JPS593006A - 安定化された過酸化水素水溶液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は２５乃至８５チの過酸化水素を含む高純度過酸
化水素用安定剤に関する。

過酸化水素は熱力学的に不安定であ８が、純粋であれば
自然分解はうけなり。しかし過酸化水素は不均一系又は
均一系触媒によって分解される。過酸化水素用に選ばれ
る安定剤は過酸化水素が接触すると予想される分解触媒
の量と性質による。例えば生産者によって大タンクに貯
蔵されている高純度濃過酸化水素は僅かの安定剤で十分
であるが、稀過酸化水素でさえ変りやすい触媒が混合す
ると高濃度安定剤を要する。

半導体工業又は化学試薬用途に使われる高純度過酸化水
素には厳重な仕様が必要である。過酸化水素は普通の分
解触媒と混合しても分解しない程安定でなければならな
い、しかもこれらの特殊用途に適応できる最小限添加物
を含む必要がある。

殆んどの過酸化水素安定化研究はアルミニウム容器中の
濃厚過酸化水素溶液の安定化を目ざしておりこの場合高
濃度過酸化水素は鉄および銅の様な可能な不純物を含む
普通水道水又は蒸留水のいづれかで稀釈されている。こ
の工業的調合例には米国特許第８，７８１，４０９号、
８，６８１，０２２号、８，８８８，１７４号、８，７
０１，８２５号および４，０６１゜７２１号がある。こ
れらの調合液は市販されている過酸化水素の代表的なも
のであり、また過酸化水素用安定剤としてこの分野でよ
く知られている有機ホスホン酸の様な有機化合物と共に
錫化合物を加えて又は加えずして安定化したものを包含
する。ちがった２安定剤混合の総合効果はめったに付加
的でない。結果は個々の安定剤成分の合計効果をしのぐ
こともあるがまた安定剤が互いに打消し合って殆んど又
は全く安定効果がないこともある。

過酸化水素の安定化はジャンプらのＡｍｅｒ、Ｃｈｇｒ
ｎ、Ｓａｃ。

ｍｏｎ、ｏｇｒａｐｈ　ｓｇｒｉｇｓのＨｙｄｒｏｇｅ
ｎ　Ｐｅｒｏｘｉｄｅ　５８４−５８９（１９５５年、
ニューヨーク、ラインホルト　パブリッシング社）に記
載されており、また最近キルクーオドマーのＥｎｃｙｃ
ｌｏｐｅｄｉａ　ｏｆ　ＣｈｅｒｎｉｃａＬ　Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｙ。

８版１８巻１４−１５（１９８１，ニューヨーク、ジョ
ンウィリー　アンド　サンズ）に記載されている。錫酸
ナトリウムは従来から過酸化水素の有効な安定剤として
知られており、ジャンプらはその用途を詳細記載してい
る。８５−過酸化水素用最適錫酸化物（Ｓｎｏｂ）濃度
はジャンプらの報告によれば０．１ダ／ｌ第２鉄に対し
０．８８Ｒｇ／＃である。

過酸化水素濃度上昇と共に安定剤必要量は減少すること
はよく知られている。したがって８５−過酸化水素につ
いてのジャンプらの報告よりも更に高濃度の錫がより稀
い過酸化水素には必要である。

イラニは米国特許第８．２８４１４０号に過酸化水素溶
液用安定剤として約ｏ、ｏ　ｏ　ｉ乃至約５チ、好まし
くは０．１乃至１チのアミノ　トリ（メチルホスホン酸
）を記載している。カー二ンらは米国特許第８，８８８
，１７４号においてアミノ　トリス（メチレンホスホン
酸）にトリロトリメチレンホスホン酸ともいわれる）と
錫酸ナトリウムの相乗効果混合物を記載している。安定
剤の最適範囲はアミノ　トリス（メチレンホスホン酸）
５０乃至８００１０９／ｌと錫化合物１０乃至１５０η
／ｌである。キラベルらは米国特許第８．６８１，０２
２号において錫酸す）ｌラムの様な可溶性アルカリ金属
塩形の錫８００ｍ９／ＩＩおよびアミノ　トリス（メチ
レンホスホン酸）１２５０ｍｌ／／ＩＩを含む８５％過
酸化水素調合液を発表し、またより低濃度の過酸化水素
には安定剤濃度増加が必要だという従来技術を確認して
いる。

