JPS5929110B2 - 被覆装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 従来において、バッチ方式でもつて大きな基体を大きな
容量で被覆するための被覆装置はすでに３５開発されて
いる。

例えば、従来の被覆装置には、リスかご（ｓｑｕｉｒｒ
ｅｌｃａｇｅ）タイプの回転システムが採用され、それ
は基体を水平軸線のまわりで゜ウー回転させるべく保持
するために利用され、このとき基体はリスかご内に支持
されている。

被覆のための蒸気源はリスかご内に配置されたシンブル
（Ｔｈｉｍｂｌｅ）に設けられる。さらに、リスかご内
には、被覆に必要なすべての設備が配置される。このよ
うな従来の被覆装置においては、ピンホールの無い被覆
を得ることがむずかしいということが分つている。とい
うのは、リスかご内から、またその内側表面の下方の他
の部分からはげ落ち材料が被覆されるべき基体の表面に
落下することになるからである。また、従来の被覆装置
においては、それを使用時に清浄な室と合致させること
がむずかしくなつている。したがつて、上述したような
困難性を排除した新規な改良被覆装置が要望されている
。一般に、本発明の目的は、被覆中に基体上に落下する
ような塵埃および汚染物を最小にする被覆装置を提供す
ることである。

本発明の他の目的は、大きな容量を処理し得る上述のよ
うな被覆装置を提供することである。

本発明の別の目的は、基体の被覆において比較的良好な
均一性が得られる上述したような被覆装置を提供するこ
とである。本発明のさらに別の目的は、基体が取付けら
れるようになつたロータの形状、その位置およびその回
転軸線が蒸気流の余弦分布を補足して、比較的均一な被
膜厚さが得られるようになつている被覆装置を提供する
ことである。

本発明のさらに別の目的はほとんど欠陥の無い被覆が行
われる上述のような被覆装置を提供することである。

本発明のさらに別の目的は、清浄な環境で装置を容易に
操作し得るようになつている被覆装置を提供することで
ある。

本発明のさらに別の目的は、２つのロータを設けること
ができる上述したような被覆装置を提供することである
。

本発明の別の目的および特徴は、添付図面を参照して記
載した好ましい実施例についての以下の説明から明らか
になるであろう。

被覆装置は、ハウジングおよびハウジングに真空を作る
ための装置をもつている。

被覆材料源は、ほぼ余弦分布を有する蒸気流を作るため
に、ハウジング内に支持されている。少くとも１つのロ
ータは、水平から４５て以下まで、ずらされた軸線のま
わりで回転するように、ハウジング内に支持されている
。ロータは、被覆されるべき基体を支持するためのほぼ
円形の装置を備え、そのために、円形装置および円形装
置の上方部分における基体からの被覆装置は、円形装置
の下方部分によつて支持された基体上に落下できない。
この目的のために、円形装置は、その上方部分における
円形装置の最内端から垂直に延びる仮想線が、円形装置
の底部分における円形装置の部分の最外端を越えるよう
な大きさの回転軸線の長さ方向の寸法を有している。こ
の態様において、円形装置の上方部分から重力によつて
落下する破片およびその他の材料は、円形装置の底部分
を通り過ぎる。本発明の被覆機械すなわち被覆装置は、
第１および第２図に示されている。

ここに示したように、被覆装置は、ハウジング１１より
なり、これは、第１図に示したように正面図において
ほぼ長方形を有し、第２図に示したように平面図におい
ては、たる形を有している。図示したように、ハウジン
グ１１は、床１２上に置かれるようになつていて、かつ
間隔を置きほぼ平行の１対の垂直端壁１３および１４と
、ほぼ水平の上端１６と、前壁１７と、後壁１８とを備
えている。第２図に示したように、前壁１７は、大きさ
が比較的に小さい１対の装填用ドア２１および２２を備
えているとともに、後壁１８は、本装置の清浄を容易に
するために大きい入口ドア２３を備えている。本装置は
、清浄な室設備に合致するように構成されている。

したがつて、例えば、第２図に示したように、本装置は
、線２６によつて表わされた清浄室へ装填用ドア２１お
よび２２が開口し、本装置の残りの部分が汚れた環境に
配置されるように、支持されている。真空をハウジング
内部に供給するための装置が設けられており、その装置
は、１つまたはそれ以上の拡散ポンプ３１から構成され
ることができる。

拡散ポンプ３１はハウジングに連結されてハウジング内
に所望の真空を与える。少なくとも１つまたは好ましく
は一対のロータ３６および３７がハウジング１１内に取
付けられている。

