JPS59161034A - ベ−キング方法 - Google Patents
ベ−キング方法Info
- Publication number
- JPS59161034A JPS59161034A JP2851684A JP2851684A JPS59161034A JP S59161034 A JPS59161034 A JP S59161034A JP 2851684 A JP2851684 A JP 2851684A JP 2851684 A JP2851684 A JP 2851684A JP S59161034 A JPS59161034 A JP S59161034A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hot plate
- mask
- furnace body
- baking
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無塵ベーキング装置に関し、と（にホットプレ
ートを利用した無塵ベーキング装置に関する。
ートを利用した無塵ベーキング装置に関する。
たとえばホトレジストを塗布したフォト・マスクのベー
キングを図る場合、従来においては第６図に示すように
治具３２内にフォト・マスク３３を入れ第７図に示す熱
風循環炉３１内に置いてベーキングしていた。しかしな
がら、このような従来の方法においては、熱風循環の際
に炉３１内の塵埃も熱風と同様に循環しフォト・マスク
３３０半乾き面に付着し、また治具３２へのマスク３３
の出し入れによっても塵埃が発生し、フォト・マスク３
３０品質を低下させていた。
キングを図る場合、従来においては第６図に示すように
治具３２内にフォト・マスク３３を入れ第７図に示す熱
風循環炉３１内に置いてベーキングしていた。しかしな
がら、このような従来の方法においては、熱風循環の際
に炉３１内の塵埃も熱風と同様に循環しフォト・マスク
３３０半乾き面に付着し、また治具３２へのマスク３３
の出し入れによっても塵埃が発生し、フォト・マスク３
３０品質を低下させていた。
本発明はこのような従来のベーキング装置の欠点を解消
するものであって、その目的は無塵状態でベーキングが
図れる装置を提供するにある。
するものであって、その目的は無塵状態でベーキングが
図れる装置を提供するにある。
このような目的を達成するための本発明の構成は、ベー
キング装置において、炉体と、炉体内に配置されたホッ
トプレートと、ホットブレー状上で、被処理物をホット
プレートと非接触状態に保つ手段と、被処理物をホット
プレートに対し非接触にした状態で移動させる機構とを
有し、被処理物をホットプレートで加熱する際ホットプ
レート上に接触させることを特徴とす奎ものである。以
下添付図面に関連して本発明の実施例について説明する
。
キング装置において、炉体と、炉体内に配置されたホッ
トプレートと、ホットブレー状上で、被処理物をホット
プレートと非接触状態に保つ手段と、被処理物をホット
プレートに対し非接触にした状態で移動させる機構とを
有し、被処理物をホットプレートで加熱する際ホットプ
レート上に接触させることを特徴とす奎ものである。以
下添付図面に関連して本発明の実施例について説明する
。
第１図は本発明のベーキング方法を実施する際に用いる
装置の一部を省略した平面図であって、断熱性のある炉
体１内に真っ直ぐで細長いホット・プレート２を配置し
、このプレート２の上面に被処理物すなわちフォト・マ
スク３（以下フォト・マスクという）に見合った幅より
幾分大きめにとったガイド溝４を形成して、このガイド
溝４の幅方向の中間位置に送りピン５の先端を位置させ
、このピン５をガイド溝４の形成方向に治って複数個配
列し、これらの間隔をフォト・マスク３０幅よりもピン
５の分だけ広く開けてとって連結杆６で一体的に連結し
、腕杆７を介して連結杆６を固定軸８に摺動自在に取り
付け、前記ガイド溝４の形成方向に沿って間欠的な往復
運動できるように、連結杆６の端部をリンク９を介して
カム１０に連結させている。また、第２図に示すように
連結杆６の下部には支軸１１が支えるリンク１２の一端
に取り付けたローラ１３を当接し、Ｖンク１２の他端に
はカムフロア１４を取り付けてカム１５に接触させるこ
とにより連結杆６を固定軸８を支点にして回動できるよ
うにしている。連結杆６から伸びた送りピン５の先端は
下方に折り曲げてガイド溝４の平面に接触しない位置に
あるようにして第３図は第１図に示すホット・プレート
２を拡大し横断面した図であって、ホット・グレート２
のガイド溝４を形成する平面および側面には、それぞれ
エアー噴出用の小穴１６．１７を開け、これらの小穴１
６．１７はガイド溝４０幅方向の両端の角部寄りに対を
なして設け、この状態でガイド溝４の延長方向に繰返し
て形成し、これら小穴１６．１７の間隔を充分に狭める
ようにして設けている。そして各小穴１６，１７の端部
を共通する配管１８に連結し、熱交換器１９．エアー・
フィルタ２０およびヒータ２１を介して図示しないエア