ラデイマーらは米国特許第８，７０１，８２５号にエチ
レンジアミン　？）９（メチレンホスホン酸）が過酸化
水素の安定化に有効であると発表している。

多くの用途、例えば化学試薬や半導体用途にはこの高濃
度安定剤は使われない。本発明は特罠蒸発後最大残渣２
０〜／ｌをもつ過酸化水素、特に過酸化水素２５乃至３
５重量％を含む水溶液に応用される。例えば試薬過酸化
水素の仕様は分析２９．０乃至８２．０−の過酸化水素
について蒸発後の最大残渣２０Ｑ／ｌを要求する。過酸
化水素安定化に使われる錫化合物は普通の分解触媒の様
な陽イオンによって凝固し中和されうるコロイド状粒子
の形であることがよく知られている。ピロりん酸塩、り
ん酸塩および硫酸塩の様な陰イオンの添加はコロイド状
錫酸化物の安定性を改良すると知られている。しかし、
この物質の有効量はりん酸塩最大２ｍ９／ｌと硫酸塩最
大５■／ｅが指定されている試薬過酸化水素化学調合に
使用できない。この用途の過酸化水素の安定剤量には従
来法でいわれている最適値よりもずっと減少することが
明らかに必要である。更に過酸化水素の多くの使用者に
はそれを８μｍ又はより細かい濾過器で濾過するのがよ
り普通の方法である。この濾過は溶液中の粒状物を減少
しまた溶液中のコロイド状錫酸化物も減少する。

過酸化水素があとで重金属と混合されるならばこの錫酸
化物はその分解を防ぐために必要である。したがって問
題は必要な錫酸化物を沈降又は濾過で除去されない極微
粒子としてコロイド状に保つことである。

本発明によれば蒸発後の最大残渣２０■／ｌをもち汚染
物による分解に対し安定化された過酸化水素水溶液が製
造できる。上記水溶液は過酸化水素２５乃至３５重量係
、錫酸ナトリウム３水化物０．２乃至ｓ、ｏｖｑ７ｔお
よび有機ホスホン酸０．１乃至２．５１Ｎ９／ｌを含む
。

有機ホスホン酸のこの極低濃度が錫酸化物をコロイド状
とするに有効なことがはからずも発見されたのである。

この濃度は過酸化水素を安定化するに必要な有機ホスホ
ン酸最小濃度として従来法でいわれていた濃度よりずっ
と低いのである。

更ＫＶ機ホスホン酸によってコロイド化又は分散された
錫酸化物は０．２２μ常位細かな目開きの濾過器で除去
されず重金属不純物の存在においてもまた長期貯蔵後で
さえ安定剤として有効に残ることがはからずも発見され
たのである。

この調合液製造に使う過酸化水素は出来るだけ純水であ
夛また過酸化水素濃度調節に使う水も鉱物除去水（脱イ
オン水）又は多数回蒸留水のような高純度のものである
ことが重要である。中間原液によって安定化過酸化水素
調合液をつくるのは便利である。この安定剤原液が約３
０乃至５０％の過酸化水素を含むならば好ましい。この
１原液１５０ｔを製造するに約１３０ｔの過酸化水素液
に１８．７５ＫＦの錫酸ナトリウム３水化物を加えると
便利である。混合物を加熱せず錫酸ナトリウム全部がと
ける迄攪拌レアミノトリス（メチレンホスホン酸）１１
．０Ｋｆｔ加え混合物を攪拌し１５０ｔｉｆＣ稀める。

この液のガは約４．２５でなければならない。ｐＨｆ下
げるために必要ならば更にアミノ）’Ｊ２（メチレンホ
スホン酸）を加えてもよい。

溶液が過酸化水素２９乃至３２％に稀釈された場合錫酸
ナトリウム３水化物約０．２乃至３．０　ｍｙ／　Ｌお
よび有機ホスホン酸０．１乃至２．５Ｗｌｔを含む様過
酸化水素液に十分の原液を加える。溶液は錫酸ナトリウ
ム３水化物２．５　ｍｙ／　Ｌと有機シん酸１．５η／
ｌｔ−含むと好ましい。好ましい有機ホスホン酸はアミ
ノ上天色（メチレンホスホン酸）、１−ヒドロキシエチ
リデン−１，１−ジホスホン酸又はエチレンジアミ４テ
上２（メチレンホスホン酸）のいずれかである。

