JPS5938957B2 - シラトラン誘導体の合成法 - Google Patents
シラトラン誘導体の合成法Info
- Publication number
- JPS5938957B2 JPS5938957B2 JP10417376A JP10417376A JPS5938957B2 JP S5938957 B2 JPS5938957 B2 JP S5938957B2 JP 10417376 A JP10417376 A JP 10417376A JP 10417376 A JP10417376 A JP 10417376A JP S5938957 B2 JPS5938957 B2 JP S5938957B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシラトラン誘導体の新規な合成法に関する。
更に詳しくは本発明は下記一般式で示されるシラトラン
誘導体を相応するオルガノトリヒト口シランとトリアル
カノールアミンとの反応によつて合成する方法に関する
。（但し、Ｒは置換もしくは非置換のアルキル基、置換
もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換の
アリール基叉は置換もしくは非置換のアラルキル基を示
し、Ｒ（Ｒ汲びＲ５２は水素又はメチル基を示す）。
誘導体を相応するオルガノトリヒト口シランとトリアル
カノールアミンとの反応によつて合成する方法に関する
。（但し、Ｒは置換もしくは非置換のアルキル基、置換
もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換の
アリール基叉は置換もしくは非置換のアラルキル基を示
し、Ｒ（Ｒ汲びＲ５２は水素又はメチル基を示す）。
上記一般式表示のシラトラン誘導体はそれ自身興昧ある
生物学的活性作用を示し抗菌剤等として有用であり、と
りわけ混血動物、特に編歯類に対する毒性を有しＲがｐ
−クロロフエニル基、ｐトリル基であるところのシラト
ラン誘導体は殺鼠剤として有用である。
生物学的活性作用を示し抗菌剤等として有用であり、と
りわけ混血動物、特に編歯類に対する毒性を有しＲがｐ
−クロロフエニル基、ｐトリル基であるところのシラト
ラン誘導体は殺鼠剤として有用である。
シラトラン誘導体の合成法として例えばオルガノトリク
ロロシランの加水分解生成物であるポリオルガノシロキ
サン（ＲＳｉＯｌ，５）ｘ１〔ＲＳｌＯｌ．５−２ｙ（
０Ｈ）２ｙ〕ｘ（ｙ−０−１．５）を用い、これをトリ
アルカノールアミンとを苛性アルカリ触媒の存在下に反
応させる方法が知られているが、この公知方法では触媒
として苛性アルカリを使用するため生成したシラトラン
誘導体のＲ−Ｓｉ結合が切れやすく収率の低下を来たす
危険性があり、これを避けるためにはかなり厳密な反応
条件下で実施する必要がある上に、苛性アルカリ触媒の
共存は副反応を招来させ、生成物の単離、精製操作を困
難ならしめるため、工業的には必ずしも有利な方法とは
云えない。
ロロシランの加水分解生成物であるポリオルガノシロキ
サン（ＲＳｉＯｌ，５）ｘ１〔ＲＳｌＯｌ．５−２ｙ（
０Ｈ）２ｙ〕ｘ（ｙ−０−１．５）を用い、これをトリ
アルカノールアミンとを苛性アルカリ触媒の存在下に反
応させる方法が知られているが、この公知方法では触媒
として苛性アルカリを使用するため生成したシラトラン
誘導体のＲ−Ｓｉ結合が切れやすく収率の低下を来たす
危険性があり、これを避けるためにはかなり厳密な反応
条件下で実施する必要がある上に、苛性アルカリ触媒の
共存は副反応を招来させ、生成物の単離、精製操作を困
難ならしめるため、工業的には必ずしも有利な方法とは
云えない。
更に又、苛性アルカリ触媒下での反応は、アルカリ性で
分解され易い置換基（例えばハロゲン化アリール基等）
がＳｉ原子と結合したシラトラン化合物を合成する目的
には適用し得ない。本発明者は苛性アルカリ触媒を全く
使用せずに簡易で効果的なシラトラン誘導体の合成法を
確立すべく鋭意検討した結果、一般式（１）置換もしく
は非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリー
ノレ基又は置換もしくは非置換のアラルキル基を示す）
にて表示されるオルガノトリヒドロシランと一般式（）
（但し、ＲＩ．Ｒ汲びｒ′は水素又はメチル基を示す）
にて表示されるトリアルカノールアミンとを単に有機溶
媒中で反応させることによつて目的とするシラトラン誘
導体が得られることそしてコバルトカルボニル触媒下で
反応させた場合は反応が速やかに進行し、多官能基の縮
合に散見されるポリマーを生成することなく目的物が好
収率にて得られることを見出し、本発明を完成するに至
つた。
分解され易い置換基（例えばハロゲン化アリール基等）
がＳｉ原子と結合したシラトラン化合物を合成する目的
には適用し得ない。本発明者は苛性アルカリ触媒を全く
使用せずに簡易で効果的なシラトラン誘導体の合成法を
確立すべく鋭意検討した結果、一般式（１）置換もしく
は非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリー
