JPS5925372B2 - ベ−キング装置 - Google Patents
ベ−キング装置Info
- Publication number
- JPS5925372B2 JPS5925372B2 JP1998476A JP1998476A JPS5925372B2 JP S5925372 B2 JPS5925372 B2 JP S5925372B2 JP 1998476 A JP1998476 A JP 1998476A JP 1998476 A JP1998476 A JP 1998476A JP S5925372 B2 JPS5925372 B2 JP S5925372B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- hot plate
- photo mask
- furnace body
- baking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無塵ベーキング技術に関し、とくにホットプレ
ートを利用した無塵ベーキング技術に関する。
ートを利用した無塵ベーキング技術に関する。
たとえばホトレジストを塗布したフォト・マスクのベー
キングを図る場合、従来においては第６図に示すように
治具３２内にフォト・マスク３３を入れ第Ｔ図に示す熱
風循環炉３１内に置いてベーキングしていた。
キングを図る場合、従来においては第６図に示すように
治具３２内にフォト・マスク３３を入れ第Ｔ図に示す熱
風循環炉３１内に置いてベーキングしていた。
しかしながら、このような従来の方法においては、熱風
循環の際に炉３１内の塵挨も熱風と同様に循環しフォト
・マスク３３の半乾き面に付着し、また治具３２へのマ
スク３３の出し入れによつても塵挨が発生し、フォト・
マスク３３の品質を低下させていた。本発明はこのよう
な従来のベーキング方法の欠点を解消するものであつて
、その目的は無塵状態でベーキングが図れる技術を提供
するにある。
循環の際に炉３１内の塵挨も熱風と同様に循環しフォト
・マスク３３の半乾き面に付着し、また治具３２へのマ
スク３３の出し入れによつても塵挨が発生し、フォト・
マスク３３の品質を低下させていた。本発明はこのよう
な従来のベーキング方法の欠点を解消するものであつて
、その目的は無塵状態でベーキングが図れる技術を提供
するにある。
以下添付図面に関連して本発明の実施例について説明す
る。第１図は本発明のベーキング方法を実施する際に用
いる装置の一部を省略した平面図であつて、断熱性のあ
る炉体１内に真つ直ぐで細長いホットプレート２を配置
し、このプレート２の上面に被処理物すなわちフォト・
マスク３（以下フォト・マスクと言う）に見合つた幅よ
り幾分大きめにとつたカー ド溝４を形成して、このカ
ー ド溝４の幅方向の中間位置に送りピン５の先端を位
置させ、このピン５をガイド溝４の形成方向に沿つて複
数個配列し、これらの間隔をフォト・マスク３の幅より
もピン５の分だけ広く開けてとつて連結杆６で一体的に
連結し、腕杆□を介して連結杆６を固定軸８に摺動自在
に取り付け、前記ガイド溝４の形成方向に沿つて間欠的
な往復運動できるように、連結杆６の端部をリンク９を
介してカム３Ｏｖｃ連結させている。
る。第１図は本発明のベーキング方法を実施する際に用
いる装置の一部を省略した平面図であつて、断熱性のあ
る炉体１内に真つ直ぐで細長いホットプレート２を配置
し、このプレート２の上面に被処理物すなわちフォト・
マスク３（以下フォト・マスクと言う）に見合つた幅よ
り幾分大きめにとつたカー ド溝４を形成して、このカ
ー ド溝４の幅方向の中間位置に送りピン５の先端を位
置させ、このピン５をガイド溝４の形成方向に沿つて複
数個配列し、これらの間隔をフォト・マスク３の幅より
もピン５の分だけ広く開けてとつて連結杆６で一体的に
連結し、腕杆□を介して連結杆６を固定軸８に摺動自在
に取り付け、前記ガイド溝４の形成方向に沿つて間欠的
な往復運動できるように、連結杆６の端部をリンク９を
介してカム３Ｏｖｃ連結させている。
また、第２図に示すように連結杆６の下部には支軸１１
が支えるリンク１２の一端に取り付けたローラ１３を当
接し、リンク１２の他端にはカムフロア１４を取り付け
てカム１５に接触させることによυ連結杆６を固定軸８
