JPS5938210B2 - フエノ−ル及び水との走合物からクメン/α−メチルスチレン留分の回収方法 - Google Patents
フエノ−ル及び水との走合物からクメン/α−メチルスチレン留分の回収方法Info
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- JPS5938210B2 JPS5938210B2 JP57106965A JP10696582A JPS5938210B2 JP S5938210 B2 JPS5938210 B2 JP S5938210B2 JP 57106965 A JP57106965 A JP 57106965A JP 10696582 A JP10696582 A JP 10696582A JP S5938210 B2 JPS5938210 B2 JP S5938210B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルキル一置換芳香族炭化水素のα一ヒドロパ
ーオキシ誘導体の酸分解によるフェノール類の製造に関
する。
ーオキシ誘導体の酸分解によるフェノール類の製造に関
する。
詳しくは、本発明はクメンヒドロパーオキシドの酸分解
によるフェノール類の製造に関する。一般に、フェノー
ル類はアルキル一置換芳香族炭化水素、好ましくは第二
アルキルー置換芳香族炭化水素の酸化、これに続く得ら
れたα−ヒドロパーオキシ誘導体の酸分解によつて製造
される。
によるフェノール類の製造に関する。一般に、フェノー
ル類はアルキル一置換芳香族炭化水素、好ましくは第二
アルキルー置換芳香族炭化水素の酸化、これに続く得ら
れたα−ヒドロパーオキシ誘導体の酸分解によつて製造
される。
この酸分解は、典型的には、水溶性の酸、少くとも70
%硫酸が好ましいけれども、通常は50〜98%硫酸水
溶液によつて行われる。その他の適当な水溶性の酸は塩
酸または過塩素酸水溶液である。この酸分解反応混合物
はフェノール類、ケトン類、水及び未反応アルキル一置
換芳香族炭化水素を含む。本発明は、特に、クメンの空
気酸化これに続く得られたクメンヒドロパーオキシドの
硫酸分解によつてフエノ一ルを製造する方法に関する。
%硫酸が好ましいけれども、通常は50〜98%硫酸水
溶液によつて行われる。その他の適当な水溶性の酸は塩
酸または過塩素酸水溶液である。この酸分解反応混合物
はフェノール類、ケトン類、水及び未反応アルキル一置
換芳香族炭化水素を含む。本発明は、特に、クメンの空
気酸化これに続く得られたクメンヒドロパーオキシドの
硫酸分解によつてフエノ一ルを製造する方法に関する。
フエノ一ル及びアセトンの主生成物のほかに、この酸分
解反応混合物はさらにいろいろな量の副生成物、主にα
−メチルスチレン、蚊に未反応クメンを含む。酸分解反
応混合物からフエノ一ルを回収する方法に卦いては、最
初に、この反応混合物を、直接カセイアルカリの添加に
よるかあるいはイオン交換樹脂との接触によつて間接的
に中和する。
解反応混合物はさらにいろいろな量の副生成物、主にα
−メチルスチレン、蚊に未反応クメンを含む。酸分解反
応混合物からフエノ一ルを回収する方法に卦いては、最
初に、この反応混合物を、直接カセイアルカリの添加に
よるかあるいはイオン交換樹脂との接触によつて間接的
に中和する。
いづれにしても、中和した反応混合物は、フエノ一ルよ
り沸点の低い物質の粗分離を行う条件に訃いて、通常粗
アセトン塔と称する蒸留塔に供給し、それによつて実質
的にすべてのアセトン及び低沸点副生物拉に大部分の水
及び未反応クメンから成るオーバーヘツド留分が回収さ
れる。次に、さらに粗アセトン塔オーバーヘツドの蒸留
によつてアセトンが回収され、クメンはプロセスの酸化
相に再循還する。粗アセトン塔から回収されたフエノ一
ル及びαメチルスチレン蚊に水及び未反応クメンの残り
からなるボトム(塔底)留分は典型的には重質残留物の
分離のために処理を行い、その後通常クメン塔と称する
蒸留塔に供給する。
り沸点の低い物質の粗分離を行う条件に訃いて、通常粗
