JPS59161034A - ベ−キング方法 - Google Patents
ベ−キング方法Info
- Publication number
- JPS59161034A JPS59161034A JP2851684A JP2851684A JPS59161034A JP S59161034 A JPS59161034 A JP S59161034A JP 2851684 A JP2851684 A JP 2851684A JP 2851684 A JP2851684 A JP 2851684A JP S59161034 A JPS59161034 A JP S59161034A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hot plate
- mask
- furnace body
- baking
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無塵ベーキング装置に関し、と(にホットプレ
ートを利用した無塵ベーキング装置に関する。
ートを利用した無塵ベーキング装置に関する。
たとえばホトレジストを塗布したフォト・マスクのベー
キングを図る場合、従来においては第6図に示すように
治具32内にフォト・マスク33を入れ第7図に示す熱
風循環炉31内に置いてベーキングしていた。しかしな
がら、このような従来の方法においては、熱風循環の際
に炉31内の塵埃も熱風と同様に循環しフォト・マスク
330半乾き面に付着し、また治具32へのマスク33
の出し入れによっても塵埃が発生し、フォト・マスク3
30品質を低下させていた。
キングを図る場合、従来においては第6図に示すように
治具32内にフォト・マスク33を入れ第7図に示す熱
風循環炉31内に置いてベーキングしていた。しかしな
がら、このような従来の方法においては、熱風循環の際
に炉31内の塵埃も熱風と同様に循環しフォト・マスク
330半乾き面に付着し、また治具32へのマスク33
の出し入れによっても塵埃が発生し、フォト・マスク3
30品質を低下させていた。
本発明はこのような従来のベーキング装置の欠点を解消
するものであって、その目的は無塵状態でベーキングが
図れる装置を提供するにある。
するものであって、その目的は無塵状態でベーキングが
図れる装置を提供するにある。
このような目的を達成するための本発明の構成は、ベー
キング装置において、炉体と、炉体内に配置されたホッ
トプレートと、ホットブレー状上で、被処理物をホット
プレートと非接触状態に保つ手段と、被処理物をホット
プレートに対し非接触にした状態で移動させる機構とを
有し、被処理物をホットプレートで加熱する際ホットプ
レート上に接触させることを特徴とす奎ものである。以
下添付図面に関連して本発明の実施例について説明する
。
キング装置において、炉体と、炉体内に配置されたホッ
トプレートと、ホットブレー状上で、被処理物をホット
プレートと非接触状態に保つ手段と、被処理物をホット
プレートに対し非接触にした状態で移動させる機構とを
有し、被処理物をホットプレートで加熱する際ホットプ
レート上に接触させることを特徴とす奎ものである。以
下添付図面に関連して本発明の実施例について説明する
。
第1図は本発明のベーキング方法を実施する際に用いる
装置の一部を省略した平面図であって、断熱性のある炉
体1内に真っ直ぐで細長いホット・プレート2を配置し
、このプレート2の上面に被処理物すなわちフォト・マ
スク3(以下フォト・マスクという)に見合った幅より
幾分大きめにとったガイド溝4を形成して、このガイド
溝4の幅方向の中間位置に送りピン5の先端を位置させ
、このピン5をガイド溝4の形成方向に治って複数個配