ー供給源へと連結させている。
装置の一部を省略した平面図であって、断熱性のある炉
体１内に真っ直ぐで細長いホット・プレート２を配置し
、このプレート２の上面に被処理物すなわちフォト・マ
スク３（以下フォト・マスクという）に見合った幅より
幾分大きめにとったガイド溝４を形成して、このガイド
溝４の幅方向の中間位置に送りピン５の先端を位置させ
、このピン５をガイド溝４の形成方向に治って複数個配
列し、これらの間隔をフォト・マスク３０幅よりもピン
５の分だけ広く開けてとって連結杆６で一体的に連結し
、腕杆７を介して連結杆６を固定軸８に摺動自在に取り
付け、前記ガイド溝４の形成方向に沿って間欠的な往復
運動できるように、連結杆６の端部をリンク９を介して
カム１０に連結させている。また、第２図に示すように
連結杆６の下部には支軸１１が支えるリンク１２の一端
に取り付けたローラ１３を当接し、Ｖンク１２の他端に
はカムフロア１４を取り付けてカム１５に接触させるこ
とにより連結杆６を固定軸８を支点にして回動できるよ
うにしている。連結杆６から伸びた送りピン５の先端は
下方に折り曲げてガイド溝４の平面に接触しない位置に
あるようにして第３図は第１図に示すホット・プレート
２を拡大し横断面した図であって、ホット・グレート２
のガイド溝４を形成する平面および側面には、それぞれ
エアー噴出用の小穴１６．１７を開け、これらの小穴１
６．１７はガイド溝４０幅方向の両端の角部寄りに対を
なして設け、この状態でガイド溝４の延長方向に繰返し
て形成し、これら小穴１６．１７の間隔を充分に狭める
ようにして設けている。そして各小穴１６，１７の端部
を共通する配管１８に連結し、熱交換器１９．エアー・
フィルタ２０およびヒータ２１を介して図示しないエア
ー供給源へと連結させている。
第４図はホ４ト・プレートとこの加熱手段との配置を示
す第１図を連結杆側から見た一部を省略した断面図であ
って、ホット・プレート２の裏面よりある間隔をあけた
低い位置に断面弧状の反射笠２２を内面をプレート２に
向けて配置し、これらの間にヒータ２３を設けて、ヒー
タ２３の熱が直接ないしは反射笠２２の内面で反射して
間接的にホット・プレート２を加熱できるようにしてい
る。
す第１図を連結杆側から見た一部を省略した断面図であ
って、ホット・プレート２の裏面よりある間隔をあけた
低い位置に断面弧状の反射笠２２を内面をプレート２に
向けて配置し、これらの間にヒータ２３を設けて、ヒー
タ２３の熱が直接ないしは反射笠２２の内面で反射して
間接的にホット・プレート２を加熱できるようにしてい
る。
つぎに、送りピン５の上下運動および横行運動の関係を
第５図に線図によって説明すれば、線図の横軸に時間（
Ｓ）をとり、縦軸には高さ←→および移動距離４葉分け
てとっている。そこで、送りピン５が上限一杯に上った
状態からスタートして、下限に達する点２４までの間は
送りピン５の横行はな（、点２４に達した時点から横行
が始まり点２５に達するまで続き、この点２５で今度は
ピン５が上がり、この間ビン５の横行は停止しており、
点２６に達した時点で戻りの横行となり、この場合には
ピン５は上がった状態のままで初期位置まで戻る。
第５図に線図によって説明すれば、線図の横軸に時間（
Ｓ）をとり、縦軸には高さ←→および移動距離４葉分け
てとっている。そこで、送りピン５が上限一杯に上った
状態からスタートして、下限に達する点２４までの間は
送りピン５の横行はな（、点２４に達した時点から横行
が始まり点２５に達するまで続き、この点２５で今度は
ピン５が上がり、この間ビン５の横行は停止しており、
点２６に達した時点で戻りの横行となり、この場合には
ピン５は上がった状態のままで初期位置まで戻る。
これを１つのサイクルとして、一定時間（ベーク時間）
をおいて繰り返し行うことにより、フォト・マスク３を
順次間欠送りする。
をおいて繰り返し行うことにより、フォト・マスク３を
順次間欠送りする。
また、第３図に示すホット・プレート２の小穴１６．１
７からのエアーの吹き出しを、図示しないエアー供給源
からヒータ２１で任意の温度に高めたうえにフィルタ２
０で清浄化し、熱交換器１９１６．１７から一定量のエ
アーを吹き出させてフォト・マスク３を浮かすことがで
きるようにしている。このエアーの吹き出しおよび停止
は図示しない切り替え装置によって自由にできる。
７からのエアーの吹き出しを、図示しないエアー供給源
からヒータ２１で任意の温度に高めたうえにフィルタ２
０で清浄化し、熱交換器１９１６．１７から一定量のエ
アーを吹き出させてフォト・マスク３を浮かすことがで
きるようにしている。このエアーの吹き出しおよび停止
は図示しない切り替え装置によって自由にできる。
なお、前記実施例においては、小穴１６．１７から吹き
出させる単なるエアーを用いているが、このエアーの代
りに窒素（Ｎ２）ガスなど不活性ガスを用いてもよく、
これを暖めて小穴１６．１７より吹き出させるか、また
は暖めずにそのまま吹き出させる。
出させる単なるエアーを用いているが、このエアーの代
りに窒素（Ｎ２）ガスなど不活性ガスを用いてもよく、