ノレ基又は置換もしくは非置換のアラルキル基を示す）
にて表示されるオルガノトリヒドロシランと一般式（）
（但し、ＲＩ．Ｒ汲びｒ′は水素又はメチル基を示す）
にて表示されるトリアルカノールアミンとを単に有機溶
媒中で反応させることによつて目的とするシラトラン誘
導体が得られることそしてコバルトカルボニル触媒下で
反応させた場合は反応が速やかに進行し、多官能基の縮
合に散見されるポリマーを生成することなく目的物が好
収率にて得られることを見出し、本発明を完成するに至
つた。
本発明に於て原料として使用される一般式（１）表示の
オルガノトリヒドロシランは例えば対応するオルガノト
リクロロシランを水素化アルミニウムアルカリ、水素化
硼素アルカリ等の還元剤で処理する公知方法によつて容
易に得ることができる。一般式（１）中、Ｒは次の如き
ものが挙げられる。アルキル基、アルケニル基：炭素数
１〜１８の直鎖もしくは分岐状の飽和又は不飽和の炭化
水素基で、これらの炭化水素基は更にハロゲン、アミノ
基、水酸基等で置換されていてもよい。
オルガノトリヒドロシランは例えば対応するオルガノト
リクロロシランを水素化アルミニウムアルカリ、水素化
硼素アルカリ等の還元剤で処理する公知方法によつて容
易に得ることができる。一般式（１）中、Ｒは次の如き
ものが挙げられる。アルキル基、アルケニル基：炭素数
１〜１８の直鎖もしくは分岐状の飽和又は不飽和の炭化
水素基で、これらの炭化水素基は更にハロゲン、アミノ
基、水酸基等で置換されていてもよい。
アリール基：フエニル基又はハロゲン、トリフルオルメ
チル、低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、アミノ
、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ等の１種
叉は２種以上の置換基を有するフエニル基を意味する。
チル、低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、アミノ
、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ等の１種
叉は２種以上の置換基を有するフエニル基を意味する。
アラルキル基：１個又はそれ以上の水素が上記アリール
基（置換アリール基を含む）で置換された低級アルキル
基を意味する。
基（置換アリール基を含む）で置換された低級アルキル
基を意味する。
その代表例はベンジル基である。好適なオルガノトリヒ
ドロシランの例としてメチルトリヒドロシラン、ブチル
トリヒドロシラン、オクチルトリヒドロシラン、ビニル
トリヒドロシラン、フエニルトリヒドロシラン、ｐ−メ
トキシフエニルトリヒドロシラン、モノクロルフエニル
トリヒドロシラン、ｍ−トリフルオルメチルフエニルト
リヒドロシラン、ｐ−Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノフエニル
トリヒドロシラン、ｐ−トリルトリヒドロシラン、ベン
ジルトリヒドロシラン、ｐ一メチルベンジルトリヒドロ
シラン等が挙げられる。
ドロシランの例としてメチルトリヒドロシラン、ブチル
トリヒドロシラン、オクチルトリヒドロシラン、ビニル
トリヒドロシラン、フエニルトリヒドロシラン、ｐ−メ
トキシフエニルトリヒドロシラン、モノクロルフエニル
トリヒドロシラン、ｍ−トリフルオルメチルフエニルト
リヒドロシラン、ｐ−Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノフエニル
トリヒドロシラン、ｐ−トリルトリヒドロシラン、ベン
ジルトリヒドロシラン、ｐ一メチルベンジルトリヒドロ
シラン等が挙げられる。
なお一方の原料物質である一般式（）表示のトリアルカ
ノールアミンとしてトリエタノールアミン、イソプロパ
ノールジエタノールアミン、ジイソプロパノールエタノ
ールアミンおよびトリインプロパノールアミンが挙げら
れる。本発明を実施するに当つて、トリアルカノールア
ミンに対して１〜１．２倍モルのオルガノトリヒドロシ
ランを用いて、両原料物質に対して不活性な有機溶媒中
、コバルトカルボニル触媒の存在下または無触媒下に反
応させることにより行われる。
ノールアミンとしてトリエタノールアミン、イソプロパ
ノールジエタノールアミン、ジイソプロパノールエタノ
ールアミンおよびトリインプロパノールアミンが挙げら
れる。本発明を実施するに当つて、トリアルカノールア
ミンに対して１〜１．２倍モルのオルガノトリヒドロシ
ランを用いて、両原料物質に対して不活性な有機溶媒中
、コバルトカルボニル触媒の存在下または無触媒下に反
応させることにより行われる。
不活性な有機溶媒として例えばベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭化水素、エーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル型液体、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の塩素化炭化水素等が挙げられ
