JPS5935981B2 - Fe基磁気ヘツド用高透磁率合金および磁気記録再生ヘツド - Google Patents

Fe基磁気ヘツド用高透磁率合金および磁気記録再生ヘツド

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JPS5935981B2
JPS5935981B2 JP53055542A JP5554278A JPS5935981B2 JP S5935981 B2 JPS5935981 B2 JP S5935981B2 JP 53055542 A JP53055542 A JP 53055542A JP 5554278 A JP5554278 A JP 5554278A JP S5935981 B2 JPS5935981 B2 JP S5935981B2
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量 増本
雄悦 村上
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DENKI JIKI ZAIRYO KENKYUSHO
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はSi、AをI、Ga、In、Tをのうち少くと
も1種の元素および残部Feからなるかあるいはこれを
主成分とし、副成分としてV、Nb、Ta、Cに、Mo
、W、Cu、Ge、Ti、Hf、希土類元素(Sc、Y
およびランタン系元素)、Ni、Do、Mn、Zr、S
n、Sb、Be、B、Pの少なくとも1種の元素と、少
量の不純物を含み、高透磁率を有するFe基磁気ヘッド
用高透磁率合金に関するものである。
更に本発明はこれらFe基磁気ヘッド用高透磁率合金よ
りなる磁気記録再生ヘツドに関するものである。本発明
者の一人はすでにFe−Si−At系合金が高透磁率を
有することを発見し、かかる合金がもろく粉末になり易
いことからセンタストと称した(特公昭8−2409号
,14−4721,4722,4723,4724号公
報)。
現在、センタストは磁気特性が優れ、硬度が高く.した
がつて耐摩耗性が良好であることから、磁気記録再生機
器(例えばVTRおよびオーデイオテープレコーダ一)
における磁気ヘツド用磁性合金とし 1(て使用されて
いる。現用のセンタストは優れた磁気特性と高い硬度と
を有するがもろいため、磁気ヘツドの製造は鋳塊を切断
、研削および研摩する成形加工法によつて行われている
しかしセンタストの鋳塊はピン1之ホールが多く、また
加工中にクラツクおよび欠けが発生し易いことなどが大
きな欠点とされ、成品の歩留りを著るしく低下させてい
る。従つてこれらセンタストの諸欠点を改善し、さらに
磁気特性、耐摩耗性および耐食性等の向上ならびに製造
の容21易な新らしいセンタスト系合金の出現が望まれ
ている。本発明者らはセンタスト系合金に関する永年の
研究の結果、Si3.O〜13.0%,At3.O〜1
3.0%とGa,In,Ttのそれぞれ0.01〜 2
5.0q6の少くとも1種の合計0.01〜5.0%お
よび残部Feと少量の不純物とからなる合金がセンタス
トの磁気特性および耐摩耗性を損うことなく、鋳塊のピ
ンホールおよび成形加工時の欠けのないFe基磁気ヘツ
ド用高透磁率合金であることを見3い出した。
Ga,InおよびTtはセンタストの成分の一つである
Atと同様にb族に属し、その性質もAtと相似してい
るため、センタスト系合金の磁気特性および耐摩耗性を
損うことなく、その溶湯3の流動性を良好にして鋳塊の
ピンホールを著るしく減少させ、また結晶粒界および粒
内の強度を高めて加工時のクラツクおよび欠けの発生を
阻止するものと考えられる。