アセトン塔と称する蒸留塔に供給し、それによつて実質
的にすべてのアセトン及び低沸点副生物拉に大部分の水
及び未反応クメンから成るオーバーヘツド留分が回収さ
れる。次に、さらに粗アセトン塔オーバーヘツドの蒸留
によつてアセトンが回収され、クメンはプロセスの酸化
相に再循還する。粗アセトン塔から回収されたフエノ一
ル及びαメチルスチレン蚊に水及び未反応クメンの残り
からなるボトム(塔底)留分は典型的には重質残留物の
分離のために処理を行い、その後通常クメン塔と称する
蒸留塔に供給する。
このクメン塔は水、クメン及びα−メチルスチレンから
成るオーバーヘツド留分を高沸点フエノ一ル生成物から
分離する条件で操作される。ボトム留分から回収された
フエノ一ルはさらにある不純物、例えばメシチルオキシ
ド、オキシアセトンなどを含み、そしてこの不純物はさ
らに蒸留でフエノ一ル生成物から分離される。クメン塔
から回収されたオーバーヘツド留分は常にα−メチルス
チレン及び未反応クメンを混合したフエノ一ルと水との
共沸混合物から成る。
成るオーバーヘツド留分を高沸点フエノ一ル生成物から
分離する条件で操作される。ボトム留分から回収された
フエノ一ルはさらにある不純物、例えばメシチルオキシ
ド、オキシアセトンなどを含み、そしてこの不純物はさ
らに蒸留でフエノ一ル生成物から分離される。クメン塔
から回収されたオーバーヘツド留分は常にα−メチルス
チレン及び未反応クメンを混合したフエノ一ルと水との
共沸混合物から成る。
α一メチルスチレンは有用な副生成物として分離回収で
きるが、しばしば水素化を施し、プロセスの上記酸化段
階に再循還するため未反応クメンと混合してクメンに還
元する。クメン塔からのオーバーヘツド留分には、可成
りの量のフエノ一ルが主として簡単な蒸留では除くこと
が困難なフエノールー水共沸混合物として回収される。
フエノ一ルは強力な酸化抑制剤としてよく知られている
ので、プロセスの酸化相に再循還する前に実質的にすべ
てのフエノ一ルがクメンから分離されねばならない。こ
れは、従来は、クメン塔からのオーバーヘツド留分に可
成りの容量のカセイアルカリを含むカセイ洗滌を施すこ
とによつて達成されてきた。本発明の目的はフエノ一ル
との混合物からクメン及びα−メチルスチレンを分離し
それによつて実質的にフエノ一ルの減少したクメン/α
−メチルスチレンを最小のカセイ洗滌で回収する改良さ
れた方法を提供することである。その広い態様の1つに
あ・いて、本発明は、(a)第ニアルキルベンゼン及び
対応する第二モノアルケニルベンゼンとフエノ一ル及び
水との混合物を中間レベルに訃いて精留塔に導入し、該
塔は該第二アルキルベンゼンと該第二モノアルケニルベ
ンゼンとから成るオーバーヘツド留分と該フエノ一ルか
ら成るボトム留分とを分離する条件で操作される:(b
)該オーバーヘツド留分の1部分を回収し、その他の部
分を還流として該塔にもどし:(c)該塔に卦いて上記
中間レベルより上のレベルから蒸気の流れを取り出し、
該蒸気の流れは該第二アルキルベンゼンと該第二アルケ
ニルベンゼンの少くとも1部分と該フエノ一ルと水との
共沸混合物から成る;(d)該蒸気の流れを凝縮し有機
相と該フエノールから成る水性相を形成し;(e)該水
性相を放出し、該有機相を該塔に、該蒸気の流れが取り
出されるレベルよりも上位で、該第二アルキルベン/第
二アルケニルベンゼン留分が該塔に還流としてもどされ
るレベルよりも下位のレベルに再循還し、該有機相は蒸
気相条件を維持する条件において該塔に再循還される、
段階から成るそのフエノ一ルとの混合物から第二アルキ
ルベンゼン及び対応する第二モノアルケニルベンから成
る留分を回収する方法を具体化する。
きるが、しばしば水素化を施し、プロセスの上記酸化段
階に再循還するため未反応クメンと混合してクメンに還
元する。クメン塔からのオーバーヘツド留分には、可成
りの量のフエノ一ルが主として簡単な蒸留では除くこと
が困難なフエノールー水共沸混合物として回収される。
フエノ一ルは強力な酸化抑制剤としてよく知られている
ので、プロセスの酸化相に再循還する前に実質的にすべ