任意に最終過酸化水素液が硝酸ナトリウム０．２乃至３
．０＋１９／ｌｓ好ましくは２．５η／ｌを含むとよい
。

実施例 過酸化水素の１６試料又は調合液を電解法によシ製造し
た３回蒸留過酸化水素からつくった。

１６調合液の各々は１０．６ｔの８８−過酸化水素から
つくった。過酸化水素の同じロツ）１−すべての製造に
使用した。

それは比伝導度７．４Ｓ／ｃｍとｐｇ−０，１５′ｔ−
もっていた。使用した脱イオン水は比伝導度０．７３μ
５１０ｎであった。１０ガロンの調合液を白色ポリエチ
レン容器（つくった。

１６調合液を次のとおりつくった： １、脱イオン水９７．〇−中にＨａ　ｚｓｎｏ　ａ　・
３ＨｚＯ６，７０Ｏｆをとかして原液をつくった。液１
ｓｓｃに混合加熱し少し乳白色として冷却した。この錫
酸塩原液１−を種々の下記製造に使った。

この調合において錫酸塩原液１ｍ’ｔ８８％Ｈ２Ｏ２１
０，６中に混合した後脱イオン水を加えて３１％Ｈ２Ｏ
２３８，ＯＬとした。

２、上記屋１試料と同様に製造した。但し異なる脱イオ
ン水を用いた。

３．８８％Ｈ２Ｏ２１００−にＨａ２ＳｎＯ３−３Ｈ２
００，０６７ｔをとかして溶液をつくった後８８　％Ｈ
２Ｏ２１０，６ｔと混合した。この溶液を脱イオン水で
稀めて３１％Ｈ２Ｏ２３８，ＯＬとした。

４．７０％Ｈ２０，１３８ｔｄ中にＮａＮＯ３０，１０
３ｆ　ｔとかして他の溶液をつくシそれを米国特許第３
．７０１，８２５号においてラジマーのいうエチレンジ
アミン？上９（メチレンホスホン酸）を含む市販過酸化
水素で安定化した。この溶液を８８チＨ２Ｏ２１０，６
を中に混合し、脱イオン水２７．０４を會加えて混合し
３１チＨ２Ｏ２３８，ＯＬとした。（７０チＨ２Ｏ２１
ｔはＮａＯＨ１１０’１５、エチレンジアミンｊ上之（
メチレンホスホン酸）７００ｑおよびＮａＮ０ａ　１０
０　”Ｐを含んでいた）。

５．８８チＨ２Ｏ２１０，６Ｌにトリス（メチレンホス
ホン酸）（５０％）０．１７７７ＰとＮａＮ０ａ　０．
１１６　”ｆ’含む溶液を混合しこれに脱イオン水を加
えて３１％Ｈ２Ｏ２３８，ＯＬとした。

６、８８％Ｈρ２１０．６ｔに１−ヒドロキシエチリデ
ン−１，１−ジホスホン酸ＣＨＭＤＰ）（６０％）　０
．１５２９ｙとＮａＮＯｓ　０．１１６　ｇを含む液を
混合しこれに脱イオン水を加えて８１％Ｈρｘ８Ｂ、Ｏ
ｅとした。

７．８８％ＩＩ、０．　１０．６　ｌ！にピロりん酸４
ナトリウム０．１１８７ｇとＮａＮＯｓ　０．１１６　
ｇを混合しこれに脱イオン水を加えて８１チＨρ２８８
．ｌ［とした。

８．８８％ＨｖＯｖ　　１０．６１３中にジピコリン酸
０．５７０４．！ｉｌとＮａＮＯｓ　Ｏ，１１６ｇｋ含
む液を混合しこれに脱イオン水を）川えて８１％Ｂρ、
８８．［’とした。

９、脱イオン水６６ｆｉＪにＮａ＊５ｎＯｓ・Ｂ＆０　
２，５００　ｇをとかして原液をつくった。これに５０
％ＮａＯＨ溶液２０．０ρＯｇをカロえ、液を５０℃以
下で撹拌しながらエチレンジアミン　テトラ（メチレン
ホスホンｅ）ＣＥＤＴＭＰ）５．４６８ｇをしづかに〃
口えた。液を１００ｄにうすめｐＨは１８．６５とナラ
た。コノ液０．６８４ｍヲ３８　％ｌ１２Ｑ！５７＃Ｉ
７に加ｔ！＃Ｉにれを８８　％　ＨｔＯｘ　　１０．６
　ｅ　’Ｆ−ｍえると液のｐＨは−０，１から１．２５
に上昇した。ＥＤＴＭＰＯ，０５６１ｇを加え混合し８
８％Ｈ７０２のｐＨは１．１であったが、７０％ＩｉＮ
ＯｓＯＡＯ２４ｇを加えるとｐＨは０．２０に下がった
。脱イオン水で稀釈し３１％Ｉｈ０ｔ　８８．０１とす
るとｐＨは最後に８．７０となった。