また上記合金を主成分とし、さらに副成分とし・てV,
Nb,Ta,Cr,MO,W,Cu,Ge,Ti,Hf
,希土類元素のそれぞれ0.01〜 5.0%,Ni,
CO,Mn(Dそれぞれ0.01〜 7.1%,Zr,
Sn,Sb,Beのそれぞれ0.01〜 3.0チおよ
びB,Pのそれぞれ0.01〜 1.0%の少くとも1
種の元素の合計0.01〜 7.0%を含有する合金は
、上記合金の磁気特性、耐摩耗性、および耐食性をより
一層改善し、さらにピンホールおよび欠けがなく、成形
加工性の良好なFe基磁気へツド用高透磁率合金である
ことを見い出した。
すなわち、本発明は初透磁率2000以上、最大透磁率
4000以上を有し、実効透磁率および硬度が高く、か
つ耐摩耗性、耐食性が良好で、ピンホールおよび欠けが
なく、成形加工性が優れ脆さのなくなつたFe基磁気ヘ
ツド用高透磁率合金を提供するもので、高透磁率および
耐摩耗性を必要とする磁気記録機器の磁性材料として好
適である。伺、更に好ましい本発明合金はSi5.O〜
11.0チ, At4.O〜8.0%とGa,In,T
tのそれぞれ0.03〜 3.0%の少くとも1種の合
計0.03〜 5.0%および残部Feからなるか、あ
るいはこれを主成分とし、さらに副成分としてV,Nb
,Ta,Cr,MO,W,Cu,Ge,Ti,Hf,希
土類元素のそれぞれ0.01〜 3.0%, Ni,C
O,Mnのそれぞれ0.01〜 5.0%,Zr,Sn
,Sb,Beのそれぞれ0.01〜 2.0%およびB
,Pのそれぞれ0.01〜 0.51$の少な<とも1
種の元素の合計0.01〜 7.0%を含有する。
本発明の合金を造るには、先ずSi3.O〜13.0%
, At3.O〜13.0%とGa,In,Ttのそれ
ぞれ0.01〜 5.0%の少くとも1種の合佃.01
〜 5.0%および残部Feの適当量又はこれを主成分
とし、副成分のV,Nb,Ta,Cr,MO,W,Cu
,Ge,Ti,Hf,希土類元素のそれぞれ0.01〜
5.01f1,Ni,C0,Mnのそれぞれ0.01
〜 7.0チ,Zr,Sn,Sb,Beのそれぞれ0.
01〜 3.0チおよびB,Pのそれぞれ0.01〜
1.0チの少なくとも1種の元素の合計0.01〜 7
.0チとの適当量を空気中、好ましくは非酸化性雰囲気
(例えば水素、窒素、アルゴンなど)中あるいは真空中
において適当な溶解炉を用いて溶解した後、マンガン、
チタン、カルシウム合金、マグネシウム合金、その他の
脱酸剤、脱硫剤を少量添加してできるだけ不純物を取り
除き、充分に攪拌し、組成的に均一な溶融合金を得る。
次にこれを適当な形および大きさの鋳型に注入して健全
な鋳塊を得る。あるいは、この鋳塊より切断、研削およ
び放電加工または電解研削等によつて所要の成品を切り
出す。このようにして得た成品を水素中、その他の非酸
化性雰囲気中あるいは真空中で再結晶濶度(約600℃
)以上融点以下の偏度で加熱し、ついで適当な速度で冷
却することにより磁気特性、耐摩耗性および耐食性が優
れ、ピンホールおよび欠けが少なく、成形加工性の良好
なFe基磁気ヘツド用高透磁率合金が得られる。次に本
発明を実施例について述べる。実施例 1 合金番号20( Si9.O%,At5.l%,GaO
.8%、残部Fe)の合金の製造。
原料としては99.98%純度のシリコン、99.99
%純度のアルミニウム、ガリウムおよび電解鉄を用いた
試料を造るには、原料をまず全重量6kgでアルミナ坩
堝に入れ、真空中で高周波誘導電気炉によつて溶かした
後よく攪拌して均質な溶融合金とした。次にこれを一辺
50mm,高さ200罵鵞の柱孔をもつ鋳型に注入した
。得られた鋳塊から、研削および放電加工法によつて外
径23Em,内径15EwL,厚さ0.31mの環状板