てのフエノ一ルがクメンから分離されねばならない。こ
れは、従来は、クメン塔からのオーバーヘツド留分に可
成りの容量のカセイアルカリを含むカセイ洗滌を施すこ
とによつて達成されてきた。本発明の目的はフエノ一ル
との混合物からクメン及びα−メチルスチレンを分離し
それによつて実質的にフエノ一ルの減少したクメン/α
−メチルスチレンを最小のカセイ洗滌で回収する改良さ
れた方法を提供することである。その広い態様の1つに
あ・いて、本発明は、(a)第ニアルキルベンゼン及び
対応する第二モノアルケニルベンゼンとフエノ一ル及び
水との混合物を中間レベルに訃いて精留塔に導入し、該
塔は該第二アルキルベンゼンと該第二モノアルケニルベ
ンゼンとから成るオーバーヘツド留分と該フエノ一ルか
ら成るボトム留分とを分離する条件で操作される:(b
)該オーバーヘツド留分の1部分を回収し、その他の部
分を還流として該塔にもどし:(c)該塔に卦いて上記
中間レベルより上のレベルから蒸気の流れを取り出し、
該蒸気の流れは該第二アルキルベンゼンと該第二アルケ
ニルベンゼンの少くとも1部分と該フエノ一ルと水との
共沸混合物から成る;(d)該蒸気の流れを凝縮し有機
相と該フエノールから成る水性相を形成し;(e)該水
性相を放出し、該有機相を該塔に、該蒸気の流れが取り
出されるレベルよりも上位で、該第二アルキルベン/第
二アルケニルベンゼン留分が該塔に還流としてもどされ
るレベルよりも下位のレベルに再循還し、該有機相は蒸
気相条件を維持する条件において該塔に再循還される、
段階から成るそのフエノ一ルとの混合物から第二アルキ
ルベンゼン及び対応する第二モノアルケニルベンから成
る留分を回収する方法を具体化する。
より明確な具体例の1つは、(a)クメン/α−メチル
スチレン留分のフエノ一ル及び水との混合物を精留塔の
中間レベルに導入し、該塔は約160〜180℃のボト
ム温度及び約90〜105℃のトツプ温度を包含する条
件において操されてクメン及びα−メチルスチレンから
成るオーバーヘツド留分とフエノ一ルから成るボトム留
分を分離する;(b)該オーバーヘツド留分の1部分と
回収し、そのいま1つの部分を還流として該塔にもどし
;(c)該塔の上記レベルより上のレベルから蒸気の流
れを取り出し、該蒸気の流れはクメン、α−メチルスチ
レン及びフエノールと水との共沸混合物とから成る;(
d)該蒸気の流れを凝縮し、クメン及びα−メチルスチ
レンから成る有機相とフエノールから成る水性相を形成
し;(e)該水性相を放出し、該有機相を、該蒸気の流
れを取り出したレベルより上位で、該クメン/α−メチ
ルスチレン留分を還流として該塔にもどしたレベルより
下位のレベルにおいて該塔に再循還し、該有機相は蒸気
相条件を維持するように約160〜180℃の温度に卦
いて該塔に再循還する段階から成る、フエノール及び水
との混合物からクメン/α−メチルスチレン留分を回収
する方法に関する。
スチレン留分のフエノ一ル及び水との混合物を精留塔の
中間レベルに導入し、該塔は約160〜180℃のボト
ム温度及び約90〜105℃のトツプ温度を包含する条
件において操されてクメン及びα−メチルスチレンから
成るオーバーヘツド留分とフエノ一ルから成るボトム留
分を分離する;(b)該オーバーヘツド留分の1部分と
回収し、そのいま1つの部分を還流として該塔にもどし
;(c)該塔の上記レベルより上のレベルから蒸気の流
れを取り出し、該蒸気の流れはクメン、α−メチルスチ
レン及びフエノールと水との共沸混合物とから成る;(
d)該蒸気の流れを凝縮し、クメン及びα−メチルスチ
レンから成る有機相とフエノールから成る水性相を形成
し;(e)該水性相を放出し、該有機相を、該蒸気の流
れを取り出したレベルより上位で、該クメン/α−メチ
ルスチレン留分を還流として該塔にもどしたレベルより
下位のレベルにおいて該塔に再循還し、該有機相は蒸気
相条件を維持するように約160〜180℃の温度に卦
いて該塔に再循還する段階から成る、フエノール及び水
との混合物からクメン/α−メチルスチレン留分を回収
