JPH0586459A - スパツタリング用ターゲツト - Google Patents
スパツタリング用ターゲツトInfo
- Publication number
- JPH0586459A JPH0586459A JP3118891A JP11889191A JPH0586459A JP H0586459 A JPH0586459 A JP H0586459A JP 3118891 A JP3118891 A JP 3118891A JP 11889191 A JP11889191 A JP 11889191A JP H0586459 A JPH0586459 A JP H0586459A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明のスパッタリング用ターゲットは、Ａ
ｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐｄを０.
００１〜１.０重量％含有し、残部がＦｅからなること
を特徴としている。更に、Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選
ばれた１種以上の元素を各々０.００１〜３重量％含有
してもよい。 【効果】 ターゲットの耐酸化性及び塑性加工性を向上
させることができる。したがって、ターゲットの機械加
工性を格段に向上させることができ、ターゲットの製造
歩留まりも一段と向上させることができる。更に、Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々
０.００１〜３重量％含有すれば、ターゲットの結晶粒
を微細化し均質化することができる。
ｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐｄを０.
００１〜１.０重量％含有し、残部がＦｅからなること
を特徴としている。更に、Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選
ばれた１種以上の元素を各々０.００１〜３重量％含有
してもよい。 【効果】 ターゲットの耐酸化性及び塑性加工性を向上
させることができる。したがって、ターゲットの機械加
工性を格段に向上させることができ、ターゲットの製造
歩留まりも一段と向上させることができる。更に、Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々
０.００１〜３重量％含有すれば、ターゲットの結晶粒
を微細化し均質化することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高磁束密度と耐摩耗性
に優れた磁性材料であるセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ
系合金）をターゲット材に用いたスパッタリング用ター
ゲットに関するものである。
に優れた磁性材料であるセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ
系合金）をターゲット材に用いたスパッタリング用ター
ゲットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】情報機器の急激な進歩に伴い、記憶装置
の主要部を構成する磁気ディスクや磁気ヘッドに対して
も高保磁力かつ高密度のものが益々求められる様になっ
てきており、これらの磁性材料についても新たな材料開
発への期待が益々強くなってきている。
の主要部を構成する磁気ディスクや磁気ヘッドに対して
も高保磁力かつ高密度のものが益々求められる様になっ
てきており、これらの磁性材料についても新たな材料開
発への期待が益々強くなってきている。
【０００３】例えば、磁気ヘッドは、パーマロイと称さ
れるＮｉを３５〜８０重量％含むＦｅ−Ｎｉ系合金を基
板上にスパッタリングしたものが好適に用いられてい
る。このパーマロイは、急冷処理により極めて高い透磁
率を有することから、磁気ヘッド、磁気増幅器、各種変
成器等に広く用いられている。
れるＮｉを３５〜８０重量％含むＦｅ−Ｎｉ系合金を基
板上にスパッタリングしたものが好適に用いられてい
る。このパーマロイは、急冷処理により極めて高い透磁
率を有することから、磁気ヘッド、磁気増幅器、各種変
成器等に広く用いられている。
【０００４】近年、センダストと呼ばれる新しいＦｅ−
Ａｌ−Ｓｉ系合金の磁性材料が発見された。このセンダ
ストは上記パーマロイに匹敵する高い透磁率を有し、高
磁束密度と耐摩耗性に極めて優れていることから、一躍
注目されることとなった。
Ａｌ−Ｓｉ系合金の磁性材料が発見された。このセンダ
ストは上記パーマロイに匹敵する高い透磁率を有し、高
磁束密度と耐摩耗性に極めて優れていることから、一躍
注目されることとなった。
【０００５】しかしながら、前記センダストには、脆
い、薄板化することが困難、加工性が悪く微少クラック
が発生し易い等の様々な欠点があったために、実用化が
遅れていたが、最近、前記センダストにＬａ等の第３元
素を添加することで透磁率が向上するとともに脆さも改
善されることがわかり、磁気ヘッドの材料として実用化
されるようになってきている。
い、薄板化することが困難、加工性が悪く微少クラック
が発生し易い等の様々な欠点があったために、実用化が
遅れていたが、最近、前記センダストにＬａ等の第３元
素を添加することで透磁率が向上するとともに脆さも改
善されることがわかり、磁気ヘッドの材料として実用化
されるようになってきている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記の第３
元素を添加したセンダストにおいては、耐酸化性が向上
せず、また、塑性加工性の向上も期待できない問題があ
った。
元素を添加したセンダストにおいては、耐酸化性が向上
せず、また、塑性加工性の向上も期待できない問題があ