を切り出し、これを1150℃の水素中で2時間加熱後
200℃/時の冷却速度で熱処理を施しで磁気特性を測
淀した。欠けた数はGC−100N(商品名)の砥石を
使用し、回転数3000r.p.ITLとし、熱処理を
施した30×30×50?n薦の柱状の鋳塊を70m薦
/ Minの一定速度で30×15×50m1の板に切
断した時の稜の欠けた数を表わしたものであり、ピンホ
ールの数はこの板をさらに鏡面仕上げした後顕微鏡で観
察されたピンホールの数である。また、ビツカース硬度
もこの板によつて測定した。点食数は耐食性の程度を示
すために、常偏において20×20m麗の鏡面を有する
試料を3%食塩水に5時間浸漬した場合に発生した点食
の数である。磁気ヘツドチツプの摩耗量は試料を用いて
磁気ヘツドチツプを製造し、これを磁気テープ300時
間走行後、チツプの摩耗量をタリサーフ表面組さ計によ
つて測定したものである。次に得られた諸特性を示す。
実施例 2 合金番号55(Si9.l%, At5.3%, In
l.O%,残部Fe)の合金の製造原料は実施例1と同
じ純度の電解鉄、シリコン、アルミニウム、と99.9
9%純度のインジウムを用いた。
試料の製造法、熱処理法および測定法は実施例1と同じ
である。次に得られた諸特性を示す。
実施例 3 合金番号95( Si9.O%,At5.6%,Ttl
.3%,残部Fe)の合金の製造原料は実施例1と同じ
純度の電解鉄、シリPンアルミニウムと99.99%純
度のタリウムを用いた。
試料の製造法、熱処理法および測定法は実施例1と同じ
である。次に得られた諸特性を示す。
さらに、Fe− Si9.O%− At5.6%合金に
Ga,In,Ttをそれぞれ添加した場合の初透磁率μ
,最大透磁率μM,5MHZにおける実効透磁率μE,
点食数N、ビツカース硬度HV,磁気ヘツドチツプの摩
耗量A,ピンホールの数mおよび稜の欠けた数nの諸特
性を第1図〜第3図に示す。第1図〜第3図から明らか
な如く、Ga,In,およびTtの各添加はいずれの場
合もμ。,μM,μE,およびHVは増大して磁気特性
、耐摩耗性を改善し、またN,m,nは著しく減少して
耐食性、成形加工性が良好となる。伺、代表的な合金の
特性を第1表に示した。
上記の実施例、第1表および第1図〜第3図から明らか
な如く、Si3.O〜13.0%,At3.O〜13.
0%とGa,In,丁tのそれぞれ0.01〜 5.0
%の少くとも1種の合計0.01〜 5.0C16およ
び残部Feからなる合金は磁気特性、耐摩耗性、耐食性
が良好で、かつピンホールおよび欠けが少く成形加工性
が容易な磁気ヘツド用高透磁率合金である。さらに上述
した合金組成を主成分とし、副成分としてV,Nb,T
a,Cr,MO,W,Cu,Ni,CO,Mn,Ge,
Ti,Hf,希土類、元素Zrの添加はμ。
およびμmを高める効果があり、またV,Nb,Ta,
Cr,MO,W,Mn,Ge,Ti,Hf,Zr,Sn
,Sb,Be,希土類元素、P,Bの添加は実効透磁率
を高める効果があり、さらにV,Nb,Ta,Cr,M
O,W,Ti,Hf,Zr,希土類元素Sn,Sb,B
e,B,Pの添加は硬度を高め耐摩耗性を向上する効果
があり、さらにまたV,Nb,Ta,Cr,Ti,Hf
,Zr,希土類元素、Sn,Sb,Be,B,Pの添加
は結晶粒を微細にし、耐摩耗性を向上する効果があり、
さらにまたCr,MO,W,V,Nb,Ta,Cu,C
O,Ni,Mn,Ge,希土類元素の添加は耐食性を高
める効果がある。
なお、副成分添加の効果を一括して表示すると第2表の
通りであり、さらに副成分を添加した代表的な合金の特
性を第3表に示す。また、本発明の合金(Fe−Si9
.O%−At5.6%−Ttl.3%)に代表的な副成
