JPS5937728U - Cvd装置 - Google Patents

Cvd装置

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Publication number
JPS5937728U
JPS5937728U JP13190382U JP13190382U JPS5937728U JP S5937728 U JPS5937728 U JP S5937728U JP 13190382 U JP13190382 U JP 13190382U JP 13190382 U JP13190382 U JP 13190382U JP S5937728 U JPS5937728 U JP S5937728U
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JP
Japan
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cvd equipment
vicinity
reaction tube
inlet
reaction
Prior art date
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Pending
Application number
JP13190382U
Other languages
English (en)
Inventor
修一 大橋
Original Assignee
富士通株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
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Publication of JPS5937728U publication Critical patent/JPS5937728U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来の減圧CVD装置を示す構成図、第2図は
本考案の一実施例である減圧CVD装置を示す構成図で
ある。図において11は反応管、12は排気口、13は
ガス導入口、14はエンドキャップ、15はヒータ、1
6は基板、17はサセプタ、18はガラス部材を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応管内の反応ガス導入口近傍に円筒形部材を設け、該
    反応管内の該導入口付近のガス流路が狭くなる様にした
    ことを特徴とするCVD装置。
JP13190382U 1982-08-31 1982-08-31 Cvd装置 Pending JPS5937728U (ja)

Priority Applications (1)

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JP13190382U JPS5937728U (ja) 1982-08-31 1982-08-31 Cvd装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13190382U JPS5937728U (ja) 1982-08-31 1982-08-31 Cvd装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5937728U true JPS5937728U (ja) 1984-03-09

Family

ID=30298053

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13190382U Pending JPS5937728U (ja) 1982-08-31 1982-08-31 Cvd装置

Country Status (1)

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JP (1) JPS5937728U (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53146276A (en) * 1977-05-26 1978-12-20 Kokusai Electric Co Ltd Reduced pressure gas phase growth

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53146276A (en) * 1977-05-26 1978-12-20 Kokusai Electric Co Ltd Reduced pressure gas phase growth

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