JPS5931569A - 全固体電池 - Google Patents
全固体電池Info
- Publication number
- JPS5931569A JPS5931569A JP58105856A JP10585683A JPS5931569A JP S5931569 A JPS5931569 A JP S5931569A JP 58105856 A JP58105856 A JP 58105856A JP 10585683 A JP10585683 A JP 10585683A JP S5931569 A JPS5931569 A JP S5931569A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- solid
- solid electrolyte
- battery
- sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M6/00—Primary cells; Manufacture thereof
- H01M6/14—Cells with non-aqueous electrolyte
- H01M6/18—Cells with non-aqueous electrolyte with solid electrolyte
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Secondary Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、固体電解質を有する全固体′α池に関する。
〔発明の背景J
近年、固体tM質を用いた全固体!池への関心が高まり
つつある。とくにアルカリイオン伝導体を固体71M質
とする。N a −8電池や、JJI電池は、注目され
つつある。前者は、自動車用)(ツテリーや、ロードレ
ベリング用蓄′電池として、その実用化が進与つつある
。まだ後者は、電子機器の小型化、薄型化に1わい、電
池の薄型化への要望が強1ってきたため、近年急速にそ
の用途が開tjつつあるものである。
つつある。とくにアルカリイオン伝導体を固体71M質
とする。N a −8電池や、JJI電池は、注目され
つつある。前者は、自動車用)(ツテリーや、ロードレ
ベリング用蓄′電池として、その実用化が進与つつある
。まだ後者は、電子機器の小型化、薄型化に1わい、電
池の薄型化への要望が強1ってきたため、近年急速にそ
の用途が開tjつつあるものである。
上記電池のイオン伝導度を高める方法として、固体1r
LM質を#膜化し、幾何学的に抵抗を下げる方法が考え
られる。しかし、従来のセラミック技術では、膜厚10
μm以下の薄膜を作成することは困難である。葦だ、従
来の#1模技術でりるCVD法、スパッタリング法を用
いても、イオン伝導度の大きい薄膜は得られていなかっ
た。この原因は、(1)上記固体電解質の合成温度が高
いこと、(2)薄膜形成中にアルカリ金属酸化物が蒸発
なとによって失われるため、組成制御が困難である、こ
となどである。さらに、通常の低温における膜形成でに
、得られた1漠の7端品性が、悲いため、イオン伝導性
の良好な薄膜は得られていなかった。 ′〔発明の
目的〕 本発明の目的は、固体電解質薄1漠を有する全固体電池
を提供することにある。
LM質を#膜化し、幾何学的に抵抗を下げる方法が考え
られる。しかし、従来のセラミック技術では、膜厚10
μm以下の薄膜を作成することは困難である。葦だ、従
来の#1模技術でりるCVD法、スパッタリング法を用
いても、イオン伝導度の大きい薄膜は得られていなかっ
た。この原因は、(1)上記固体電解質の合成温度が高
いこと、(2)薄膜形成中にアルカリ金属酸化物が蒸発
なとによって失われるため、組成制御が困難である、こ
となどである。さらに、通常の低温における膜形成でに
、得られた1漠の7端品性が、悲いため、イオン伝導性
の良好な薄膜は得られていなかった。 ′〔発明の
目的〕 本発明の目的は、固体電解質薄1漠を有する全固体電池
を提供することにある。
本発明の全固体電池は、固体’Iff、解質を10 a
m以下とすることヲ特徴とする。このため電池全体が
薄型化し、i′氏子機器の小型化、薄型化に十分対応で
きる。
m以下とすることヲ特徴とする。このため電池全体が
薄型化し、i′氏子機器の小型化、薄型化に十分対応で
きる。
10μIn以Fの固体電解質は、スパッタリング法など
により製造することができる。例えば、アルカリイオン
の超イオン伝導体であるβ−A1203゜β−Ga 2
03. Na 3Zr 28 i 2P(J1□、 L
i 、4Zn(GaO4)4などと、LiAjlO□、
LiGa0□。