ロータ３６および３７を軸線３８および３９を中心とし
て回転させる装置（図示せず）が設けられており、空間
の必要性を最少限にするため、これらの軸線は４５呈以
下だけ水平面から偏向されている。図示の如く、ロータ
３６および３７は截頭円錐体であり、それらの支持構造
体４１および４２は関連するシヤフトに取付けられてい
る。支持構造体４１および４２は平らな円形状板であり
、それらの円形状板はラツク、またはラツク状構造体４
３および４４を支持している。ラツク４３および４４は
円錐状に示されている力人必要に応じて、軸線３８およ
び３９を中心として回転される円形状装置を与えるよう
に円筒状でもよい。ロータ４３および４４は．それらの
上部が互いに接近して向い合い且つそれらの下部が離れ
るように傾斜している如く、取付けられている。

このことは後述の如く、２，３の利点を有する。第１図
および第２図に示す如く、このことによつて、ハウジン
グ内で２つのロータ３６および３７の下端の間に被覆源
の支脚４６の取付けが可能である。少なくとも１つまた
は好ましくは２つ以上の被覆源４７が、第２図に示す如
く、支脚によつて支持され、室の中心線の両側に設けら
れている。被覆源４７は、例えば電子銃タイプの被覆源
の如き従来形式のものでよく、この電子銃タイプの被覆
源の各々はほぼ余弦分布を有する蒸気流を与える。ラツ
ク状構造体４３および４４は、支持構造体の内側表面が
支脚４６によつて支持された被覆源４７からの蒸気流の
余弦分布強度に全体的に近ずくように、支持構造体４１
および４２に垂直な線にある角度をもつて外方に延びて
いる。このようにして、蒸気流の分布を変化させるため
の補助マスクを用いないで、約１０％内で均一の分布を
得ることが可能である。マスクに蓄積する被覆材料はは
げ落ちて基体を汚染する恐れがあるので、そのようなマ
スクは、欠陥のない被覆を製造する際には望ましくない
ものである。ラツク４３および４４の内面５１および５
２は、物品即ち基体５３を支持するために利用すること
ができ、そのうちの一方の面は、被覆源４７から蒸発し
た物質で被覆される。

面５１および５２の、支持構造体４１および４２と垂直
で軸線３８および３９とそれぞれ平行な方向の距離は、
ラツク４３の上方部分から垂直に延びる破線５４により
示された仮想垂直線が、第１図に特に示されているよう
にラツクの底部を容易に越えるような大き］さであり、
ラツクは以下に説明する目的のために図示の量だけ傾斜
している。

更にロータ３６および３７の上端あるいは上部の間に十
分な空間が設けられ、その空間を通つて蒸気がいくらか
漏出し、その蒸気をハウジング１１の上部に支持された
光検知装置５６により探知することができる。

同じく、被覆される面の掃除のためにしばしば使用され
るグロー放電装置を設けるために、被覆源の支脚４６が
適当な位置にあることが理解される。

加熱を望むならば、ヒータを被覆源の支脚４６の上に設
けることができる。装置の作動中ほこりあるいは他のく
ずを集めないように、グロー放電装置及びヒータを下向
きに設けるべきである。これらのグロー放電装置及びヒ
ータは、支脚の上に５８及び５９として概略的に示され
ている。ハウジング１１の内部の掃除を容易にするため
に、ロータ３６及び３７の上万でハウジングの中にシー
ルド６１および６２を設けることができる。光探知装置
５６が被覆源４７からの蒸気流を探知できるようにする
ために、シールド６１及び６２は隔置され中央開口６３
を提供する。ラツク４３及び４４の寸法は、主として被
覆が望まれる基体の大きさによつて決定される。例とし
て本発明を利用する被覆装置においては、ハウジングの
全高さが約９フイート（２．７ｍ）、ロータの直径が９
フイート（２．７ｍ）で、ラツク４３及び４４は約２０
インチ（５０．８ＣＷＬ）平万までの基体を支持するこ
とができる。本発明の方法を実施する被覆装置の作動を
以下に簡単に述べる。