分としてNb,Cr,MO,希土類元素(たとえばY,
Ce,La),Mn、を選び、それぞれ添加した場合を
添加しない場合に比較して初透磁μ。
、最大透磁率μ.、実効透磁率μ。、ビツカース硬度H
v,結晶粒平均直径D、磁気ヘツドのチツプの摩耗量A
、点検数Nについてその特性図を第4図〜第8図に示す
。オーデイオテーブレコーダ一}よびTR等の磁気記録
再生機器は、その構造上磁気テーブが磁気ヘツドに密接
して走行するため、ヘツドの摩耗が起り、音質あるいは
画質を損う。
従つてヘツドに用ろる合金はできるだけ硬度が高く、結
晶粒が微細で耐摩耗性に富んでいることが望まれる。ま
た磁気録音では100KHz以下の比較的低い周波数の
交流磁界によつて録音再生が行われるので、初透磁率訃
よび最大透磁率が大きいことが必要であるが、VTRの
場合には数100KHz〜数MHzの高い周波数の交流
磁界で録画再生が行われるので、この高い周波数範囲に
}ける実効透磁率が大きいことが望まれる。さらに使用
環境に耐えるに充分な耐食性があることが望まれる。従
つて本発明合金は上述の諸特性が全く満足されるように
適宜副成分を選択するとよい。すなわち、第3表および
第4〜8図から明らかなように上記した少なくとも1種
の副成分を添加すると耐食性、硬度、初透磁率、最大透
磁率あるいは実効透磁率′は増大し、あるいは硬度が高
く、結晶粒が極めて微細となる。一般に、センタスト系
合金は硬度が高い程、あるいは結晶粒を微細にする程耐
摩耗性が向上することが知られている(特公昭−46一
27142号公報)が、本発明合金の磁気テーブに対す
るヘツドチツプの摩耗量は非常に少く、耐摩耗性が著し
く向上している。その上本発明合金はGa,ln,Tt
等.含有しているので、その鋳塊はピンホールが少なく
かつヘツド製造の工程中にクラツク卦よび欠けの発生が
少ないのが特長である。第4図〜第8図にはFe−Si
−At−Tφ合金に対する副成分添加の場合の諸特性に
ついてのみ示したが、Fe−Si−At−Ga}よびF
e一Si−At−1n合金に対する副成分添加の場合も
同じような効果が得られる。
なK,本発明合金は上記のように磁気特性が優れている
ので、高い透磁率を必要とする一般の電気機器の磁性合
金としても利用される。
なおまた各実施例、表}よび図面における合金は比較的
純度の高いTi,Si,At,,Nb,Cr,MO,W
,Ni,Mn,Be,希土類元素.P卦よびB等を用い
たが、これらの代りに一般市販のこれらのフエロ合金、
母合金訃よびミツシユメタルを用いてもよい。
次に本発明において合金の組成をSi3.O〜13.0
%,At3.O〜13.0%とGa,In,Ttのそれ
ぞれ0.01〜5.0%の少くとも1種の合計0.01
〜5.0%}よび残部Feからなる合金、あるいはこれ
を主成分とし、副成分として添加する元素をV,Nb,
Ta,Cr,MO,W,Cu,Ge,Ti,Hf,希土
類元素のそれぞれ0.01〜5.0%,Ni,CO,M
nのそれぞれ0.01〜7.0%、Zr,Sn,Sb,
Beのそれぞ幼.01〜3.0%訃よびB,Pのそれぞ
れ0.01〜1.0%の少くとも1種の元素の合計0.
01〜7.0%と限定した理由は、各実施例、表訃よび
図面から明らかなように、上記組成範囲内では初透磁率
2000以上、最大透磁率4000以上で、硬度が高く
、耐摩耗性が良好で、かつピンホールおよび欠けが少く
成形加工性が良好であるが、Sil3.O%以上、At
l3.O%以上、Ga9lnかTtのそれぞれ5.0%
以上では初透磁率2000以下、最大透磁率4000以
下となり、また、Si3.O%以下およびAt3.O%
以下では透磁率、硬度が低いので磁気特性}よび耐摩耗
性が悪くなり、さらにGa,In,Ttのそれぞれ0.