により製造することができる。例えば、アルカリイオン
の超イオン伝導体であるβ−A1203゜β−Ga 2
03. Na 3Zr 28 i 2P(J1□、 L
i 、4Zn(GaO4)4などと、LiAjlO□、
LiGa0□。
Li CO、NaAj(J□、NaGaO2,Na2
C(J3な3 どのアルカリ化合物との混合物をターゲットとして、ス
パッタリング法によシ、超イオン伝導性薄膜を形成して
固体電解質とする。この場合両者の混合粉末を用いるこ
とが好ましい。粉末を用いる理由は、(lbi’j’模
中のアルカリ濃度を自由に1間両できるCと、(2)
NaMO2(M=A j! 、 G a ) などが潮
解性でめるため、混合焼結体ターゲットを作ることが困
難でるることなどである。
C(J3な3 どのアルカリ化合物との混合物をターゲットとして、ス
パッタリング法によシ、超イオン伝導性薄膜を形成して
固体電解質とする。この場合両者の混合粉末を用いるこ
とが好ましい。粉末を用いる理由は、(lbi’j’模
中のアルカリ濃度を自由に1間両できるCと、(2)
NaMO2(M=A j! 、 G a ) などが潮
解性でめるため、混合焼結体ターゲットを作ることが困
難でるることなどである。
71の正極、負極材料としては、周知のどのようなもの
を用いてもよい。例えばリチウム電池では、負極材料と
してLi又はLi合金を、正極材料として+11i S
2などのLiイオンを受容・放出できるものが用いられ
る。
を用いてもよい。例えばリチウム電池では、負極材料と
してLi又はLi合金を、正極材料として+11i S
2などのLiイオンを受容・放出できるものが用いられ
る。
以F1本発明を実施例によって肝油1に説明する。
実施例1゜
Ga2O3およびNa2CO3原料粉末を4:1のモル
比で秤量混合し、1100’O,l 0時間反応さセテ
N a−β″−Ga203を作成する。まだ、モル比を
調整し、同様な方法にて、NaGao2粉末を作成する
。これら粉末をNa2o・4Ga2o3 :NaGa0
2=1 : 2 (mol)となるように混合し、この
粉末をターゲットし、スパックアップ方式とし薄膜形成
を行なった。また、本実施例は、プレーナーマグネトロ
ン高速スパッタリング法を採用した。上記ターゲットを
用い、基板温度:300”os8空度: 2 X I
OmmHg、放電ガス:(Ar102=60/40)@
形成速度:o、4μm / bのスパッタリング条件で
@を作成した。
比で秤量混合し、1100’O,l 0時間反応さセテ
N a−β″−Ga203を作成する。まだ、モル比を
調整し、同様な方法にて、NaGao2粉末を作成する
。これら粉末をNa2o・4Ga2o3 :NaGa0
2=1 : 2 (mol)となるように混合し、この
粉末をターゲットし、スパックアップ方式とし薄膜形成
を行なった。また、本実施例は、プレーナーマグネトロ
ン高速スパッタリング法を採用した。上記ターゲットを
用い、基板温度:300”os8空度: 2 X I
OmmHg、放電ガス:(Ar102=60/40)@
形成速度:o、4μm / bのスパッタリング条件で
@を作成した。
5in2、アルミナ基板上に模厚約2tnnの膜を作成
し、イオン伝導度を測定した結果300 ’Oにて2
X 10−5mho −cm−’であった0なお、β″
−Ga203の粉末のみからなるターゲットを用いたと
きは、上記同一条件で作成した模のイオン伝導度が、4
X 10 mho・cm でおった。これは、ス
パッタ中にアルカリが蒸発により失われたことによるも
ので、ターゲット組成を所望通りに制御することが非常
に重要であることがわかる。
し、イオン伝導度を測定した結果300 ’Oにて2
X 10−5mho −cm−’であった0なお、β″
−Ga203の粉末のみからなるターゲットを用いたと
きは、上記同一条件で作成した模のイオン伝導度が、4
X 10 mho・cm でおった。これは、ス
パッタ中にアルカリが蒸発により失われたことによるも
ので、ターゲット組成を所望通りに制御することが非常
に重要であることがわかる。
実施例2゜
MgAJ204あるいはアルミナを基板とし、実施例1
と同様のスパッタリング条件にて、1.5μm厚みのN
a−βG a 203薄膜を作成した。第1図は、この
#膜の基板面に平行方向に測定したイオン伝導度の温度
変化を示したもの(アレニウスプロット)である。図か
ら優れた特性の薄膜であることが分る。
と同様のスパッタリング条件にて、1.5μm厚みのN
a−βG a 203薄膜を作成した。第1図は、この
#膜の基板面に平行方向に測定したイオン伝導度の温度
変化を示したもの(アレニウスプロット)である。図か
ら優れた特性の薄膜であることが分る。
Na−βAl2O3の場合も、 ターゲット組成をNa