する方法に関する。
本発明のその他の目的及び具体例は以下の詳細な記載か
ら明らかになるであろう。
ら明らかになるであろう。
本発明が係るプロセスはアルキル一置換芳香族炭化水素
の酸化に関し、そのα−ヒドロキシ誘導体は一般式によ
つて表わされる。
の酸化に関し、そのα−ヒドロキシ誘導体は一般式によ
つて表わされる。
ただし、Arは芳香族炭化水素基を表わし、アリール基
またはアルカリール基でもよい、ヒドロパーオキシ基(
−0−0−H)は芳香族基のα位の炭素原子に結合して
卦りR1及びR2は水素または同一または異つたアルキ
ル、シクロアルキル、アリール、アラルキルまたはアル
カリール炭化水素基である、あるいはR1及びR2はそ
れが結合している該α炭素原子と共に、例えば1−フエ
ニル一1−ヒドロパーオキシーシクロヘキサンの場合に
}けるごとく、約8個までの炭素原子を含むシクロアル
キル基を形成する。R1及びR2は、好ましくは、ヒド
ロパーオキシドが第二アルキルベンゼンのα−ヒドロパ
ーオキシ誘導体であるようにn−アルキル炭化水素基で
ある。かくして、ここに意図されるアルキル置換芳香族
炭化水素のα−ヒドロパーオキシ誘導体は、ベンジルヒ
ドロパーオキシド、α−メチルベンジルヒドロパーオキ
シド、α−メチル−p−メチルベンジルヒドロパーオキ
シド、α,α−ジメチルベンジルヒドロパーオキシド(
クメンヒドロパーオキシド)、α,α−ジメチル−p−
メチルベンジルヒドロパーオキシド、α,α−ジメチル
−pーエチルベンジルヒドロパーオキシド、α,α,α
,α7ーテトラメチル一p−キシリルジヒドロパーオキ
シド、α−メチル−α−フエニルベンジルヒドロパーオ
キシド、α一α−ジメチルナフチルメチルヒドロパーオ
キシド、1,フエルシクロヘキシルヒドロパーオキシド
などを包含する。本発明は、特に、α,α−ジメチルベ
ンジルヒドロパーオキシドあるいはイソプロピルベンゼ
ンヒドロパーオキシド、より杵通にはクメンヒドロパー
オキシドと称するものの酸分解から生じた反応混合物か
らのフエノールの回収方法に関する。前記の酸化反応は
周知の条件に卦いて行われる。ヒドロパーオキシド酸化
生成物は、選ばれたアルキル一置換芳香族炭化水素の酸
素または空気のごとき酸素含有ガスでの高温度に卦ける
直接液相酸化によつて製造することができる。酸化反応
は初期の誘導期間中は徐々に進み、酸化反応に触媒効果
を出すヒドロパーオキシドの生成と共により好ましい速
度に加速する。この初期誘導期間は、反応混合物にヒド
ロパーオキシドを含ませることによつて、通常は反応の
ヒドロパーオキシド生成物によつて解消または実質的に
減少する。しかしながら、同様の触媒効果を発揮するそ
の他の物質が開示されている。酸化反応を行う温度はほ
ぼ室温から酸化をする炭化水素の沸点までにわたり、ク
メンの場合、約305素Fである。一般に、約120〜
265′Vの範囲の高温を利用することが好ましいっ最
適の温度は酸化されるべき特定のアルキル一置換芳香族
炭化水素及び使用する反応条件に依る。酸化はほぼ1気
圧から約500psigの範囲の圧で行うことができる
けれども、一般には約90psigを超えない圧が好ま
しい。酸化条件に訃ける反応体の接触時間を限定してア
ルキル一置換芳香族炭化水素の対応するヒドロパーオキ
シドへの完全な転化より実質的に少い転化を行うことが
望ましい。例えば、クメンの酸化に卦いては、得られた
クメンヒドロパーオキシドの濃度がほぼ30%を超えな
いようにクメンと酸化剤との接触時間を制限することが
望ましい。前記のごとく、クメンヒドロパーオキシドの
酸解は、好ましくは、少くとも約70%の硫酸水溶液を
利用して行われ、酸分解反応混合物は、次に、間接的に
、例えばカセイアルカリの添加、あるいは直接的に、例
えばイオン交換樹脂との接触のいづれかによつて中和さ
れる。
またはアルカリール基でもよい、ヒドロパーオキシ基(
−0−0−H)は芳香族基のα位の炭素原子に結合して
卦りR1及びR2は水素または同一または異つたアルキ
ル、シクロアルキル、アリール、アラルキルまたはアル