肚脱イオン水６６ｍ１ＶＣＮｔＬｔＳｎ０３・８Ｈｔ０
　２．５９をとかし５０　％ＮａＯＨ２０，０００ｇを
加えた後５０℃以下の温度で液を撹拌しながら５０％ア
ミノ　トリス（メチレンホースホン酸）（ＡＡ（Ｐ）１
０，０００．！ｉ’をしづかに加えた。液を１００ｄに
稀めｐＨ１８，８となった。この液０６８４扉ｔを８８
　％　１１＊ｏｔ　５７　ｒｎｌに加えた。これを更に
８８％Ｉｈ０２１０．６ｅＫ加えるとｐＨは−０，１カ
ら１．１８に：上昇した。

ＡＭＰＯＡ０２８ｇを加え混合し８８％ＨｔＯｔのｐｆ
ｌｏ、９５となり、また７０％ＨＮＯ，０，１０２４ｇ
を加え７）ＨＯ，２６となった。液を脱イオン水でうす
めて３１％Ｈ，ｏ、　ａ　ｓ、。

ｌとし最終ｐＨ８，４５となった。

１１、　上記調合／１６１でつくった原液１ｄをＮａＮ
Ｏｓ　Ｏ，１１５９ｙおよび５０％ＡＭＰＯ，ＬＴ’１
８ｇと混合した。えた混濁液を８８チＩｂ０ｔ　１０．
６　Ｊ？に混合し脱イオン水で３１％ＨｚＯｔ　８８．
０１とした。

１２、　８６　ｆｂＨ，０，８ｍｌを脱イオン水５Ｑｍ
と混合しＮ０１４ＳｎＯ，・８Ｈ，０１８，７５ｇとＡ
ＭＰ２２ｍｌを加えた。混合物を加熱せず撹拌し脱イオ
ン水１５０ｄでうすめｐＨ４，２５をもつ溶液とした。

この液０．７６１ｄと７Ｖ　ａＮＯｓ　Ｏ，０９５８、
ｊｉ’を８８　％　ＨｔＯｔ　１０．６１３に混入し脱
イオン水でうすめて８１％ＨｘＣｈ　８８．０　ｇとし
た。

肚上記調合／Ｉ６１につくった錫酸塩原液１ｄにＮαＮ
０ｓＯ，１１５９ｇと６０チＨＥＤＰ０．１５８８Ｅｌ
を加えた。えた透明液を８８９６　ＨｔＯｔ　、１０．
６１に混入し脱イオン水でうすめて８１％Ｈ，０！　８
８．０　＃とじた。

１４．８８−Ｈ，Ｏ１２０ｙｄを脱イオン水５０−と混
合しＮａにｎｏｓ・８ＨｔＯ１８，７５Ｅｌを加えた後
６０９ｂＨＥＤＰ１７．８８ｍＡを加えた。混合物を加
熱せず撹拌して溶液とし脱イオン水で１５０ｄにうすめ
た。液のｐＨは４．８０であった。８８％ｌ１ｔＯ２１
０，６ｅ中に上の液０．７６１７とＮａＮ０ｓＯ，０９
５９９を混合し脱イオン水で８１チＨ，０，８ｓ、Ｏａ
にうすめた。

ｂ、上記調合／Ｉ６１につくった錫酸塩原液［ｄにＮａ
Ｎ０ｓＯ，１１５９ｇとＮａｔＨＰＯａ　Ｏ，１２６８
、！ｉ’および脱イオン水０．１２２５ｇを加えた。こ
れを８８チＨ，０，１０，６＃に混入し脱イオン水を加
えて８１％Ｈｏｏ、８８．０１３とした。

８１％ＨｔＯｔのｐＨを７０チＨＮＯ３０，１２２７ｇ
を用いて調節した。

■、上記調合／Ｉ６１につくった原液１ｄをＮαＮＯ３
０，１１５９ｇと混合しこの透明液を８８　’４１ｈＯ
ｔ　１０．６１３中に混入し脱イオン水でうすめて８１
％Ｈ，０２８８，０＃とした。