2O・11A1203:NaGa02=1:2(mal
)とすることで、β−Ga203とほぼ同様のイオン伝
導度を示す薄膜が得られた。
2O・11A1203:NaGa02=1:2(mal
)とすることで、β−Ga203とほぼ同様のイオン伝
導度を示す薄膜が得られた。
実施例3゜
Na Co 、Zr(J2.N1141−12PO
4,5in23 原料粉末をN a 3Z r 2 SI 2 P O□
2組成となるように秤量混合し、同相反応によ#)Na
3zr2Si2P0,2粉末を作成した。さらに、この
粉末にNaCO3をNa3Zr、、8i2PO,□:
NaC03= 1 :3(moj)となるよう混合しタ
ーゲットした。
4,5in23 原料粉末をN a 3Z r 2 SI 2 P O□
2組成となるように秤量混合し、同相反応によ#)Na
3zr2Si2P0,2粉末を作成した。さらに、この
粉末にNaCO3をNa3Zr、、8i2PO,□:
NaC03= 1 :3(moj)となるよう混合しタ
ーゲットした。
実施例1と同様なスパッタリング条件で571111厚
みの薄膜を作成し、その後800°0にて熱処理した。
みの薄膜を作成し、その後800°0にて熱処理した。
この様にして得られた薄膜のイオン伝導度は、200℃
において、2 X 10 m11o −cm−’であ
った。
において、2 X 10 m11o −cm−’であ
った。
実施例4゜
ZnO,Li COGem2の各原料粉末を、2
3+ L;、4Zn(Gem、)4となるように秤量、混合し
、1000”Oで3時間反応させて、上記の式の組成物
を得た。本焼成物をターゲットとし、LiO2ペレット
をターゲット上部に配置しく面積比30%)、スパッタ
アップ方式とし#膜形成を行なった。基板温度の上昇を
防ぐため、基板を水冷しながら真空度:、 2 X 1
0−2mmHg、 放電ガス(Ar10□=60/4
0)、プレート電圧2 kvs 膜形成iR度:0.5
μm / hのスパッタリング条件で石英ガラス基板上
に暎厚約2z+mの薄膜を形成した。このtin、 U
Nのイオン導電率は、室温で1×10”mho・cm
であった。
3+ L;、4Zn(Gem、)4となるように秤量、混合し
、1000”Oで3時間反応させて、上記の式の組成物
を得た。本焼成物をターゲットとし、LiO2ペレット
をターゲット上部に配置しく面積比30%)、スパッタ
アップ方式とし#膜形成を行なった。基板温度の上昇を
防ぐため、基板を水冷しながら真空度:、 2 X 1
0−2mmHg、 放電ガス(Ar10□=60/4
0)、プレート電圧2 kvs 膜形成iR度:0.5
μm / hのスパッタリング条件で石英ガラス基板上
に暎厚約2z+mの薄膜を形成した。このtin、 U
Nのイオン導電率は、室温で1×10”mho・cm
であった。
前記各種の固体電解質を、基板上の正極材料(TiS2
)の上に前述のよりなスパッタリング法で形成し、その
上に負極材料、負極集亀体を積層し、全固体リチウム電
池とした。このリチウム電池は、固体電M質がR膜であ
るため、電池全体としても薄型で、かつ内部抵抗も小さ
いだめ、優れたリチウム電池でめった。
)の上に前述のよりなスパッタリング法で形成し、その
上に負極材料、負極集亀体を積層し、全固体リチウム電
池とした。このリチウム電池は、固体電M質がR膜であ
るため、電池全体としても薄型で、かつ内部抵抗も小さ
いだめ、優れたリチウム電池でめった。
以上説明したごとく本発明の固体10は、その固体電解
質が10μm以下の薄膜においても、イオン伝導度の著
しく高い薄1摸であシ、バルク材料に比べ薄膜は厚みが
3桁程小さいため、イオン伝導1^〔は3桁大きくなる
。それ故、極めて薄い固体電池となる。
質が10μm以下の薄膜においても、イオン伝導度の著
しく高い薄1摸であシ、バルク材料に比べ薄膜は厚みが
3桁程小さいため、イオン伝導1^〔は3桁大きくなる
。それ故、極めて薄い固体電池となる。
第1図は、本発明の方法によシ製造した超イオン伝導性
薄膜におけるイオン伝導のアレニウスプロットを示ず線
図である。
薄膜におけるイオン伝導のアレニウスプロットを示ず線
図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、10μm以下の厚みの超イオン伝導性化合物を固体
電7’/i質として有することを特徴とする全固体電池
。 2、上記超イオン伝導性化合物がアルカリイオン伝導性
化合物であシ、上記電池はリチウム電池である特許請求
