JPS6242534Y2 - - Google Patents

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JPS6242534Y2
JPS6242534Y2 JP1982127331U JP12733182U JPS6242534Y2 JP S6242534 Y2 JPS6242534 Y2 JP S6242534Y2 JP 1982127331 U JP1982127331 U JP 1982127331U JP 12733182 U JP12733182 U JP 12733182U JP S6242534 Y2 JPS6242534 Y2 JP S6242534Y2
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JP
Japan
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mounting table
drying
dried
shielding plate
heater
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JP1982127331U
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JPS5931241U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、赤外線ヒータを使用して被乾燥物の
乾燥を行うようにした乾燥装置に関するものであ
る。
有機溶剤を用いて半導体ウエハーや各種機械部
品等の洗浄を行う洗浄装置においては、洗浄槽の
後段に赤外線ヒータを用いた乾燥装置を連設し
て、洗浄後の物品を赤外線で強制乾燥させるよう
にすれば、その乾燥速度を早めて洗浄装置として
の効率を高めることができるが、物品の間を通り
抜けた赤外線によつて乾燥槽自身や加熱の必要の
ない部材までが加熱され、それらが非常に高温に
なるため、人体や他の部材との接触による危険性
が非常に高いという問題がある。
叙上に鑑み、本考案は、赤外線により乾燥槽特
にその頂部が不必要に加熱されるのを防止した乾
燥装置の提供を目的とするもので、乾燥槽の内部
に昇降自在に配設した被乾燥物の載置台に、被乾
燥物間を透過した赤外線を遮断するための遮蔽板
を取付けたことを特徴とするものである。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に
説明するに、第1図及び第2図に示す乾燥装置1
は、有機溶剤を用いて半導体ウエハーやその他の
機械部品などの洗浄を行う図示しない洗浄装置に
付設され、洗浄されて送られてくる上記物品の乾
燥を行うものであつて、該乾燥装置1における乾
燥槽2の内部には、その底部に赤外線ヒータ3を
上向きに設置すると共に、該ヒータ3の上方に、
乾燥すべき物品の載置台4をガイド杆5に沿つて
昇降自在に配設し、この載置台4上に洗浄かご等
を介して載置せしめられた物品6を上記ヒータ3
からの赤外線によつて下方より加熱するように構
成している。
上記載置台4は、基板7の左右に設けた案内ロ
ーラ8,9をガイド杆5に嵌合させ、この基板7
を図示しない駆動源に連結されたチエーン等の吊
紐10を介して昇降させるようにしてもので、上
記基板7の下端に支持棧11を介して軸受部材1
2を取付け、この軸受部材12と基板7との間に
物品6を支持させるための複数の支持ローラ13
を回転自在に支承させ、基板7の上部には、上記
支持ローラ13との間に物品6の載置間隔をおい
て赤外線の遮蔽板14を取付けている。この遮蔽
板14は、ヒータ3からの赤外線を遮断すること
により、それより上部に位置する乾燥槽2の側壁
上端や蓋の部分あるいはその他の部材などが加熱
されるのを防止するものであつて、ステンレスや
アルミニウムなどの金属素材によつて形成されて
いる。
また、上記乾燥槽2の側壁には、乾燥により発
生する有機溶剤のガスを強制的に排出するための
吸込口15と、新鮮な空気を槽内に供給するため
の供給口16とを設け、これらの口15,16を
それぞれ図示しない吸込装置及び供給装置に連結
している。この場合、加熱により分解等の化学変
化を生じ易い有機溶剤ガスがヒータ3と接触する
のを防止するため、図示したようにガスの吸込口
15を上部に設け、空気の供給口16をヒータ3
に近い下部に設けるのが望ましい。
上記構成を有する乾燥装置において、ガイド杆
5に沿つて上昇した載置台4上に図示しない洗浄
装置から洗浄の終了した物品6が送り込まれる
と、該載置台4は図示した位置まで下降し、ヒー
タ3からの赤外線によつて物品6の乾燥が行われ
る。このとき、物品6の隙間や側面を通り抜けた
赤外線は、遮蔽板14に当つて反射され、それよ
り上方へ透過するのが防止される。一定時間乾燥
が行われると、載置台4は再び上昇し、適宜の搬
送手段によつて乾燥した物品6が取出されると共
に、新たな物品が載置台4上に送り込まれ、上記
乾燥工程がくり返される。
なお、上記ヒータ3は、載置台4の昇降に連動
して自動的にオン・オフさせるようにしてもよ
く、また、乾燥槽2の側壁の温度上昇を抑えたい
場合には、その外面にジヤケツトやコイル状冷却
管等を周設して冷却水を流すようにすればよい。
以上に詳述したように、本考案によれば、被乾
燥物の載置台に遮蔽板を一体に取付け、この遮蔽
板によつて被乾燥物間を透過した赤外線を遮断す
るようにしたので、乾燥槽の側壁上端や頂部の蓋
などが不必要に加熱されて異常に高温になるのを
確実に防止することができる。
また、遮蔽板を載置台に取付けたので、被乾燥
物に近接して該遮蔽板が配設されることになり、
そのため、被乾燥物間を透過した赤外線が大きく
拡散しないうちにそれを確実に遮断することがで
きると共に、遮蔽板で反射された赤外線を再利用
して被乾燥物を効率よく乾燥させることができ、
さらに、槽内における載置台以外の場所に被乾燥
物に近接させて遮蔽板を設けた場合には、載置台
の昇降の度に何等かの手段によつて該遮蔽板を開
閉しなければならず、構造が複雑になるのが避け
られないが、本考案においては、載置台に直接遮
蔽板を取付けているので、載置台の昇降に際して
該遮蔽板をいちいち開閉する必要がなく、構造が
簡単である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の乾燥装置の要部縦断側面図、
第2図は同正面図である。 1……乾燥装置、2……乾燥槽、3……ヒー
タ、4……載置台、6……物品、14……遮蔽
板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 赤外線ヒータを底部に設けた乾燥槽の内部に被
    乾燥物の載置台を昇降自在に配設し、該載置台の
    上部に、被乾燥物間を透過した赤外線を遮断する
    ための遮蔽板を該載置台と一体に取付けたことを
    特徴とする乾燥装置。
JP12733182U 1982-08-23 1982-08-23 乾燥装置 Granted JPS5931241U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12733182U JPS5931241U (ja) 1982-08-23 1982-08-23 乾燥装置

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12733182U JPS5931241U (ja) 1982-08-23 1982-08-23 乾燥装置

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Publication Number Publication Date
JPS5931241U JPS5931241U (ja) 1984-02-27
JPS6242534Y2 true JPS6242534Y2 (ja) 1987-10-31

Family

ID=30289234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12733182U Granted JPS5931241U (ja) 1982-08-23 1982-08-23 乾燥装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH041944Y2 (ja) * 1989-02-02 1992-01-23
US6049995A (en) * 1999-04-20 2000-04-18 Megtec Systems, Inc. Infrared dryer with air purge shutter

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5585026A (en) * 1978-12-22 1980-06-26 Hitachi Ltd Cleaning device

Patent Citations (1)

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JPS5585026A (en) * 1978-12-22 1980-06-26 Hitachi Ltd Cleaning device

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JPS5931241U (ja) 1984-02-27

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