列し、これらの間隔をフォト・マスク30幅よりもピン
5の分だけ広く開けてとって連結杆6で一体的に連結し
、腕杆7を介して連結杆6を固定軸8に摺動自在に取り
付け、前記ガイド溝4の形成方向に沿って間欠的な往復
運動できるように、連結杆6の端部をリンク9を介して
カム10に連結させている。また、第2図に示すように
連結杆6の下部には支軸11が支えるリンク12の一端
に取り付けたローラ13を当接し、Vンク12の他端に
はカムフロア14を取り付けてカム15に接触させるこ
とにより連結杆6を固定軸8を支点にして回動できるよ
うにしている。連結杆6から伸びた送りピン5の先端は
下方に折り曲げてガイド溝4の平面に接触しない位置に
あるようにして第3図は第1図に示すホット・プレート
2を拡大し横断面した図であって、ホット・グレート2
のガイド溝4を形成する平面および側面には、それぞれ
エアー噴出用の小穴16.17を開け、これらの小穴1
6.17はガイド溝40幅方向の両端の角部寄りに対を
なして設け、この状態でガイド溝4の延長方向に繰返し
て形成し、これら小穴16.17の間隔を充分に狭める
ようにして設けている。そして各小穴16,17の端部
を共通する配管18に連結し、熱交換器19.エアー・
フィルタ20およびヒータ21を介して図示しないエア
ー供給源へと連結させている。
装置の一部を省略した平面図であって、断熱性のある炉
体1内に真っ直ぐで細長いホット・プレート2を配置し
、このプレート2の上面に被処理物すなわちフォト・マ
スク3(以下フォト・マスクという)に見合った幅より
幾分大きめにとったガイド溝4を形成して、このガイド
溝4の幅方向の中間位置に送りピン5の先端を位置させ
、このピン5をガイド溝4の形成方向に治って複数個配
列し、これらの間隔をフォト・マスク30幅よりもピン
5の分だけ広く開けてとって連結杆6で一体的に連結し
、腕杆7を介して連結杆6を固定軸8に摺動自在に取り
付け、前記ガイド溝4の形成方向に沿って間欠的な往復
運動できるように、連結杆6の端部をリンク9を介して
カム10に連結させている。また、第2図に示すように
連結杆6の下部には支軸11が支えるリンク12の一端
に取り付けたローラ13を当接し、Vンク12の他端に
はカムフロア14を取り付けてカム15に接触させるこ
とにより連結杆6を固定軸8を支点にして回動できるよ
うにしている。連結杆6から伸びた送りピン5の先端は
下方に折り曲げてガイド溝4の平面に接触しない位置に
あるようにして第3図は第1図に示すホット・プレート
2を拡大し横断面した図であって、ホット・グレート2
のガイド溝4を形成する平面および側面には、それぞれ
エアー噴出用の小穴16.17を開け、これらの小穴1
6.17はガイド溝40幅方向の両端の角部寄りに対を
なして設け、この状態でガイド溝4の延長方向に繰返し
て形成し、これら小穴16.17の間隔を充分に狭める
ようにして設けている。そして各小穴16,17の端部
を共通する配管18に連結し、熱交換器19.エアー・
フィルタ20およびヒータ21を介して図示しないエア
ー供給源へと連結させている。
第4図はホ4ト・プレートとこの加熱手段との配置を示
す第1図を連結杆側から見た一部を省略した断面図であ
って、ホット・プレート2の裏面よりある間隔をあけた
低い位置に断面弧状の反射笠22を内面をプレート2に
向けて配置し、これらの間にヒータ23を設けて、ヒー
タ23の熱が直接ないしは反射笠22の内面で反射して
間接的にホット・プレート2を加熱できるようにしてい
る。
す第1図を連結杆側から見た一部を省略した断面図であ
って、ホット・プレート2の裏面よりある間隔をあけた
低い位置に断面弧状の反射笠22を内面をプレート2に
向けて配置し、これらの間にヒータ23を設けて、ヒー
タ23の熱が直接ないしは反射笠22の内面で反射して