製造した試料および調合液の錫とりん酸塩含量は表１と
田に報告している。試料４から８までのりん酸塩は計算
したが、残りは実際に測定した。少なくも１ケ月貯蔵後
次の測定を行なった： １、過酸化水素の濾過しない試料、８μｒｎ（ｐ過器で
濾過した試料およびＢｙｉｍのあと５μｍ父はＱ２２μ
ｒｎ（ｐ過器のいづれかで濾過した試料について安定性
を検べた。安定性は１００℃、２４時間後の残留過酸化
水素］く一セントとして表■に報告した。２試料を試験
し安定性の高い方を報告した。

２、汚染物添加後の過酸化水素調合液の安定性を検べた
。

濾過しない試料と８μｍｉｐ過試料に使った汚染物濃度
はＡｅ　１２１１．！ｉ［／Ｉ１．　Ｆｇ　１２１１ｇ
／ＩＩ、　Ｃｂ　２．４１１１／ｌ、Ｍｎ　１，２Ｐｆ
ｉ／１３およびＣｒ０−６Ｐｊｊ／１３であった。５ｐ
ｍ濾過試料の汚染物濃度は上記のイ０としまた０、２２
μｍ（濾過試料の汚染物濃度を８μｒｎ濾過試料のイ。

。。罠減少した。

結果を表■に報告した。

８、濾過前と上記濾過後の試料の錫濃度を測定しμｍ１
／１ｌＳｎとして表Ｉに報告している。

４、　濾過前と上記濾過後の試料のりん含量を測定しμ
ｇ／ｌ　Ｐｏ４として結果を表Ｈに報告している。

表ｍと■かられかるとおり有機ホスホン酸調合液はこの
濃度では安定剤として比較的効果な〈従来の結果を確認
した形となった。錫で安定化した試料１．２および８は
不規則に安定で、濾過大きさが小さくなり錫とりん分析
が減少すると時には安定性が大きくなる。この理由は濾
過によって分解触媒が錫フロックと共に除去され溶液を
より純粋とするのでより安定となるのであろう。

試料の安定性を２回試験し、試料ｌと２は不定であった
ので、反復測定結果を次のとおり示す；試料１（汚染さ
れない）濾過しない−９９，４，９９，０；８μｙｎ（
濾過−９８，９，９８，４；　５μｒｎ濾過−ｇ　６．
８．９４．９；０．２２μｒｎ（濾過−７７，８，９８
，５゜試料１（汚染された）濾過しない−７２，８，７
４，０；　８ｐｍ濾過−７９．９．７９．２　：　５　
ｐｍｉｐ過−８８，９、ｓ　９．５；０．２２１１　ｒ
ｒＬ濾過−７７，８，９３，５゜試料２（汚染されない
）濾過しない−９９，１，９９，２；８　ｐ　ｒｎ濾過
−９９，０，９９，０；　５　／’　ｍ濾過−９６，５
，９６，８；０．２２　ｐ　ｒｒＬ濾過−９１，５，９
７，０゜試料２（汚染された）濾過しない−６７，７，
８５，８；　ｓｐｍ濾過−８２，４，８１，１；　５μ
ｒｎ（濾過−９８，２，８８，０；０．２２　ｐ　ｒｎ
濾過−７１，９，７９，１゜表■ １０．８　０．６　０．５　０．０　０．０２０．８　
０．６　０．４　０．０　０．０８０．８　　　０．６
　　　０．０　　　０．０　　　　０．０４０．０　０
．０　０．０　０．０　０．０５０．０　　０．０　　
　０．０　　　０．０　　　０．０６０．０　　　０．
０　　　０．０　　　０．０　　　　０．０７０．０　
　０．０　　　０．０　　　０．０　　　０．Ｏｓｏ、
ｏ　　　　ｏ、ｏ　　　　ｏ、ｏ　　　　ｏ、ｏ　　　
　ｏ、。