った。
【０００７】これまでにも、スパッタリング用ターゲッ
ト（以下、単にターゲットと略称する）の製造方法を改
良することで透磁率等の磁性特性、均質性、結晶性等は
一段と改良されてきているが、耐酸化性や塑性加工性に
ついてはほとんど向上しておらず、したがって、該ター
ゲットの機械加工性もほとんど改良されていないのが現
状である。
ト（以下、単にターゲットと略称する）の製造方法を改
良することで透磁率等の磁性特性、均質性、結晶性等は
一段と改良されてきているが、耐酸化性や塑性加工性に
ついてはほとんど向上しておらず、したがって、該ター
ゲットの機械加工性もほとんど改良されていないのが現
状である。
【０００８】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
もので、耐酸化性や塑性加工性が向上したセンダストの
ターゲットを提供することにある。
もので、耐酸化性や塑性加工性が向上したセンダストの
ターゲットを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は次の様なターゲットを採用した。
に、本発明は次の様なターゲットを採用した。
【００１０】すなわち、請求項１記載のターゲットとし
ては、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐ
ｄを０.００１〜１.０重量％含有し、残部がＦｅからな
ることを特徴としている。
ては、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐ
ｄを０.００１〜１.０重量％含有し、残部がＦｅからな
ることを特徴としている。
【００１１】また、請求項２記載のターゲットとして
は、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐｄ
を０．００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌａ，Ｃ
ｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々０.０
０１〜３重量％含有し、残部がＦｅからなることを特徴
としている。
は、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐｄ
を０．００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌａ，Ｃ
ｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々０.０
０１〜３重量％含有し、残部がＦｅからなることを特徴
としている。
【００１２】ここで、Ａｌ，Ｓｉ，Ｆｅの各成分の組成
が上記範囲を外れている場合には、スパッタリングによ
る生成膜の磁気特性が所望の値とならないために実用上
不適当である。
が上記範囲を外れている場合には、スパッタリングによ
る生成膜の磁気特性が所望の値とならないために実用上
不適当である。
【００１３】また、Ｐｄはターゲットの耐酸化性及び塑
性加工性を向上させるために添加するものであるが、Ｐ
ｄの添加量が上記範囲の下限を下回る場合には前記元素
の効果が極めて小さなものとなり、また、上記範囲の上
限を上回る場合には前記元素の効果が飽和しターゲット
の磁気特性を低下させ、また硬度が増加し機械加工性が
低下するために、実用上不適当である。
性加工性を向上させるために添加するものであるが、Ｐ
ｄの添加量が上記範囲の下限を下回る場合には前記元素
の効果が極めて小さなものとなり、また、上記範囲の上
限を上回る場合には前記元素の効果が飽和しターゲット
の磁気特性を低下させ、また硬度が増加し機械加工性が
低下するために、実用上不適当である。
【００１４】また、Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄは、ターゲットの
結晶粒を微細化し塑性加工性を向上させるために添加す
るものであるが、Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選ばれた１
種以上の元素の各成分の添加量が上記範囲の下限を下回
る場合には前記元素の効果が極めて小さなものとなり、
また、上記範囲の上限を上回る場合には前記元素の効果
が飽和しターゲットの磁気特性を低下させ、また硬度が
増加し機械加工性が低下するために、実用上不適当であ
る。
結晶粒を微細化し塑性加工性を向上させるために添加す
るものであるが、Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選ばれた１
種以上の元素の各成分の添加量が上記範囲の下限を下回
る場合には前記元素の効果が極めて小さなものとなり、
また、上記範囲の上限を上回る場合には前記元素の効果
が飽和しターゲットの磁気特性を低下させ、また硬度が
増加し機械加工性が低下するために、実用上不適当であ
る。
【００１５】
【作用】本発明の請求項１記載のターゲットでは、Ｐｄ
を０.００１〜１.０重量％含有することにより、ターゲ
ットの耐酸化性及び塑性加工性が向上する。
を０.００１〜１.０重量％含有することにより、ターゲ
ットの耐酸化性及び塑性加工性が向上する。
【００１６】また、請求項２記載のターゲットでは、Ｐ
ｄを０.００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌａ，Ｃ
ｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々０.０
０１〜３重量％含有することにより、ターゲットの耐酸
化性及び塑性加工性を向上させるとともに該ターゲット
の結晶粒を微細化し均質化する。
ｄを０.００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌａ，Ｃ
ｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々０.０
０１〜３重量％含有することにより、ターゲットの耐酸
化性及び塑性加工性を向上させるとともに該ターゲット
の結晶粒を微細化し均質化する。
【００１７】
【実施例】以下、本発明のターゲットのー実施例につい
て説明する。
て説明する。
【００１８】本発明に係るターゲットは、図１に示す様
な製造方法により作成した。まず、表１に示す組成とな
る様にターゲットの原料をそれぞれ所定量秤量した。
な製造方法により作成した。まず、表１に示す組成とな
る様にターゲットの原料をそれぞれ所定量秤量した。
【００１９】
【表１】
【００２０】これらの原料としては４Ｎ〜５Ｎの金属粉
を用いた。
を用いた。
【００２１】次に、これらの原料を真空溶解炉のアルミ
ナルツボ内に投入し、この混合物を加熱し溶融した。
ナルツボ内に投入し、この混合物を加熱し溶融した。
【００２２】次に、上記の溶融物を、真空中、あるいは
不活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気中において、
耐熱製の金型に充填し鋳造した。この金型に充填された
溶融物は、冷却されるにしたがって除々に凝固し、セン
ダストのインゴットとなった。
不活性もしくは還元性のいずれかの雰囲気中において、
耐熱製の金型に充填し鋳造した。この金型に充填された
溶融物は、冷却されるにしたがって除々に凝固し、セン
ダストのインゴットとなった。
【００２３】次に、このインゴットを金型から取り出
し、ワイヤーカット放電加工等の機械加工により該イン
ゴットを所定の形状に切断し、直方体状の素板とした。
し、ワイヤーカット放電加工等の機械加工により該イン
ゴットを所定の形状に切断し、直方体状の素板とした。
【００２４】得られた素体に対し、１１００℃で１時間
熱処理を行った。
熱処理を行った。
【００２５】次に、所定の圧延率で圧延加工を行い、所
定の厚みの素板とした。
定の厚みの素板とした。
【００２６】次に、５００℃で１時間熱処理を行い焼結
体内部の歪を取り除き、加圧成形等により該素板の形状
を矯正し、切削加工、ワイヤーカット加工、鏡面研磨等
の仕上加工を行い、プレート上に該素板を固定し（ボン
ディング）、製品（ターゲット）とした。
体内部の歪を取り除き、加圧成形等により該素板の形状
を矯正し、切削加工、ワイヤーカット加工、鏡面研磨等
の仕上加工を行い、プレート上に該素板を固定し（ボン
ディング）、製品（ターゲット）とした。
【００２７】また、上記実施例のターゲットと比較する
ために、表２の様に上記実施例の構成成分のうちいづれ
か１種以上の成分含有量が本発明の範囲から外れたター
ゲットを上記実施例とまったく同一の製造工程により製
造し、比較例とした。
ために、表２の様に上記実施例の構成成分のうちいづれ
か１種以上の成分含有量が本発明の範囲から外れたター
ゲットを上記実施例とまったく同一の製造工程により製
造し、比較例とした。
【００２８】
【表２】
【００２９】表３及び表４は、本発明のターゲット（実
施例）と本発明の組成の範囲から外れた組成のターゲッ
ト（比較例）各々について、耐酸化性、塑性加工性の各
特性を比較したものである。
施例）と本発明の組成の範囲から外れた組成のターゲッ
ト（比較例）各々について、耐酸化性、塑性加工性の各
特性を比較したものである。
【００３０】耐酸化性は、上記加工プロセス中の１００
０℃１時間の熱処理を大気中で行い、素板の酸化状態に
おける重量増加量を測定することにより評価した。
０℃１時間の熱処理を大気中で行い、素板の酸化状態に
おける重量増加量を測定することにより評価した。
【００３１】また、塑性加工性は、上記加工プロセス中
の圧延加工において、１１００℃、速度２ｍｍ／ｍｉ
ｎ、１操作当りの圧延率５％と設定して熱間圧延を行
い、割れの発生状態の比較を行った。
の圧延加工において、１１００℃、速度２ｍｍ／ｍｉ
ｎ、１操作当りの圧延率５％と設定して熱間圧延を行
い、割れの発生状態の比較を行った。
【００３２】
【表３】
【００３３】
【表４】
【００３４】表３及び表４から、本発明のターゲット
（実施例）は、本発明から外れた組成のターゲット（比
較例）と比べて、耐酸化性、塑性加工性共に向上してい
ることが明らかである。
（実施例）は、本発明から外れた組成のターゲット（比
較例）と比べて、耐酸化性、塑性加工性共に向上してい
ることが明らかである。
【００３５】以上説明した様に、上記実施例のターゲッ
トによれば、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量
％、Ｐｄを０.００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々
０.００１〜３重量％含有し、残部をＦｅとしたので、
従来のセンダストのターゲットと比べて、耐酸化性、塑
性加工性各々を向上させることができる。
トによれば、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量
％、Ｐｄを０.００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々
０.００１〜３重量％含有し、残部をＦｅとしたので、
従来のセンダストのターゲットと比べて、耐酸化性、塑
性加工性各々を向上させることができる。
【００３６】したがって、ターゲットの機械加工性を格
段に向上させることができ、ターゲットの製造歩留まり
も一段と向上させることができる。
段に向上させることができ、ターゲットの製造歩留まり
も一段と向上させることができる。
【００３７】以上により、磁気ヘッドを高品質かつ高歩
留まりで製造することのできるセンダストのターゲット
を提供することが可能になる。
留まりで製造することのできるセンダストのターゲット
を提供することが可能になる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の請求項１記