間接的にホット・プレート2を加熱できるようにしてい
る。
つぎに、送りピン5の上下運動および横行運動の関係を
第5図に線図によって説明すれば、線図の横軸に時間(
S)をとり、縦軸には高さ←→および移動距離4葉分け
てとっている。そこで、送りピン5が上限一杯に上った
状態からスタートして、下限に達する点24までの間は
送りピン5の横行はな(、点24に達した時点から横行
が始まり点25に達するまで続き、この点25で今度は
ピン5が上がり、この間ビン5の横行は停止しており、
点26に達した時点で戻りの横行となり、この場合には
ピン5は上がった状態のままで初期位置まで戻る。
第5図に線図によって説明すれば、線図の横軸に時間(
S)をとり、縦軸には高さ←→および移動距離4葉分け
てとっている。そこで、送りピン5が上限一杯に上った
状態からスタートして、下限に達する点24までの間は
送りピン5の横行はな(、点24に達した時点から横行
が始まり点25に達するまで続き、この点25で今度は
ピン5が上がり、この間ビン5の横行は停止しており、
点26に達した時点で戻りの横行となり、この場合には
ピン5は上がった状態のままで初期位置まで戻る。
これを1つのサイクルとして、一定時間(ベーク時間)
をおいて繰り返し行うことにより、フォト・マスク3を
順次間欠送りする。
をおいて繰り返し行うことにより、フォト・マスク3を
順次間欠送りする。
また、第3図に示すホット・プレート2の小穴16.1
7からのエアーの吹き出しを、図示しないエアー供給源
からヒータ21で任意の温度に高めたうえにフィルタ2
0で清浄化し、熱交換器1916.17から一定量のエ
アーを吹き出させてフォト・マスク3を浮かすことがで
きるようにしている。このエアーの吹き出しおよび停止
は図示しない切り替え装置によって自由にできる。
7からのエアーの吹き出しを、図示しないエアー供給源
からヒータ21で任意の温度に高めたうえにフィルタ2
0で清浄化し、熱交換器1916.17から一定量のエ
アーを吹き出させてフォト・マスク3を浮かすことがで
きるようにしている。このエアーの吹き出しおよび停止
は図示しない切り替え装置によって自由にできる。
なお、前記実施例においては、小穴16.17から吹き
出させる単なるエアーを用いているが、このエアーの代
りに窒素(N2)ガスなど不活性ガスを用いてもよく、
これを暖めて小穴16.17より吹き出させるか、また
は暖めずにそのまま吹き出させる。
出させる単なるエアーを用いているが、このエアーの代
りに窒素(N2)ガスなど不活性ガスを用いてもよく、
これを暖めて小穴16.17より吹き出させるか、また
は暖めずにそのまま吹き出させる。
つぎに、実施例の無塵ベーキング方法を順を追って説明
すれば、まずフォト・マスク3を炉体1内に送り入れる
場合、フォト・マスク3のフォト・レジストを塗布した
面(パターン面)27が上向きになるように第1図に二
点鎖線で示す位置にフォト・マスク3を図示しない塗布
装置より送って、この位置で送りピン5でフォト・マス
ク3をひつかけて炉体1内に送り込む。この際フォト・
マスク3は小穴16,17より吹き出すエアーによりガ
イド溝4の内面から微かに浮いた状態で送られ1ピツチ
すなわちフォト・マスク31個分移動した時点でエアー
は切られてマスク3は浮いた状態からガイド溝4の内面
の少なくとも底面に裏面を一致させた状態になり、ホッ
ト・プレート2の加熱を受はホトレジスト面のベーキン
グが図られるが、この場合のベーキングは、前記間欠的
な送りピン5の動作と小穴16.17からのエアーの吹
き出し操作の連係により炉体1の出口側の端にくるまで
の間に行われるもので、このようにベーキングされたフ
ォト・マスク3は、再び送りピン5の動作と小穴16.