る。コバルトカルボニル触媒の使用量については、通常
オルガノトリヒドロシランに対して０．１〜１０モル％
が用いられる。
シレン等の炭化水素、エーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル型液体、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の塩素化炭化水素等が挙げられ
る。コバルトカルボニル触媒の使用量については、通常
オルガノトリヒドロシランに対して０．１〜１０モル％
が用いられる。
反応は室温ないし反応混合物の還流温度の範囲内の温度
において行うことができる。
において行うことができる。
また、この反応ぱ大気圧または大気圧以上の圧力で行う
ことができる。無触媒下で反応を行つた場合には２０〜
９０時間の比較的長い反応時間を要するが、コバルトカ
ルボニルの触媒下では反応は速やかに進行し、無触媒で
の反応に比して１／１５〜１／２の短縮された反応時間
で、目的物を６５〜９３％の好収率で得ることができる
。
ことができる。無触媒下で反応を行つた場合には２０〜
９０時間の比較的長い反応時間を要するが、コバルトカ
ルボニルの触媒下では反応は速やかに進行し、無触媒で
の反応に比して１／１５〜１／２の短縮された反応時間
で、目的物を６５〜９３％の好収率で得ることができる
。
反応終了後、反応混合物から溶媒、触媒を除去し、得ら
れる残渣を必要に応じて結晶イＬ昇華等の通常の方法に
よつて高純度の目的物を単離取得することができる。
れる残渣を必要に応じて結晶イＬ昇華等の通常の方法に
よつて高純度の目的物を単離取得することができる。
以下実施例により具体的に説明するが、本発明はこれに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
ク
ノ
実施例 １
ドライアイス還流冷却管、滴下ロードおよびガス導入管
を備えた５０ａ容三口ナス形フラスコに窒素雰囲気下ト
リエタノールアミン２．９８ｔ（２０ミリモル）および
塩化メチレン３０ｄを入れ、これに攪拌下オクタカルボ
ニルコバルトの塩化メチレン溶液１．６ｄ（０．２ミリ
モル）を加え、次いでメチルトリヒドロシラン０．９２
７（２０ミリモル）をガス導入管を用いてゆつくりと導
入した。
を備えた５０ａ容三口ナス形フラスコに窒素雰囲気下ト
リエタノールアミン２．９８ｔ（２０ミリモル）および
塩化メチレン３０ｄを入れ、これに攪拌下オクタカルボ
ニルコバルトの塩化メチレン溶液１．６ｄ（０．２ミリ
モル）を加え、次いでメチルトリヒドロシラン０．９２
７（２０ミリモル）をガス導入管を用いてゆつくりと導
入した。
室温で１０時間反応させた後、塩化メチレンを減圧下に
溜去し、得られた粗結晶をクロロホルム一四塩化炭素（
１：１）混合溶媒より再結晶した。メチルシラトランの
収量３．５２ｙ（収率９３％）、融点１５１〜１５２℃
。実施例 ２ 還流冷却管と滴下ロードを備えた５０ｄ容二ロナス形フ
ラスコに窒素雰囲気下トリエタノールアミン２．９８ｆ
７（２０ミリモル）および塩化メチレン３０ｄを入れ、
これに攪拌下オクタカルボニルコバルトの塩化メチレン
溶液（０．１３モル／ｌ）を１．６ｒ１Ｌ１（０．２ミ
リモル）を加え、次いでオクチルトリヒドロシラン２．
８９７（２０ミリモル）を滴下し油浴中で加熱し、ゆつ
くりと還流させた。
溜去し、得られた粗結晶をクロロホルム一四塩化炭素（
１：１）混合溶媒より再結晶した。メチルシラトランの
収量３．５２ｙ（収率９３％）、融点１５１〜１５２℃
。実施例 ２ 還流冷却管と滴下ロードを備えた５０ｄ容二ロナス形フ
ラスコに窒素雰囲気下トリエタノールアミン２．９８ｆ
７（２０ミリモル）および塩化メチレン３０ｄを入れ、
これに攪拌下オクタカルボニルコバルトの塩化メチレン
溶液（０．１３モル／ｌ）を１．６ｒ１Ｌ１（０．２ミ
リモル）を加え、次いでオクチルトリヒドロシラン２．
８９７（２０ミリモル）を滴下し油浴中で加熱し、ゆつ
くりと還流させた。
３０時間後、塩化メチレンを減圧下に溜去し、得られた
粗結晶を二硫化炭素より再結晶した。
粗結晶を二硫化炭素より再結晶した。
オクチルシラトランの収量５．３ｆ（収率９２．２％）
、融点７１〜７２℃。上記方法に於て、オクタカルボニ
ルコバルト触媒の不存在下で反応させた場合、またオク
チルトリヒドロシランの代りに７エニルトリヒドロシラ
ン、ベンジルトリヒドロシラン、ｐ−クロルフエニルト
リヒドロシラン、ｐ−メトキシフエニルトリヒドロシラ
ン、ｐ−Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノフエニルトリヒドロシ
ラン、ｐ−トリルフエニルトリヒドロシラン、ｍ−トリ
フルオルメチルフエニルトリヒドロシランまたはｐ−メ
チルベンジルトリヒドロシランを用いてトリエタノール
アミンとをオクタカルボニルコバルト触媒の存在下また
は不存在下に反応させた場合についての反応条件および
得られた結果を併せて下記表に示した。
、融点７１〜７２℃。上記方法に於て、オクタカルボニ
ルコバルト触媒の不存在下で反応させた場合、またオク