の範囲第1項記載の全固体i!池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105856A JPS5931569A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 全固体電池 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105856A JPS5931569A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 全固体電池 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP133180A Division JPS5699979A (en) | 1980-01-11 | 1980-01-11 | Manufacture of super ionic conductive thin film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5931569A true JPS5931569A (ja) | 1984-02-20 |
Family
ID=14418626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58105856A Pending JPS5931569A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 全固体電池 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5931569A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03281754A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-12 | Kobe Steel Ltd | 局部変形能に優れたガス遮断器用高Mn非磁性鋼 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52156200A (en) * | 1976-06-21 | 1977-12-26 | Massachusetts Inst Technology | Composition for transporting alkali metal ion rapidly |
JPS5378024A (en) * | 1976-12-22 | 1978-07-11 | Hitachi Ltd | Solid electrolyte |
JPS54120833A (en) * | 1978-03-10 | 1979-09-19 | Asahi Chemical Ind | Modified metallhalogen cell |
JPS5699979A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-11 | Hitachi Ltd | Manufacture of super ionic conductive thin film |
-
1983
- 1983-06-15 JP JP58105856A patent/JPS5931569A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52156200A (en) * | 1976-06-21 | 1977-12-26 | Massachusetts Inst Technology | Composition for transporting alkali metal ion rapidly |
JPS5378024A (en) * | 1976-12-22 | 1978-07-11 | Hitachi Ltd | Solid electrolyte |
JPS54120833A (en) * | 1978-03-10 | 1979-09-19 | Asahi Chemical Ind | Modified metallhalogen cell |
JPS5699979A (en) * | 1980-01-11 | 1981-08-11 | Hitachi Ltd | Manufacture of super ionic conductive thin film |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03281754A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-12 | Kobe Steel Ltd | 局部変形能に優れたガス遮断器用高Mn非磁性鋼 |
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