カリール炭化水素基である、あるいはR1及びR2はそ
れが結合している該α炭素原子と共に、例えば1−フエ
ニル一1−ヒドロパーオキシーシクロヘキサンの場合に
}けるごとく、約8個までの炭素原子を含むシクロアル
キル基を形成する。R1及びR2は、好ましくは、ヒド
ロパーオキシドが第二アルキルベンゼンのα−ヒドロパ
ーオキシ誘導体であるようにn−アルキル炭化水素基で
ある。かくして、ここに意図されるアルキル置換芳香族
炭化水素のα−ヒドロパーオキシ誘導体は、ベンジルヒ
ドロパーオキシド、α−メチルベンジルヒドロパーオキ
シド、α−メチル−p−メチルベンジルヒドロパーオキ
シド、α,α−ジメチルベンジルヒドロパーオキシド(
クメンヒドロパーオキシド)、α,α−ジメチル−p−
メチルベンジルヒドロパーオキシド、α,α−ジメチル
−pーエチルベンジルヒドロパーオキシド、α,α,α
,α7ーテトラメチル一p−キシリルジヒドロパーオキ
シド、α−メチル−α−フエニルベンジルヒドロパーオ
キシド、α一α−ジメチルナフチルメチルヒドロパーオ
キシド、1,フエルシクロヘキシルヒドロパーオキシド
などを包含する。本発明は、特に、α,α−ジメチルベ
ンジルヒドロパーオキシドあるいはイソプロピルベンゼ
ンヒドロパーオキシド、より杵通にはクメンヒドロパー
オキシドと称するものの酸分解から生じた反応混合物か
らのフエノールの回収方法に関する。前記の酸化反応は
周知の条件に卦いて行われる。ヒドロパーオキシド酸化
生成物は、選ばれたアルキル一置換芳香族炭化水素の酸
素または空気のごとき酸素含有ガスでの高温度に卦ける
直接液相酸化によつて製造することができる。酸化反応
は初期の誘導期間中は徐々に進み、酸化反応に触媒効果
を出すヒドロパーオキシドの生成と共により好ましい速
度に加速する。この初期誘導期間は、反応混合物にヒド
ロパーオキシドを含ませることによつて、通常は反応の
ヒドロパーオキシド生成物によつて解消または実質的に
減少する。しかしながら、同様の触媒効果を発揮するそ
の他の物質が開示されている。酸化反応を行う温度はほ
ぼ室温から酸化をする炭化水素の沸点までにわたり、ク
メンの場合、約305素Fである。一般に、約120〜
265′Vの範囲の高温を利用することが好ましいっ最
適の温度は酸化されるべき特定のアルキル一置換芳香族
炭化水素及び使用する反応条件に依る。酸化はほぼ1気
圧から約500psigの範囲の圧で行うことができる
けれども、一般には約90psigを超えない圧が好ま
しい。酸化条件に訃ける反応体の接触時間を限定してア
ルキル一置換芳香族炭化水素の対応するヒドロパーオキ
シドへの完全な転化より実質的に少い転化を行うことが
望ましい。例えば、クメンの酸化に卦いては、得られた
クメンヒドロパーオキシドの濃度がほぼ30%を超えな
いようにクメンと酸化剤との接触時間を制限することが
望ましい。前記のごとく、クメンヒドロパーオキシドの
酸解は、好ましくは、少くとも約70%の硫酸水溶液を
利用して行われ、酸分解反応混合物は、次に、間接的に
、例えばカセイアルカリの添加、あるいは直接的に、例
えばイオン交換樹脂との接触のいづれかによつて中和さ
れる。
いづれの場合に訃いても中和した反応混合物は粗アセト
ン塔に装入し、該塔はフエノ一ル以下の沸点の物質の粗
分離を行う条件で操作,される。粗アセトン塔は典型的
には、約10〜15psigのトツプ圧及び約15〜2
5psigのボトム圧と約70〜80℃のトツプ温度及
び約165〜175℃のボトム温度に訃いて操作し、そ
れによつて実質的にすべてのアセトン及び低沸点副生成
物蚊に実質的部分の水及び未反応クメンから成るオーバ
ーへツド留分が回収される。本発明の課題であるボトム
留分は通常の手段によつて、重質残留物の分離のための
処理を行い、その後本発明の方法に依つて、実質的にフ
エノ一ルを含まないクメン及びα−メチルスチレンの回
収を行う。該ボトム留分はフエノ一ル及びα−メチルス
チレン蚊二て水及び未反応クメンの残りから成る。次に
、図に依つて本発明の方法を説明する。
ン塔に装入し、該塔はフエノ一ル以下の沸点の物質の粗
