JPS5931035A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS5931035A
JPS5931035A JP57141490A JP14149082A JPS5931035A JP S5931035 A JPS5931035 A JP S5931035A JP 57141490 A JP57141490 A JP 57141490A JP 14149082 A JP14149082 A JP 14149082A JP S5931035 A JPS5931035 A JP S5931035A
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JP
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molybdenum
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composite material
thermal expansivity
metal
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JP57141490A
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Kazuo Ueda
和男 上田
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は大踵力用半導体装置、特に圧接構造を改良した
半導体装置に関する。
従来、数百A以上の電流容量の丈イリスタおよびダイオ
ードでは、敗トン程度の圧接力lを半導体エレメントに
加えて、陽極、陰極′這樋を外部に取出す圧接型の構造
が採用されている。これは、大電力用半導体装置では使
用されるクエハの直径が大きいため、中小鴫力用の半導
体装置のようにクエハの両面をハンダ等で電極金属に固
着し固定すると、通電時の発熱によって発生する熱ヒズ
ミが逃げられず、上記のハンダ部やクエハに直接加わシ
、ハンダ疲労やクエハ削れを生じ、寿命が極めて短くな
るためである。
第1図は、従来の圧接構造を有する大電力サイリスタの
断面図の要部である。図中、ill triシリコ畢 ンクエハ、+21 t;j上記クエハを補強するモリブ
デン板、(3)はロー材のアルミニタム層、(4)はシ
リコンクエバは)とオーミック接触を形成するアルミニ
クム層、(5)は陰極エミッタの形状にパターニングさ
れたモリブデン板、(6)は表面処理のゴム、(7)は
外部電極を形成する銅電極、(8)はセラミックパッグ
ージである。通常、第1図の銅゛踵極(7)に故トン程
度の圧接力Fを加えて圧接し、踵極収り出しを行ってい
る。上記の圧接構造では、滑シ面が第1図に示fa、b
、cの3ケ所あり、熱ヒズミはこれらの滑り向で互いに
ずれをおこすことによって逃がされる。この理由から、
数百A以上の電流容量のサイリスタ8よびダイオードで
は普通上記の圧接構造が採用されている。
しかしながら、上記の圧接構造でも従来よシ以−ドに述
べる欠点があった。例えば、第1図の半萼体装置に断続
通直すると、通常温度変化は約100℃ある。この温度
変化に対して第1図の各部が横方向にどの程度伸縮する
か概算してみる。クエハ直径を1001とすると、銅の
熱膨張率は17X10/c、、シリコンは3,5X10
/’C、モリブデンは5.lXl0/’Cであるので、
100℃の温度変化に対して銅電極(7)は横方向に1
70μ島、シリコンクエバ(1)は35μm1モリブデ
ン板(5)は51μ等伸縮することになる。シリコンク
エバ(1)とモリブデン板(5)との間の熱ヒズミは1
6μmと小さいので、主には銅4 m +71とシリコ
ンクエバ(1)、モリブデン板(5)の間で約120〜
130μ扉の熱ヒズミが加わることになる。圧接構造で
は、この熱ヒズミは第1図の滑り面a、b、cで逃が°
されるが、主には硬度のもつとも小さい個吋で逃か”°
される。
即ち、第1図のような金属の組合せ(銅、モリブデン、
アルミニウム)の場合、アルミニウム(4)とモリブデ
ン板(5)の滑り而Cである。実1祭のアルミニウム(
4)とモリブデン板(5)の滑り而Cは、第2図のよう
にモリブデン板(5)か完全な鏡面でなく、またシリコ
ンクエバ(1)自甜のそ9や変形があるため、均一な滑
り向とはならない。このような接触面でアルミニウム(
4)とモリブデン板(5)がこすり合せられると、局部
的な直流集中による温度上昇、局部的な圧接力の増大に
よって、アルミニウムとモリブデンが合金化されてくる
。上記の局部的な合金が出来た接触面は、もはや滑り而
とならず、更に断続通−を続けると、最後にはシリコン
クエバが削れ、この半専体装置は破壊してしまう。5v
咽者の経験では、断続通′電100時間程度の短時間で
破壊する′+Jのtみられち。
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、第1図の銅電極のかわりに、厚み