17からのエアーの吹き出し力とにより、ガイド溝4と
は無接触の状態を保ちながら炉体1外に送り出され、あ
と図示しない任意の取り上げ手段によりフォト・マスク
3を取り上げ収容する。このようにして、炉体1の一方
からフォト・マスク3を取り入れ、他方から抜き取る作
業を連続的に行うものである。また送りピン5によって
フォト・マスク3を移動させる際に、ホット・プレート
2からマスク3が離れた際にも予め暖められたエアーな
吻き付けていることで、フォト・マスク3のもつ温度を
低下させないで充分な温度を保ったまま送る。
すれば、まずフォト・マスク3を炉体1内に送り入れる
場合、フォト・マスク3のフォト・レジストを塗布した
面(パターン面)27が上向きになるように第1図に二
点鎖線で示す位置にフォト・マスク3を図示しない塗布
装置より送って、この位置で送りピン5でフォト・マス
ク3をひつかけて炉体1内に送り込む。この際フォト・
マスク3は小穴16,17より吹き出すエアーによりガ
イド溝4の内面から微かに浮いた状態で送られ1ピツチ
すなわちフォト・マスク31個分移動した時点でエアー
は切られてマスク3は浮いた状態からガイド溝4の内面
の少なくとも底面に裏面を一致させた状態になり、ホッ
ト・プレート2の加熱を受はホトレジスト面のベーキン
グが図られるが、この場合のベーキングは、前記間欠的
な送りピン5の動作と小穴16.17からのエアーの吹
き出し操作の連係により炉体1の出口側の端にくるまで
の間に行われるもので、このようにベーキングされたフ
ォト・マスク3は、再び送りピン5の動作と小穴16.
17からのエアーの吹き出し力とにより、ガイド溝4と
は無接触の状態を保ちながら炉体1外に送り出され、あ
と図示しない任意の取り上げ手段によりフォト・マスク
3を取り上げ収容する。このようにして、炉体1の一方
からフォト・マスク3を取り入れ、他方から抜き取る作
業を連続的に行うものである。また送りピン5によって
フォト・マスク3を移動させる際に、ホット・プレート
2からマスク3が離れた際にも予め暖められたエアーな
吻き付けていることで、フォト・マスク3のもつ温度を
低下させないで充分な温度を保ったまま送る。
参考までに述べれば、フォト・マスク3の炉体1内での
ベーキング時間は、たとえば正味10分程度である。
ベーキング時間は、たとえば正味10分程度である。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、炉体内
にホット・プレートを置いて、このプレートによりフォ
ト・マスクを加熱することから、従来のような熱風循環
式のものと異なり炉体内に塵埃等を発生させることがな
い。
にホット・プレートを置いて、このプレートによりフォ
ト・マスクを加熱することから、従来のような熱風循環
式のものと異なり炉体内に塵埃等を発生させることがな
い。
さらに炉体内での移動を図っていることから、従来のよ
うに治具へのフォト・マスクの出し入れ時およびこの治
具を炉体内に出し入れする際に生じていた塵埃の発生が
ない。また、フォト・マスクのベーキング全工程におい
て塵埃の発生する部分がな(フォト・マスクのホトレジ
スト面を常に清浄に保った状態でベーキングが完了する
。
うに治具へのフォト・マスクの出し入れ時およびこの治
具を炉体内に出し入れする際に生じていた塵埃の発生が
ない。また、フォト・マスクのベーキング全工程におい
て塵埃の発生する部分がな(フォト・マスクのホトレジ
スト面を常に清浄に保った状態でベーキングが完了する
。
したがって、フォト・マスクの表面に形成されたパター
ンの品質の向上が図れる。
ンの品質の向上が図れる。
ホットプレートに密着し、均一に加熱し、且°、予め暖
められた空気で送ることにより、フォト・マスク内の温
度分布が均一となり、フォト・マスク表面に形成された
パターンの精度を充分に保つことができる。
められた空気で送ることにより、フォト・マスク内の温
度分布が均一となり、フォト・マスク表面に形成された
パターンの精度を充分に保つことができる。
また、エアーの吹き出しと送りピンの動作によってフォ
ト・プレートの自動的かつ連続的な供給およびベーキン
グがなされるから手数が省け、人員低減が図れるなどの
効果が得られる。
ト・プレートの自動的かつ連続的な供給およびベーキン
グがなされるから手数が省け、人員低減が図れるなどの
効果が得られる。
前記実施例においては被処理物としてフォト・マスク3
を例示したが、これはウェーハにも充分適用できる。
を例示したが、これはウェーハにも充分適用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のベーキング方法を実施する際に用いる
装置の一部を省略した平面図、第2図は第1図に示すA
−A’線に沿って矢印方向に見た図、第3図は第1図の
ホット・プレートを拡大し横断面した図、第4図はホッ