を支点にして回動できるようにしている。連結杆６から
伸びた送沙ピン５の先端は下方に折わ曲げてガイド溝４
の平面に接触しない位置にあるようにしている。第３図
は第１図に示すホット・プレート２を拡大し横断面した
図であつて、ホット・プレート２のガイド溝４を形成す
る平面および側面には、それぞれエアー噴出用の小穴１
６、１？を開け、これらの小穴１６、１７はガイド溝４
の幅方向の両端の角部寄りに対をなして設け、この状態
でガイド溝４の延長方向に繰返して形成し、これら小穴
１６，１１の間隔を充分に狭めるようにして設けている
。
が支えるリンク１２の一端に取り付けたローラ１３を当
接し、リンク１２の他端にはカムフロア１４を取り付け
てカム１５に接触させることによυ連結杆６を固定軸８
を支点にして回動できるようにしている。連結杆６から
伸びた送沙ピン５の先端は下方に折わ曲げてガイド溝４
の平面に接触しない位置にあるようにしている。第３図
は第１図に示すホット・プレート２を拡大し横断面した
図であつて、ホット・プレート２のガイド溝４を形成す
る平面および側面には、それぞれエアー噴出用の小穴１
６、１？を開け、これらの小穴１６、１７はガイド溝４
の幅方向の両端の角部寄りに対をなして設け、この状態
でガイド溝４の延長方向に繰返して形成し、これら小穴
１６，１１の間隔を充分に狭めるようにして設けている
。
そして各小穴１６，１７の端部を共通する配管１８に連
結し、熱交換器１９、エアー・フイルタ２０およびヒー
タ２１を介して図示しないエアー供給源へと連結させて
いる。第４図はホツト・プレートとこの加熱手段との配
置を示す第１図を連結杆側から見た一部を省略した断面
図であつて、ホツト・プレート２の裏面よりある間隔を
あけた低い位置に断面弧状の反射笠２２を内面をプレー
ト２に向けて配置し、これらの間にヒータ２３を設けて
、ヒータ２３の熱が直接ないしは反射笠２２の内面で反
射して間接的にホツト・プレート２を加熱できるように
している。
結し、熱交換器１９、エアー・フイルタ２０およびヒー
タ２１を介して図示しないエアー供給源へと連結させて
いる。第４図はホツト・プレートとこの加熱手段との配
置を示す第１図を連結杆側から見た一部を省略した断面
図であつて、ホツト・プレート２の裏面よりある間隔を
あけた低い位置に断面弧状の反射笠２２を内面をプレー
ト２に向けて配置し、これらの間にヒータ２３を設けて
、ヒータ２３の熱が直接ないしは反射笠２２の内面で反
射して間接的にホツト・プレート２を加熱できるように
している。
つぎに、送りピン５の土下運動および横行運動の関係を
第５図に線図によつて説明すれば、線図の横軸に時間Ｓ
をとり、縦軸には高さ？および移動距離？を分けてとつ
ている。
第５図に線図によつて説明すれば、線図の横軸に時間Ｓ
をとり、縦軸には高さ？および移動距離？を分けてとつ
ている。
そこで、送りピン５が上限一杯に上つた状態からスター
トして、下限に達する点２４までの間は送りピン５の横
行はなく、点２４ＶＣ達した時点から横行が始まり点２
５に達するまで続き、この点２５で今度はピン５が上が
り、この間ピン５の横行は停止しており、点２６ＶＣ達
した時点で戻りの横行となり、この場合にはピン５は上
がつた状態のままで初期位置まで戻る。これを１つのサ
イクルとして、一定時間（ベーク時間）をおいて繰り返
し行うことにより、フオト・マスク３を順次間欠送りす
る。
トして、下限に達する点２４までの間は送りピン５の横
行はなく、点２４ＶＣ達した時点から横行が始まり点２
５に達するまで続き、この点２５で今度はピン５が上が
り、この間ピン５の横行は停止しており、点２６ＶＣ達
した時点で戻りの横行となり、この場合にはピン５は上
がつた状態のままで初期位置まで戻る。これを１つのサ
イクルとして、一定時間（ベーク時間）をおいて繰り返
し行うことにより、フオト・マスク３を順次間欠送りす
る。
また、第３図に示すホツトｓプレート２の小穴１６，１
１からのエアーの吹き出しを、図示しないエアー供給源
からヒータ２１で任意の温度に高めたうえにフイルタ２
０で清浄化し、熱交換器１９でヒータ２３の予熱をひろ
つてさらにエアーを暖めて適温にして配管１８を介して
それぞれの小穴１６，１７から一定量のエアーを吹き出
させてフオト・マスク３を浮かすことができるようにし
ている。