載のターゲットによれば、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを
８〜１２重量％、Ｐｄを０.００１〜１.０重量％含有
し、残部をＦｅとしたので、ターゲットの耐酸化性及び
塑性加工性を向上させることができる。したがって、タ
ーゲットの機械加工性を格段に向上させることができ、
ターゲットの製造歩留まりも一段と向上させることがで
きる。
載のターゲットによれば、Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを
８〜１２重量％、Ｐｄを０.００１〜１.０重量％含有
し、残部をＦｅとしたので、ターゲットの耐酸化性及び
塑性加工性を向上させることができる。したがって、タ
ーゲットの機械加工性を格段に向上させることができ、
ターゲットの製造歩留まりも一段と向上させることがで
きる。
【００３９】また、請求項２記載のターゲットによれ
ば、Ａｉを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐｄ
を０.００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌａ，Ｃ
ｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々０.０
０１〜３重量％含有し、残部をＦｅとしたので、ターゲ
ットの耐酸化性及び塑性加工性を向上させるとともに該
ターゲットの結晶粒を微細化し均質化することができ
る。したがって、ターゲットの機械加工性を格段に向上
させることができ、ターゲットの製造歩留まりも一段と
向上させることができる。
ば、Ａｉを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重量％、Ｐｄ
を０.００１〜１.０重量％含有すると共に、Ｌａ，Ｃ
ｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各々０.０
０１〜３重量％含有し、残部をＦｅとしたので、ターゲ
ットの耐酸化性及び塑性加工性を向上させるとともに該
ターゲットの結晶粒を微細化し均質化することができ
る。したがって、ターゲットの機械加工性を格段に向上
させることができ、ターゲットの製造歩留まりも一段と
向上させることができる。
【００４０】以上により、磁気ヘッド等において高品質
かつ高歩留まりの磁気薄膜を製造することのできるセン
ダストのターゲットを提供することが可能になる。
かつ高歩留まりの磁気薄膜を製造することのできるセン
ダストのターゲットを提供することが可能になる。
【図１】本発明のターゲットの製造方法を示す工程図で
ある。
ある。
Claims (2)
- 【請求項１】 Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重
量％、Ｐｄを０.００１〜１.０重量％含有し、残部がＦ
ｅからなることを特徴とするスパッタリング用ターゲッ
ト。 - 【請求項２】 Ａｌを４〜８重量％、Ｓｉを８〜１２重
量％、Ｐｄを０.００１〜１.０重量％含有すると共に、
Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄの中から選ばれた１種以上の元素を各
々０.００１〜３重量％含有し、残部がＦｅからなるこ
とを特徴とするスパッタリング用ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3118891A JPH0586459A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | スパツタリング用ターゲツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3118891A JPH0586459A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | スパツタリング用ターゲツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0586459A true JPH0586459A (ja) | 1993-04-06 |
Family
ID=14747710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3118891A Withdrawn JPH0586459A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | スパツタリング用ターゲツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0586459A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5935887A (en) * | 1997-04-16 | 1999-08-10 | Mitsui Mining And Smelting Co., Ltd. | Ceramic filter and method for preparing same |
-
1991
- 1991-05-23 JP JP3118891A patent/JPH0586459A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5935887A (en) * | 1997-04-16 | 1999-08-10 | Mitsui Mining And Smelting Co., Ltd. | Ceramic filter and method for preparing same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980806 |