方向の熱膨張率を任意に変えうる熱伝導半導よび電気伝
導率の大きい金属とカーボンの複合材料を使用し、かつ
、上記モリブデン板に接する而の熱膨張率を上記モリブ
デンの熱膨張率に近接させたことを特徴とする牛辱体装
置を提供しようとするものである。
以−ド、本発明番奥舟与勇天施例にもト)z・(・て、
更に詳しく説明する。第3図は本発明によるl実施例で
ある。図中(9)および111の゛電極として、最近開
発されてきている金属と炭素繊維の複合材料が使用出来
る。この複合材料は金属の中に炭素繊維を網の目のよう
に組み込ん友もので、厚み方向の熱膨張率を任意に変え
ることが出来、また熱伝導率および電気伝導率の大きい
ものである。例えば、市販されている銅・カーボン複合
材料#−を熱膨張率を2〜12X10/’Cまで任意に
変えうることが出来、熱伝導率が1.1〜3.01℃、
4気伝導率が0.17 X 10〜0.38 X 10
  ′t/cmと大きいものである。第4図は、この複
合材料を使用した電極f91 tlQlの厚み方向の熱
膨張率を示したものである。
モリブデン板+51 (2)と接する而Aの熱膨張率を
4.5〜5,0XIO/′cとし、厚み方向に順次熱膨
張率を大きくしていき、約500μmの深さの位1iB
では熱膨張率を銅の熱膨張率に近い15〜17X10/
’Cとしである。
上記のような複合材料を゛電極として作製された圧接型
の中溝体装置では、上記した断続通゛4等によるヒート
サイクルが加わっても、各部が連続的に伸縮しアルミニ
ウムとモリブデン板の掠9合せが生じないため、アルミ
ニウムとモリブデン板のくっつきにょ11体装置の破壊
はほとんど与られない。
また、第5図は本発明による他の実施例である。
図中u11およびa4に上記銅・カーボン複合材料を使
用し、(13Jおよび(141には銅を用い、上記複合
材料(11)ら形成される。上記複合材料の厚みは、厚
い方がよいが熊抵痘斑し4気抵抗が大きくなるので、0
.5繊施例      ゛でモリブデンの代わりにタン
グステンを使用しても同様であることは明らかである。
上述したことから明らかなごとく、本発明の目的とする
ところは、従来の熱膨張率の大きく相適する異種金属間
の熱ヒズミを滑り面をつくることによって緩和する方法
に代えて、半導体ニレメンに近接させ、温度ナイクルが
加っても異種金属間に熱ヒズミが発生しなめようにした
ところにある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の圧接型の半導体装置の要部断面図、第2
図はアルミニクムとモリブデン板のiv#)面の拡大断
面図、第3図は本発明による圧接型の半導体装置の要部
断面図、第4図はI!極の厚み方向の熱膨張率の変化を
示した特性図、第5図は本発明による他の実施例を示す
断面図である。 (11・・・半導体基体、(31t4)・・・ロー材(
アルミニウム層)、f21 [51・・・第1.第2剛
体、(9)0臼・・・第1.第2磁極。 代  理  人       葛  野  信  −第
1図 第2図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  半導体基体と、該半導体基体の一方の主面に
    ロー材を介して固着された第1の剛体と、該第−1の剛
    体の他面に圧接固着された第1の外部電極と、上記半導
    体基体の能力の主面にロー材を介して固着された第2の
    剛体と、該第2の剛体の他面に圧接固着された第2の外
    部電極とを備え、上記型の半導体装置。
  2. (2)上記第1.第2剛体にモリブデンを主成分とした
    金属を、上記第1.第2外部電極に銅・カーボン複合材
    料を使用したことを特徴とする特許請求の帷囲第1項記
    載の圧接型の半導体装置。
  3. (3)  上記第1.第2剛体にタングステンを主成分
    とした金属を、上記第1.第2外部罐極に銅・カーボン
    複合材料を使用したことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の圧接型の半導体装置。
JP57141490A 1982-08-12 1982-08-12 半導体装置 Pending JPS5931035A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55117272A (en) * 1979-03-05 1980-09-09 Hitachi Ltd Semiconductor device
JPS5734343A (en) * 1980-08-09 1982-02-24 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device

Patent Citations (2)

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