１からのエアーの吹き出しを、図示しないエアー供給源
からヒータ２１で任意の温度に高めたうえにフイルタ２
０で清浄化し、熱交換器１９でヒータ２３の予熱をひろ
つてさらにエアーを暖めて適温にして配管１８を介して
それぞれの小穴１６，１７から一定量のエアーを吹き出
させてフオト・マスク３を浮かすことができるようにし
ている。
このエアーの吹き出しおよび停止は図示しない切り替え
装置によつて自由にできる。なお、前躬実施例において
は、小穴１６，１７から吹き出させる単なるエアーを用
いているが、このエアーの代りに窒素Ｎ２ガスなど不活
性ガスを用いてもよく、これを暖めて小穴１６，１７よ
り吹き出させるか、または暖めずにそのまま吹き出させ
る。つぎに、実施例の無塵ベーキング方法を順を追つて
説明すれば、まずフオト・マスク３を炉体１内に送り入
れる場合、フオト・マスク３のフオト・レジストを塗布
した面（パターン面）２７が土向きになるように第１図
に二点鎖線で示す位置にフオト・マスク３を図示しない
塗布装置より送つて、この位置で送りピン５でフオト．
マスク３をひつかけて炉体１内に送り込む。
装置によつて自由にできる。なお、前躬実施例において
は、小穴１６，１７から吹き出させる単なるエアーを用
いているが、このエアーの代りに窒素Ｎ２ガスなど不活
性ガスを用いてもよく、これを暖めて小穴１６，１７よ
り吹き出させるか、または暖めずにそのまま吹き出させ
る。つぎに、実施例の無塵ベーキング方法を順を追つて
説明すれば、まずフオト・マスク３を炉体１内に送り入
れる場合、フオト・マスク３のフオト・レジストを塗布
した面（パターン面）２７が土向きになるように第１図
に二点鎖線で示す位置にフオト・マスク３を図示しない
塗布装置より送つて、この位置で送りピン５でフオト．
マスク３をひつかけて炉体１内に送り込む。
この際フオト・マスク３は小穴１６，１７より吹き出す
エアーによりガイド溝４の内面から微かに浮いた状態で
送られ１ピツチすなわちフオト・マスク３１個分移動し
た時点でエアーは切られてマスク３は浮いた状態からガ
イド溝４の内面の少なくとも底面に裏面を一致させた状
態になり、ホツト・プレート２の加熱を受けホトレジス
ト面のベーキングが図られるが、この場合のベーキング
は、前記間欠的な送りピン５の動作と小穴１６，１７か
らのエアーの吹き出し操作の連係により炉体１の出口側
の端にくるまでの間に行われるもので、このようにベー
キングされたフオト・マスク３は、再び送りピン５の動
作と小穴１６，１７からのエアーの吹き出し力とにより
、ガイド溝４とは無接触の状態を保ちながら炉体１外に
送り出され、あと図示しない任意の取り上げ手段により
フオト・マスク３を取り上げ収容する。このようにして
、炉体１の一方からフオト・マスク３を取り入れ、他方
から抜き取る作業を連続的に行うものである。また送り
ピン５によつてフオト・マスク３を移動させる際に、ホ
ツト・プレート２からマスク３が離れた際にも予め暖め
られたエアーを吹き付けていることで、フオト・マスク
３のもつ温度を低下させさないで充分な温度を保つたま
ま送る。参考までに述べれば、フオト・マスク３の炉体
１内でのベーキング時間は、たとえば正昧１０分程度で
ある。
エアーによりガイド溝４の内面から微かに浮いた状態で
送られ１ピツチすなわちフオト・マスク３１個分移動し
た時点でエアーは切られてマスク３は浮いた状態からガ
イド溝４の内面の少なくとも底面に裏面を一致させた状
態になり、ホツト・プレート２の加熱を受けホトレジス
ト面のベーキングが図られるが、この場合のベーキング
は、前記間欠的な送りピン５の動作と小穴１６，１７か
らのエアーの吹き出し操作の連係により炉体１の出口側
の端にくるまでの間に行われるもので、このようにベー
キングされたフオト・マスク３は、再び送りピン５の動
作と小穴１６，１７からのエアーの吹き出し力とにより
、ガイド溝４とは無接触の状態を保ちながら炉体１外に
送り出され、あと図示しない任意の取り上げ手段により
フオト・マスク３を取り上げ収容する。このようにして
、炉体１の一方からフオト・マスク３を取り入れ、他方
から抜き取る作業を連続的に行うものである。また送り
ピン５によつてフオト・マスク３を移動させる際に、ホ
ツト・プレート２からマスク３が離れた際にも予め暖め