９０．２　０．２　０．２　０．２　０．２１００．２
　　０．１　　　０゜１　　　　ｏ、１　　　　ｏ、ｉ
ｌｌ　　０．８　　　０．８　　　０．８　　　０，８
　　　　０．６１２１．１　１．１　１．１　１．１　
１，１１８０．９　１．０　１．０　０．９　０．９１
４１．１　１．２　１．２　１．２　１．２１５０．８
　０．８　０．９　０，８　０．８１６　０．８　　０
．７　　　０．４　　　０．１　　　　０．０表■ １０．０　０．０　０．０　０．０　０．０２（ｔｏ　
　Ｏｏｏ　　０．０　０．０　０．０８０．０　０，０
　０．Ｑ　　Ｏｏｏ　　０．０４２．２　１．９　２．
０　２．０　２，０５２．２　２．０　２．０　１．９
　１．８６２．２　２．１　２．０　２．０　２．０７
２．２　２．１　２．１　１．９　１．８８０．０　０
．０　０．０　０．０　０．０９２．１　１．８　１．
８　１，８　１．８１０２．１　１．８　２．０　１．
９　１．８１１２．２　２．０　２．０　２．１　２，
１１２１．８　１．７　１．８　１．７　１．８１８２
．２　２，２　２．２　２．１　２．２１４１．８　１
．７　１．６　１．６　１．５１６２．２　２．１　２
．１　２．１　２．１１６０．０　　Ｇ、０　０．０　
０．０　０．０表■ ２４時間安定性、Ｈｔ　Ｏを保持チ 老化　　　　　　　　　炉　過 １　　８８　　９９．４　　９８．９　　９６．８　　
　８４．５２　　８８　　９９．２　　９９．０　　９
６．８　　　９７．０８　　４８　　９９．１　　９９
．９　　９６．８　　　７５．６４　　４９　　４８．
９　　９８．０　　８５．０　　　６２．７５　　４９
　　９９．８　　９９．２　　９５．６　　　８６．５
６　　４９　　８８．８　　８４．５　　８０．６　　
　８Ｂ、８７　　５１　　８０．１　　６８．６　　５
９．６　　　５１．０８　　５１　　７８．９　　９９
．４　　８２．２　　　４８．５９　　４９　　９８．
９　　９９．４　　９９．２　　　９８．８１０　　５
４　　９９．４　　９９．０　　９７．９　　　９４．
１１１　　５５　　９９．６　　９９．６　　９６．ｒ
　　　　９９．１１２　　５６　　９９．６　　９９．
７　　９９．７　　　９９．６１８　　６２　　９９．
８　　９９．２　　９８．８　　　９８．７１４　　６
１　　９９．２　　９９．４　　９９．０　　　９９．
２１５　　６６　　９９．４　　９９．８　　９９．８
　　　９８．８１６　　６６　　９９．８　　９９．８
　　９９．１　　　８７．７表■ ２４時間安定性、Ｈｔ（ｈ保持チ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、蒸発後の最大残渣２０Ｗ／１３をもつ過酸化水素水
   溶液であって、２５乃至８５重ｔＬ４の過酸化水素、０
   ．２乃至８．０１ｎｇ＃？の錫酸ナトリウム８水化物お
   よび０．１乃至２．５ｍｌ／／１３の有機ホスホン酸を
   廿むことを特徴とする汚染物による分解に対し安定化さ
   れた過酸化水素水溶液。 ２、有機ホスホン酸がアミノ　ｌ−ＩＪ　７．　（メチ
   レンホスホン酸）である特許請求の範囲第１項に記載の
   組成物。 ａ、　有ｍホスホン酸が１−ヒドロキシエチリデン−１
   ，１−ジホスホン酸である特許請求の範囲第１項に記載
   の組成物。 ４、有機ホスホン酸がエチレンジアミン　欠１之−（メ
   チレンホスホン酸）である特許請求の範囲第１項に記載
   の組成物。 ５、溶液が０．２乃至８．０■／ｌの硝酸す）ｌラムも
   含んでいる特許請求の範囲第１項から４項捷でのいづれ
   かに記載の組成物。 ６、純過酸化水素溶液に十分のアルカリ金属錫酸塩と有
   機ホスホン酸を加えて錫酸ナトリウム８水化物０．２乃
   至８．ＯＷ／１３および有機ホスホン酸０．１乃至２．
   ５１ｎｙ／　＃の濃度とすることを特徴とする蒸発後の
   最大残渣２０〜／ｌ！をもちかつ汚染物による分解に対
   し安がな過酸化水素の２５乃至３５重′ｔ％水溶液の製
   法。 ７、有機ホスホン酸がアミノ　１７．（メチレンホスホ
   ン酸）である特許請求の範囲第６項に記載の方法。 ８、有機ホスホン酸が１−ヒドロキシエチリデン−１，
   １−ジホスホン酸である特許請求の範囲第６項に記載の
   方法。 ９、有機ホスホン酸エチレンジアミン　テトラ−（メチ
   レンホスホン酸）である特許請求の範囲第６項に記載の
   方法・瓜稀釈後０．０２乃至Ｂ、ＱＩ！９／ｇに相当す
   る十分な硝酸ナトリウムを添加する特許請求の範囲第６
   項から９項までのいづれかに記載の方法。