分離を行う条件で操作,される。粗アセトン塔は典型的
には、約10〜15psigのトツプ圧及び約15〜2
5psigのボトム圧と約70〜80℃のトツプ温度及
び約165〜175℃のボトム温度に訃いて操作し、そ
れによつて実質的にすべてのアセトン及び低沸点副生成
物蚊に実質的部分の水及び未反応クメンから成るオーバ
ーへツド留分が回収される。本発明の課題であるボトム
留分は通常の手段によつて、重質残留物の分離のための
処理を行い、その後本発明の方法に依つて、実質的にフ
エノ一ルを含まないクメン及びα−メチルスチレンの回
収を行う。該ボトム留分はフエノ一ル及びα−メチルス
チレン蚊二て水及び未反応クメンの残りから成る。次に
、図に依つて本発明の方法を説明する。
図は本発明の方法に適応するように変形し1つの好まし
い具体例を表わすクメン塔の簡単化したフローシートで
ある。図は本願の特許請求の範囲に記載した本発明の範
囲に不当に限定を加えんとする意図はない。バルブ、ポ
ンプ、コンプレツサー、熱交換器、器具及び制御手段は
本発明の理解に必須のものでないので省略した。このよ
うなハードウエアの使用及び応用は当業者には周知であ
る。図にち・いて、粗アセトン塔(図に示されていない
)からのボトム留分は線2を通つて中間レベルにおいて
クメン塔1に装入される。該ボトム留分はたえずフエノ
一ル約129モル、クメン29モル、α−メチルスチレ
ン5モル及び水38モルから成る。フエノ一ル留分は線
3を経て塔の底から取り出され、その1部分は線4の方
にそらされて加熱手段5に卦いて再加熱されて線6を通
つて塔にもどり約160〜180℃のボトム温度を維持
する。フエノ一ル留分の残りは毎時約129モルの割合
で線3を通り続ける。そしてこの流れは実質的に純粋な
フエノ一ルの回収のため蒸留手段(図に示されていない
)でさらに処理される。クメン、α−メチルスチレン及
びフエノ一ルと水との共沸混合物から成る蒸気状の側留
は上記の粗アセトンのボトム留分が導入されたレベルよ
りも高いレベルに}いてクメン塔1から取り出される。
い具体例を表わすクメン塔の簡単化したフローシートで
ある。図は本願の特許請求の範囲に記載した本発明の範
囲に不当に限定を加えんとする意図はない。バルブ、ポ
ンプ、コンプレツサー、熱交換器、器具及び制御手段は
本発明の理解に必須のものでないので省略した。このよ
うなハードウエアの使用及び応用は当業者には周知であ
る。図にち・いて、粗アセトン塔(図に示されていない
)からのボトム留分は線2を通つて中間レベルにおいて
クメン塔1に装入される。該ボトム留分はたえずフエノ
一ル約129モル、クメン29モル、α−メチルスチレ
ン5モル及び水38モルから成る。フエノ一ル留分は線
3を経て塔の底から取り出され、その1部分は線4の方
にそらされて加熱手段5に卦いて再加熱されて線6を通
つて塔にもどり約160〜180℃のボトム温度を維持
する。フエノ一ル留分の残りは毎時約129モルの割合
で線3を通り続ける。そしてこの流れは実質的に純粋な
フエノ一ルの回収のため蒸留手段(図に示されていない
)でさらに処理される。クメン、α−メチルスチレン及
びフエノ一ルと水との共沸混合物から成る蒸気状の側留
は上記の粗アセトンのボトム留分が導入されたレベルよ
りも高いレベルに}いてクメン塔1から取り出される。
この蒸気の流れは線1及び凝縮手段8を通つて取り出さ
れる。得られた凝縮物はセツトラ−9に集められ、そこ
で水性相はクメン及びα−メチルスチレンから成る有機
相から下方に分離される。水性相はセツトラ−9から線
10の中に放出され、この方法で毎時フエノ一ル約0.
2モル及び水38モルが分離される。セツトラ−9から
回収された上部の有機相は水を飽和され、有機相と水性
相の間のフエノ一ルの分配係数によつて与えられるもの
に相当する量のフエノ一ルを含む。
れる。得られた凝縮物はセツトラ−9に集められ、そこ
で水性相はクメン及びα−メチルスチレンから成る有機
相から下方に分離される。水性相はセツトラ−9から線
10の中に放出され、この方法で毎時フエノ一ル約0.