被覆装置は図示のごとき清浄な室内で作動させることを
念頭におかなくてはならない。かような状況において、
装填用ドア２１および２２を開き、被覆されるべき基体
をラツクに装填する。被覆源４７に被覆物質を供給し、
その後装填用ドア２１および２２を閉じる。次いでロー
タ４３および４４を軸線３８および３９の回りに回転さ
せる。所望ならば、前述のグロー放電清浄工程および加
熱工程を取り入れてもよい。その後被覆源４７を作動さ
せて蒸気流を発生させる。この蒸気流はラツク４３およ
び４４の上部に向つて余弦分布の状態で上万に移動し、
前記ラツクに支持され且つ被覆源４７に向いている基体
５３の内面に衝突する。これにより、基体の露呈面は、
当業者に周知の方法で１つ以上の被覆層に被覆される。
被覆工程が完了した後、装填用ドア２１，２２を開けて
被覆された基体をロータ３６，３７から取外すことがで
きる。その後、同じ作業を繰返して行なう。被覆装置の
構造は、多数の被覆作業が行なわれた後に、汚れた環境
の被覆装置へ大きな入口ドア１８を通して手を入れるこ
とができるようになつている。被覆物質が最適に利用さ
れるようにするため、被覆源の支脚４６は、被覆源４７
がほぼロータ３６，３７の回転軸線と同じ高さに取付け
られるように構成されている。

もしも電子銃が中心線よりも実質的に上万に位置してい
る場合には、良好な均一性を得ることが困難になる。も
しも電子銃が中心線よりも実質的に下万に位置している
場合には、被覆物質の無駄が大きくなる。図示した構造
では、支持された基体の内面５１および５２から（従つ
て、ロータ３６および３７の上部から）被覆物質が落下
するようなことがある場合には、その被覆物質が下万に
滴下し、決してロータ３６，３７の下部に支持された基
体の上には落下しない構造であることが理解されるであ
ろう。

このことは、コーテイングされるべき面が常に比較的清
浄に保たれ且つ実施的にピンホールの無い被覆が行なえ
ることを保証する。かくして、ロータを前述のごとく傾
動させることにより、ロータの上部から落下する汚れた
他の塵埃が、重力によつて下万の基体の上に落下するこ
とのないようにすることができる。落下するいかなる物
質もロータから下万に落下し、ハウジング１１の底部に
至る。以上の説明から、基体の上に塵埃等が落下する恐
れがなく、大量の基体−を比較的迅速に被覆することが
可能な被覆装置が提供されることが理解されよう。

このことは、ロータを傾動させることによつて両上端部
が互に近づき、両下端部が互に引き離されるので、上端
部から落下する塵埃等が下端部に支持された基体上に落
下しないようにして達成される。

【図面の簡単な説明】 第１図は、本発明を組合わせた被覆装置の概略側面図で
あり、第２図は、第１図に示された被覆装置の平面図で
ある。 １１・・・・・・ハウジング、３６．３７・・・・・・
ロータ、４３，４４・・・・・・ラツク、４７・・・・
・・被覆源。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ハウジングと、このハウジングの中に真空を作る装
   置と、前記ハウジングの中に設けられていて、略余弦分
   布を有する蒸気流をもたらすための被覆材料源と、水平
   から４５°以下に傾けられた軸線のまわりに回転できる
   よう前記ハウジングの中に設けられた少なくとも１つの
   ロータとからなり、前記ロータは、材料源の上および下
   に延び、かつ一般的に円形のラックを有し、前記ラック
   は、回転軸線に向いていてロータが回転する少なくとも
   一時期、蒸気源の上に位置する内部基体支持面を有し、
   ラックの頂部分から重力で落ちるくずがラックの下部分
   を越えるようにするため、回転軸線と平行な方向におけ
   るラックの寸法はラックの頂部分で最も内側の端から垂
   直に延びる仮想線がラックの底部分の外端を越えるよう
   な大きさであることを特徴とする被覆装置。 ２ 前記ハウジングに取付けられた第１のロータとほぼ
   同じ大きさおよび形状を有するもう１つのロータを有し
   、前記このロータは水平から４５°以下だけ第１のロー
   タと反対方向に傾けられ、ロータの上端部が互いに比較
   的近接しており、ロータの下端部が可成りの距離間隔を
   へだてられていることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項に記載の装置。 ３ ロータの間に位置された被覆材料源を有することを
   特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の装置。 ４ 前記ロータは截頭円錐形の形をなしていることを特
   徴とする特許請求の範囲第２項に記載の装置。 ５ 被覆材料源は２つのロータ間に配置されることを特
   徴とする特許請求の範囲第４項に記載の装置。 ６ 被覆材料源は、ロータの回転軸線とほぼ一線をなす
   レベルに配置されていることを特徴とする特許請求の範
   囲第５項に記載の装置。 ７ 清浄室で使用するための装置において、装置の一部
   分が清浄室に合致し、装置の他の部分が清浄室の外部に
   ある、特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ８ 前記ハウジングは開口部と、前記開口部を閉鎖する
   ドアとを備え、前記開口部は前記清浄室へ開口している
   、特許請求の範囲第７項に記載の装置。