ト・プレートとこの加熱手段との配置を示す第1図を連
結杆側から見た一部を省略した断面図、第5図は送りピ
ンの上下および横行運動の関係を示す線図、第6図およ
び第7図は従来のベーキング方法を実施する際に用いる
治具および熱風循環炉の概略図である。 1・・・炉体、2・・・ホット・プレート、3・・・フ
ォト・マスク、4・・・ガイド溝、5・・・送りピン、
6・・・連結杆、7・・・腕杆、8・・・固定軸、9・
・・リンク、10・・・カム、11・・・支軸、12・
・・リンク、13・・・ローラ、14・・・カムフロア
、15・・・カム、16・・・小穴、17・・・小穴、
18・・・配管、19・・・熱交換器、20・・・エア
ー・フィルタ、21・・・ヒータ、22・・・反射笠、
23・・・ヒータ、24・・・点、25・・・点、26
・・・点、27・・・ホトレジストを塗布した面、31
・・・熱風循環炉、32・・・治具、33・・・フォト
・マスク。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 第 6 図 2 第 7 図 3ノ j3
装置の一部を省略した平面図、第2図は第1図に示すA
−A’線に沿って矢印方向に見た図、第3図は第1図の
ホット・プレートを拡大し横断面した図、第4図はホッ
ト・プレートとこの加熱手段との配置を示す第1図を連
結杆側から見た一部を省略した断面図、第5図は送りピ
ンの上下および横行運動の関係を示す線図、第6図およ
び第7図は従来のベーキング方法を実施する際に用いる
治具および熱風循環炉の概略図である。 1・・・炉体、2・・・ホット・プレート、3・・・フ
ォト・マスク、4・・・ガイド溝、5・・・送りピン、
6・・・連結杆、7・・・腕杆、8・・・固定軸、9・
・・リンク、10・・・カム、11・・・支軸、12・
・・リンク、13・・・ローラ、14・・・カムフロア
、15・・・カム、16・・・小穴、17・・・小穴、
18・・・配管、19・・・熱交換器、20・・・エア
ー・フィルタ、21・・・ヒータ、22・・・反射笠、
23・・・ヒータ、24・・・点、25・・・点、26
・・・点、27・・・ホトレジストを塗布した面、31
・・・熱風循環炉、32・・・治具、33・・・フォト
・マスク。 第 1 図 第 2 図 第 3 図 第 6 図 2 第 7 図 3ノ j3
Claims (1)
- 1、炉体と、炉体内に配置されたホットプレートと、ホ
ットプレート上で被処理物をホットプレートと非接触状
態に保つ手段と、被処理物をホットプレートに対し非接
触にした状態で移動させる機構とを有し、被処理物をホ
ットプレートで加熱する際ホットプレート上に接触させ
ることを特徴とするベーキング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2851684A JPS59161034A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ベ−キング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2851684A JPS59161034A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ベ−キング方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1998476A Division JPS5925372B2 (ja) | 1976-02-27 | 1976-02-27 | ベ−キング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59161034A true JPS59161034A (ja) | 1984-09-11 |
JPS6156611B2 JPS6156611B2 (ja) | 1986-12-03 |
Family
ID=12250846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2851684A Granted JPS59161034A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ベ−キング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59161034A (ja) |
-
1984
- 1984-02-20 JP JP2851684A patent/JPS59161034A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6156611B2 (ja) | 1986-12-03 |
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