01%以下ではその添加効果が小さいからである。
また、副成分として添加する元素は,Nb,Ta,Cr
,MO,W,Cu,Ge,Ti,Hf,希土類元素のそ
れぞれ5.0%以上、Ni,CO,Mnのそれぞれ7.
0%以上、Zr,Sn,Sb,Beのそれぞれ3.0%
以上、B,Pのそれぞれ1.0%以上の添加で初透磁率
2000以下、最大透磁率4000以下となり、磁気ヘ
ツド用高透磁率合金として不適当となるからである。な
}、快削性を付与するため、本発明の合金にさらにCa
,Te,S,Se,Pbを磁気特性を損わない程度の少
量を添加してもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図A,B〜第3図A,Bはセンタスト(Fe−Si
9.O%−At5.6%合金)にGa,In,}よびT
tをそれぞれ添加した場合の初透磁率μ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重量比にてSi3.0〜13.0%、Al3.0〜
    13.0%とGa、In、Tlのそれぞれ0.01〜5
    .0%の少くとも1種の合計0.01〜5.0%および
    残部Feと、少量の不純物とからなり、初透磁率200
    0以上、最大透磁率4000以上を有することを特徴と
    するFe基磁気ヘッド用高透磁率合金。 2 重量比にて、Si5.0〜11.0%、Al4.0
    〜8.0%とGa、In、Tlのそれぞれの0.03〜
    3.0%の少くとも1種の合計0.03〜5.0%およ
    び残部Feと少量の不純物とからなり、初透磁率200
    0以上、最大透磁率4000以上を有することを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載のFe基磁気ヘッド用高
    透磁率合金。 3 重量比にてSi3.0〜13.0%、Al3.0〜
    13.0%とGa、In、Tlのそれぞれ0.01〜5
    .0%の少くとも1種の合計0.01〜5.0%および
    残部Feとを主成分とし、副成分としてV、Nb、Ta
    、Cr、Mo、W、Cu、Ge、Ti、Hf、希土類元
    素のそれぞれ0.01〜5.0%、Ni、CO、Mnの
    それぞれ0.01〜7.0%、Zr、Sn、Sb、Be
    のそれぞれ0.01〜3.0%、B、Pのそれぞれ0.
    01〜1.0%の少くとも1種の元素の合計0.01〜
    7.0%を含有し、初透磁率2000以上、最大透磁率
    4000以上を有することを特徴とするFe基磁気ヘッ
    ド用高透磁率合金。 4 重量比にてSi3.0〜13.0%、Al3.0〜
    13.0%とGa、In、Tlのそれぞれ0.01〜5
    .0%の少くとも1種の合計0.01〜5.0%および
    残部Feと、少量の不純物とからなり、初透磁率200
    0以上、最大透磁率4000以上を有するFe基磁気ヘ
    ッド用高透磁率合金よりなる磁気記録再生ヘッド。 5 重量比にてSi3.0、〜13.0%、Al3.0
    〜13.0%とGa、In、Tlのそれぞれ0.01〜
    5.0%の少くとも1種の合計0.01〜5.0%およ
    び残部Feとを主成分とし、副成分としてV、Nb、T
    a、Cr、Mo、W、Cu、Ge、Ti、Hf、希土類
    元素のそれぞれ0.01〜5.0%、Ni、Co、Mn
    のそれぞれ0.01〜7.0%、Zr、Sn、Sb、B
    eのそれぞれ0.01〜3.0%、B、Pのそれぞえ0
    .01〜1.0%の少くとも1種の元素の合計0.01
    〜7.0%を含有し、初透磁率2000以上、最大透磁
    率4000以上を有するFe基磁気ヘッド用高透磁率合
    金よりなる磁気記録再生ヘッド。
JP53055542A 1978-05-12 1978-05-12 Fe基磁気ヘツド用高透磁率合金および磁気記録再生ヘツド Expired JPS5935981B2 (ja)

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