレゾールの転化率は
987%であり、2.6−キシレノールの選択率は97
9%であった。
応装置によって、オルトクレゾールとメタノールの反応
を行った。このとき反応温度は380℃、圧力は大気圧
、オルトクレゾールとメタノールと水のモル比を1:3
:3とし、接触時間は5秒に保った。24時間反応を継
続したあとの反応成績は、オルトクレゾールの転化率は
987%であり、2.6−キシレノールの選択率は97
9%であった。
特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- フェノールまたは/およびオルトクレゾールとメタノー
ルとを気相接触させてオルト位メチル化フェノール化合
物を製造するに当り、550℃以上の温度で焼成され、
10〜80重量%のシリカに担持されたマンガン酸化物
を主体とする触媒を使用することを特徴とするオルト位
メチル化フェノール化合物の製造方法
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57152675A JPS5942332A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法 |
US06/521,205 US4517389A (en) | 1982-08-10 | 1983-08-08 | Process for methylating the ortho position of a phenol |
DE8383201181T DE3367586D1 (en) | 1982-08-10 | 1983-08-10 | A process for methylating the ortho position of a phenol |
EP83201181A EP0101138B1 (en) | 1982-08-10 | 1983-08-10 | A process for methylating the ortho position of a phenol |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57152675A JPS5942332A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5942332A true JPS5942332A (ja) | 1984-03-08 |
Family
ID=15545645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57152675A Pending JPS5942332A (ja) | 1982-08-10 | 1982-09-03 | フエノ−ルまたは/およびオルトクレゾ−ルのオルトメチル化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5942332A (ja) |
-
1982
- 1982-09-03 JP JP57152675A patent/JPS5942332A/ja active Pending
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