2モル及び水38モルが分離される。セツトラ−9から
回収された上部の有機相は水を飽和され、有機相と水性
相の間のフエノ一ルの分配係数によつて与えられるもの
に相当する量のフエノ一ルを含む。
次に、この有機相は線11に訃かれた加熱手段12によ
つて再加熱され、約160〜180℃の温度において実
質的に蒸気状態でクメン塔1に再導入される。
つて再加熱され、約160〜180℃の温度において実
質的に蒸気状態でクメン塔1に再導入される。
一方この有機相は、この場合に卦いて中間リボイラーの
より高いリボイラー熱使用が要求されるほかは液体とし
て再循還される。セツトラ−9からの有機相は前記の蒸
気の流れを取り出したレベルより上位で、後記のオーバ
ーヘツド留分を還流として該塔にもどすレベルより下位
のレベルに訃いてクメン塔に再びもどす。クメン及びα
−メチルスチレンは約300モルppmより少いフエノ
一ルを含むオーバーヘツド留分としてクメン塔1から回
収される。このオーバーヘツド留分は線13を経て取り
出し凝縮手段14を通つてオーバーヘツド受器15に送
られる。クメン及びα−メチルスチレンは線16によつ
て受器15から回収され、1部分は約1.6〜2.0の
還流比を設定するように線17を経てクメン塔1のトツ
プに送られる。クメン/α−メチルスチレン留分の残り
の部分は線16を通つてカセイアルカリスクラツバー(
図に示されていない)に流れ続ける。線18はオーバー
ヘツド受器15に卦けるたまり水を放出するために具え
られている。この水は線10の中に放出され線10を通
る水/フエノ一ル混合物と混合してフエノ一ルの回収の
ために処理される。ここに記載した方法は、従来に}け
る場合よりもクメン/α−メチルスチレン留分含まれて
いる残留フエノ一ルを中和するのに要するカセイアルカ
リが実質的に少い。
より高いリボイラー熱使用が要求されるほかは液体とし
て再循還される。セツトラ−9からの有機相は前記の蒸
気の流れを取り出したレベルより上位で、後記のオーバ
ーヘツド留分を還流として該塔にもどすレベルより下位
のレベルに訃いてクメン塔に再びもどす。クメン及びα
−メチルスチレンは約300モルppmより少いフエノ
一ルを含むオーバーヘツド留分としてクメン塔1から回
収される。このオーバーヘツド留分は線13を経て取り
出し凝縮手段14を通つてオーバーヘツド受器15に送
られる。クメン及びα−メチルスチレンは線16によつ
て受器15から回収され、1部分は約1.6〜2.0の
還流比を設定するように線17を経てクメン塔1のトツ
プに送られる。クメン/α−メチルスチレン留分の残り
の部分は線16を通つてカセイアルカリスクラツバー(
図に示されていない)に流れ続ける。線18はオーバー
ヘツド受器15に卦けるたまり水を放出するために具え
られている。この水は線10の中に放出され線10を通
る水/フエノ一ル混合物と混合してフエノ一ルの回収の
ために処理される。ここに記載した方法は、従来に}け
る場合よりもクメン/α−メチルスチレン留分含まれて
いる残留フエノ一ルを中和するのに要するカセイアルカ
リが実質的に少い。
このことはカセイアルカリの節約ばかりではなく、カセ
イアルカリ処理の問題を実質的に軽減する。更に、通常
ならば2個の塔を必要とする操作に}いて単一の塔でオ
ーバーヘツドクメン/α−メチルスチレン留分からフエ
ノールの大部分の実質的除去が達成される。これらの装
置の建造に対する投下資本のコストの減少になる。
イアルカリ処理の問題を実質的に軽減する。更に、通常
ならば2個の塔を必要とする操作に}いて単一の塔でオ
ーバーヘツドクメン/α−メチルスチレン留分からフエ
ノールの大部分の実質的除去が達成される。これらの装
置の建造に対する投下資本のコストの減少になる。
図は本発明の1具体例のフローシートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の各段階から成るフェノール及び水との混合物か
ら第二アルキルベンゼン及び対応する第二モノアルケニ
ルベンゼンから成る留分を回収する方法:(a)該混合
物を中間レベルにおいて精留塔に導入する、該塔は該第
二アルキルベンゼンと該第二’モノアルケニルベンゼン
とから成るオーバーヘッド留分と該フェノールを含むボ
トム留分と分離する条件で操作される;(b)該オーバ
ーヘッド留分の1部分を回収し、他の部分を還流として
該塔にもどす;(c)該塔の上記中間レベルより上位の
レベルから蒸気の流れを取り出す、該蒸気の流れは該第
二アルキルベンゼンと該第二アルケニルベンゼンの少く
とも1部分及び該フェノールと水との共沸混合物から成
る;(d)該蒸気の流れを凝縮し、有機相と水性相を形
成する;(e)該水性相を放出し、該有機相を該塔に、
該蒸気の流れが取り出されるレベルよりも上位で、該第
二アルキルベンゼン/第二アルケニルベンゼン留分が該
塔に還流としてもどされるレベルよりも下位のレベルに
再循環する、該有機相は蒸気相条件を維持する条件にお
いて該塔に再循環される。 2 該第二アルキルベンゼンはクメンであり、該対応す
る第二モノアルケニルベンゼンはα−メチルスチレンで
ある第1項の方法。 3 段階(a)において該条件は約160〜180℃の
ボトム温度及び約90〜105℃のトップ温度を含む第
2項の方法。 4 段階(e)において該条件は約160〜180℃の
温度を含む第2項の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US289591 | 1981-08-03 | ||
US06/289,591 US4333801A (en) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | Recovery of a cumene/alpha-methylstyrene fraction from a mixture thereof with phenol and water |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5826824A JPS5826824A (ja) | 1983-02-17 |
JPS5938210B2 true JPS5938210B2 (ja) | 1984-09-14 |
Family
ID=23112203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57106965A Expired JPS5938210B2 (ja) | 1981-08-03 | 1982-06-23 | フエノ−ル及び水との走合物からクメン/α−メチルスチレン留分の回収方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4333801A (ja) |