チルトリヒドロシランの代りに７エニルトリヒドロシラ
ン、ベンジルトリヒドロシラン、ｐ−クロルフエニルト
リヒドロシラン、ｐ−メトキシフエニルトリヒドロシラ
ン、ｐ−Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノフエニルトリヒドロシ
ラン、ｐ−トリルフエニルトリヒドロシラン、ｍ−トリ
フルオルメチルフエニルトリヒドロシランまたはｐ−メ
チルベンジルトリヒドロシランを用いてトリエタノール
アミンとをオクタカルボニルコバルト触媒の存在下また
は不存在下に反応させた場合についての反応条件および
得られた結果を併せて下記表に示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（ I ） ＲＳｉＨ＿３（ I ） （但し、Ｒは置換もしくは非置換のアルキル基、置換も
しくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のア
リール基又は置換もしくは非置換のアラルキル基を示す
）で示されるオルガノトリヒドロシランと一般式（II）
▲数式、化学式、表等があります▼（II）（但し、Ｒ′
、Ｒ″及びＲ″′は水素又はメチル基を示す）で示され
るトリアルカノールアミンとを有機溶媒中で反応させる
ことを特徴とする一般式（III）▲数式、化学式、表等
があります▼（III）（但し、Ｒ、Ｒ′、Ｒ″、Ｒ′″
は前記と同じ意味を有する。 ）で示されるシラトラン誘導体の合成法。 ２ 一般式（ I ） ＲＳｉＨ＿３（ I ） （但し、Ｒは置換もしくは非置換のアルキル基、置換も
しくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のア
リール基又は置換もしくは非置換のアラルキル基を示す
）で示されるオルガノトリヒドロシランと一般式（II）
▲数式、化学式、表等があります▼（II）（但し、Ｒ、
Ｒ″及びＲ′″は水素又はメチル基を示す）で示される
トリアルカノールアミンとを有機溶媒中、コバルトカル
ボニル触媒の存在下に反応させることを特徴とする一般
式（III）▲数式、化学式、表等があります▼（III）（
但し、Ｒ、Ｒ′、Ｒ″及びＲ′″は前記と同じ意味を有
する）で示されるシラトラン誘導体の合成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10417376A JPS5938957B2 (ja) | 1976-08-31 | 1976-08-31 | シラトラン誘導体の合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10417376A JPS5938957B2 (ja) | 1976-08-31 | 1976-08-31 | シラトラン誘導体の合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5331689A JPS5331689A (en) | 1978-03-25 |
| JPS5938957B2 true JPS5938957B2 (ja) | 1984-09-20 |
Family
ID=14373626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10417376A Expired JPS5938957B2 (ja) | 1976-08-31 | 1976-08-31 | シラトラン誘導体の合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5938957B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5064613A (en) * | 1989-11-03 | 1991-11-12 | Dow Corning Corporation | Solid antimicrobial |
| DE69816395T2 (de) * | 1997-10-13 | 2004-05-13 | Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. | Silatranderivate und diese enthaltende härtbare Silikonzusammensetzungen |
| JP4755330B2 (ja) * | 2000-09-26 | 2011-08-24 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | オルガノポリシロキサン、およびその製造方法 |
-
1976
- 1976-08-31 JP JP10417376A patent/JPS5938957B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5331689A (en) | 1978-03-25 |
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