られたエアーを吹き付けていることで、フオト・マスク
３のもつ温度を低下させさないで充分な温度を保つたま
ま送る。参考までに述べれば、フオト・マスク３の炉体
１内でのベーキング時間は、たとえば正昧１０分程度で
ある。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、炉体内
にホツト・プレートを置いて、このプレートによりフオ
ト・マスクを加熱することから、従来のような熱風循環
式のものと異なり炉体内に塵挨等を発生させることがな
く、また、ホツト・プレートのガイド溝の内面よりエア
ーを吹き出してプレートを浮かせながらほとんど無接触
の状態で炉体への出し入れまた、前記実施例１ｆＣあ・
いては被処理物としてフオト・マスク３を例示したが、
これはウエーー・にも充分摘用できる。
にホツト・プレートを置いて、このプレートによりフオ
ト・マスクを加熱することから、従来のような熱風循環
式のものと異なり炉体内に塵挨等を発生させることがな
く、また、ホツト・プレートのガイド溝の内面よりエア
ーを吹き出してプレートを浮かせながらほとんど無接触
の状態で炉体への出し入れまた、前記実施例１ｆＣあ・
いては被処理物としてフオト・マスク３を例示したが、
これはウエーー・にも充分摘用できる。
および炉体内での移動を図つていることから、従来のよ
うに治具へのフオト・マスクの出し入れ時およびこの治
具を炉体内に出し入れする際に生じていた塵挨の発生が
ない。
うに治具へのフオト・マスクの出し入れ時およびこの治
具を炉体内に出し入れする際に生じていた塵挨の発生が
ない。
したがつて、フオト・マスクのベーキング全工程におい
て塵挨の発生する部分がなくフオト・マスクのホトレジ
スト面を常に清浄に保つた状態でベーキングが完了する
。したがつてフオト・マスクの表面に形成されたパター
ンの品質の向上が図れる。ホツトプレートに密着し、均
一に加熱し、且予め暖められた空気を送ることにより、
フオト・マスク内の温度分布が均一となり、フオト・マ
スク表面に形成されたパターンの精度を充分に保つこと
ができる。
て塵挨の発生する部分がなくフオト・マスクのホトレジ
スト面を常に清浄に保つた状態でベーキングが完了する
。したがつてフオト・マスクの表面に形成されたパター
ンの品質の向上が図れる。ホツトプレートに密着し、均
一に加熱し、且予め暖められた空気を送ることにより、
フオト・マスク内の温度分布が均一となり、フオト・マ
スク表面に形成されたパターンの精度を充分に保つこと
ができる。
また、エアーの吹き出しと送りピンの動作によつてフオ
ト・プレートの自動的かつ連続的な供給およびベーキン
グがなされるから手数が省け、人員低減が図れるなどの
効果が得られる。
ト・プレートの自動的かつ連続的な供給およびベーキン
グがなされるから手数が省け、人員低減が図れるなどの
効果が得られる。
第１図は本発明のベーキング方法を実施する際に用いる
装置の一部を省略した平面図、第２図は第１図に示すＡ
−Ａ′線に沿つて矢印方向に見た図、第３図は第１図の
ホツト・プレートを拡大し横断面した図、第４図はホツ
ト・プレートとこの加熱手段との配置を示す第１図を連
結杆側から見た一部を省略した断面図、第５図は送りピ
ンの上下および横行運動の関係を示す線図、第６図およ
び第７図は従来のベーキング方法を実施する際に用いる
治具および熱風循環炉の概略図である。 １・・・・・・炉体、２・・・・・・ホツト・プレート
、３・・・・・・フオト・マスク、４・・・・・・ガイ
ド溝、５・・・・・・送りピン、６・・・・・・連結杆
、７・・・・・・腕杆、８・・・・・・固定軸、９・・
・・・・リン久 １０・・・・・・カム、１１・・・・
・・支軸、１２・・・・・・リンク、１３・・・・・・
ローラ、１４・・・・・・カムフロア、１５・・・・・
・カム、１６・・・・・・小穴、１７・・・・・・小穴
、１８・・・・・・配管、１９・・・・・・熱交換器、
２０・・・・・・エアー・フイルタ、２１・・・・・・
ヒータ、２２・・・・・・反射笠、２３・・・・・・ヒ
ータ、２４・・・・・・点、２５・・・・・・点、２６
・・・・・・点、２７・・・・・・ホトレジストを塗布
した面、３１・・・・・・熱風循環炉、３２・・・・・
・治具、３３・・・・・・フオト・マスク。
装置の一部を省略した平面図、第２図は第１図に示すＡ