JP (1) | JPS5938210B2 (ja) |
DE (1) | DE3228483C2 (ja) |
ES (1) | ES512896A0 (ja) |
GB (1) | GB2109808B (ja) |
IN (1) | IN159757B (ja) |
IT (1) | IT1195935B (ja) |
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---|---|---|---|---|
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JPH066542B2 (ja) * | 1987-05-06 | 1994-01-26 | 三井東圧化学株式会社 | ビスフェノ−ルaの製造方法 |
DE4214738A1 (de) * | 1992-05-04 | 1993-11-11 | Bayer Ag | Destillationskolonne mit dampfförmiger Seitenstromentnahme |
US6100439A (en) * | 1998-12-14 | 2000-08-08 | Betzdearborn Inc. | Styrene caustic wash extraction aid |
DE10060505A1 (de) * | 2000-12-06 | 2003-01-30 | Phenolchemie Gmbh & Co Kg | Verfahren zur Abtrennung von Phenol aus einem Gemisch, welches zumindest Hydroxyaceton, Cumol, Wasser und Phenol aufweist |
US7626060B2 (en) * | 2003-07-11 | 2009-12-01 | INEOS Phenol GmbH & Co., KG | Process for the preparation of phenolic compounds, for separating phenol from cleavage product mixtures, and an apparatus |
JP5023618B2 (ja) * | 2005-09-01 | 2012-09-12 | 住友化学株式会社 | 加水分解反応混合物の脱水方法 |
WO2007026911A1 (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-08 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 脱水方法 |
CN104093466A (zh) * | 2011-09-19 | 2014-10-08 | 凯洛格·布朗及鲁特有限公司 | 用于α-甲基苯乙烯和枯烯蒸馏的分隔壁塔 |
CN107428640A (zh) * | 2015-03-31 | 2017-12-01 | 环球油品公司 | 氢化方法 |
KR101979771B1 (ko) * | 2015-06-30 | 2019-05-17 | 주식회사 엘지화학 | 증류 장치 |
KR102011715B1 (ko) | 2015-10-22 | 2019-08-19 | 주식회사 엘지화학 | 페놀 정제 방법 |
CN106905103A (zh) * | 2017-04-06 | 2017-06-30 | 山东建筑大学 | 一种苯酚残液中回收α‑甲基苯乙烯生产工艺 |
CN106966851A (zh) * | 2017-04-06 | 2017-07-21 | 山东建筑大学 | 一种苯酚残液中回收异丙苯的生产工艺 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2728795A (en) * | 1955-12-27 | Recovery of phenol | ||
US2824048A (en) * | 1958-02-18 | Process for separating the ingredients of a reaction mixture | ||
US3215745A (en) * | 1959-12-07 | 1965-11-02 | Pullman Inc | Method for treating vapors formed during distillation |
-
1981
- 1981-08-03 US US06/289,591 patent/US4333801A/en not_active Expired - Fee Related
-
1982
- 1982-06-02 IN IN419/DEL/82A patent/IN159757B/en unknown
- 1982-06-07 ES ES512896A patent/ES512896A0/es active Granted
- 1982-06-07 GB GB08216502A patent/GB2109808B/en not_active Expired
- 1982-06-23 JP JP57106965A patent/JPS5938210B2/ja not_active Expired
- 1982-06-24 IT IT22060/82A patent/IT1195935B/it active
- 1982-07-30 DE DE3228483A patent/DE3228483C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT8222060A0 (it) | 1982-06-24 |
US4333801A (en) | 1982-06-08 |
IN159757B (ja) | 1987-06-06 |
ES8307696A1 (es) | 1983-07-01 |
GB2109808B (en) | 1985-02-06 |
JPS5826824A (ja) | 1983-02-17 |
IT1195935B (it) | 1988-11-03 |
DE3228483A1 (de) | 1983-02-10 |
ES512896A0 (es) | 1983-07-01 |
DE3228483C2 (de) | 1984-09-20 |
GB2109808A (en) | 1983-06-08 |
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