−Ａ′線に沿つて矢印方向に見た図、第３図は第１図の
ホツト・プレートを拡大し横断面した図、第４図はホツ
ト・プレートとこの加熱手段との配置を示す第１図を連
結杆側から見た一部を省略した断面図、第５図は送りピ
ンの上下および横行運動の関係を示す線図、第６図およ
び第７図は従来のベーキング方法を実施する際に用いる
治具および熱風循環炉の概略図である。 １・・・・・・炉体、２・・・・・・ホツト・プレート
、３・・・・・・フオト・マスク、４・・・・・・ガイ
ド溝、５・・・・・・送りピン、６・・・・・・連結杆
、７・・・・・・腕杆、８・・・・・・固定軸、９・・
・・・・リン久 １０・・・・・・カム、１１・・・・
・・支軸、１２・・・・・・リンク、１３・・・・・・
ローラ、１４・・・・・・カムフロア、１５・・・・・
・カム、１６・・・・・・小穴、１７・・・・・・小穴
、１８・・・・・・配管、１９・・・・・・熱交換器、
２０・・・・・・エアー・フイルタ、２１・・・・・・
ヒータ、２２・・・・・・反射笠、２３・・・・・・ヒ
ータ、２４・・・・・・点、２５・・・・・・点、２６
・・・・・・点、２７・・・・・・ホトレジストを塗布
した面、３１・・・・・・熱風循環炉、３２・・・・・
・治具、３３・・・・・・フオト・マスク。
Claims (1)
- １ 炉体と、炉体内に配置されたホットプレートと、ホ
ットプレートを加熱する加熱手段と、前記プレート内面
にエアー噴出用穴を設け、ここからエアーを吹き出して
被処理物を浮かせ、この状態で、ホットプレートに載せ
られた被処理物を間欠的に移送するものであつて、ホッ
トプレートに対し上下運動および横行運動自在な送りピ
ン機構とを有することを特徴とするベーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1998476A JPS5925372B2 (ja) | 1976-02-27 | 1976-02-27 | ベ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1998476A JPS5925372B2 (ja) | 1976-02-27 | 1976-02-27 | ベ−キング装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2851684A Division JPS59161034A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ベ−キング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52104067A JPS52104067A (en) | 1977-09-01 |
| JPS5925372B2 true JPS5925372B2 (ja) | 1984-06-16 |
Family
ID=12014433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1998476A Expired JPS5925372B2 (ja) | 1976-02-27 | 1976-02-27 | ベ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5925372B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6457764A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of photovoltaic element |
| JPS64738A (en) * | 1988-05-20 | 1989-01-05 | Hitachi Ltd | Heat treatment of semiconductor wafer |
-
1976
- 1976-02-27 JP JP1998476A patent/JPS5925372B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52104067A (en) | 1977-09-01 |
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