これを暖めて小穴１６．１７より吹き出させるか、また
は暖めずにそのまま吹き出させる。
つぎに、実施例の無塵ベーキング方法を順を追って説明
すれば、まずフォト・マスク３を炉体１内に送り入れる
場合、フォト・マスク３のフォト・レジストを塗布した
面（パターン面）２７が上向きになるように第１図に二
点鎖線で示す位置にフォト・マスク３を図示しない塗布
装置より送って、この位置で送りピン５でフォト・マス
ク３をひつかけて炉体１内に送り込む。この際フォト・
マスク３は小穴１６，１７より吹き出すエアーによりガ
イド溝４の内面から微かに浮いた状態で送られ１ピツチ
すなわちフォト・マスク３１個分移動した時点でエアー
は切られてマスク３は浮いた状態からガイド溝４の内面
の少なくとも底面に裏面を一致させた状態になり、ホッ
ト・プレート２の加熱を受はホトレジスト面のベーキン
グが図られるが、この場合のベーキングは、前記間欠的
な送りピン５の動作と小穴１６．１７からのエアーの吹
き出し操作の連係により炉体１の出口側の端にくるまで
の間に行われるもので、このようにベーキングされたフ
ォト・マスク３は、再び送りピン５の動作と小穴１６．
１７からのエアーの吹き出し力とにより、ガイド溝４と
は無接触の状態を保ちながら炉体１外に送り出され、あ
と図示しない任意の取り上げ手段によりフォト・マスク
３を取り上げ収容する。このようにして、炉体１の一方
からフォト・マスク３を取り入れ、他方から抜き取る作
業を連続的に行うものである。また送りピン５によって
フォト・マスク３を移動させる際に、ホット・プレート
２からマスク３が離れた際にも予め暖められたエアーな
吻き付けていることで、フォト・マスク３のもつ温度を
低下させないで充分な温度を保ったまま送る。
すれば、まずフォト・マスク３を炉体１内に送り入れる
場合、フォト・マスク３のフォト・レジストを塗布した
面（パターン面）２７が上向きになるように第１図に二
点鎖線で示す位置にフォト・マスク３を図示しない塗布
装置より送って、この位置で送りピン５でフォト・マス
ク３をひつかけて炉体１内に送り込む。この際フォト・
マスク３は小穴１６，１７より吹き出すエアーによりガ
イド溝４の内面から微かに浮いた状態で送られ１ピツチ
すなわちフォト・マスク３１個分移動した時点でエアー
は切られてマスク３は浮いた状態からガイド溝４の内面
の少なくとも底面に裏面を一致させた状態になり、ホッ
ト・プレート２の加熱を受はホトレジスト面のベーキン
グが図られるが、この場合のベーキングは、前記間欠的
な送りピン５の動作と小穴１６．１７からのエアーの吹
き出し操作の連係により炉体１の出口側の端にくるまで
の間に行われるもので、このようにベーキングされたフ
ォト・マスク３は、再び送りピン５の動作と小穴１６．
１７からのエアーの吹き出し力とにより、ガイド溝４と
は無接触の状態を保ちながら炉体１外に送り出され、あ
と図示しない任意の取り上げ手段によりフォト・マスク
３を取り上げ収容する。このようにして、炉体１の一方
からフォト・マスク３を取り入れ、他方から抜き取る作
業を連続的に行うものである。また送りピン５によって
フォト・マスク３を移動させる際に、ホット・プレート
２からマスク３が離れた際にも予め暖められたエアーな
吻き付けていることで、フォト・マスク３のもつ温度を
低下させないで充分な温度を保ったまま送る。
参考までに述べれば、フォト・マスク３の炉体１内での
ベーキング時間は、たとえば正味１０分程度である。
ベーキング時間は、たとえば正味１０分程度である。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、炉体内
にホット・プレートを置いて、このプレートによりフォ
ト・マスクを加熱することから、従来のような熱風循環
式のものと異なり炉体内に塵埃等を発生させることがな
い。
にホット・プレートを置いて、このプレートによりフォ
ト・マスクを加熱することから、従来のような熱風循環
式のものと異なり炉体内に塵埃等を発生させることがな
い。
さらに炉体内での移動を図っていることから、従来のよ
うに治具へのフォト・マスクの出し入れ時およびこの治
具を炉体内に出し入れする際に生じていた塵埃の発生が
ない。また、フォト・マスクのベーキング全工程におい
て塵埃の発生する部分がな（フォト・マスクのホトレジ
スト面を常に清浄に保った状態でベーキングが完了する
。
うに治具へのフォト・マスクの出し入れ時およびこの治
具を炉体内に出し入れする際に生じていた塵埃の発生が
ない。また、フォト・マスクのベーキング全工程におい
て塵埃の発生する部分がな（フォト・マスクのホトレジ
スト面を常に清浄に保った状態でベーキングが完了する
。
したがって、フォト・マスクの表面に形成されたパター
ンの品質の向上が図れる。
ンの品質の向上が図れる。
ホットプレートに密着し、均一に加熱し、且°、予め暖
められた空気で送ることにより、フォト・マスク内の温
度分布が均一となり、フォト・マスク表面に形成された
パターンの精度を充分に保つことができる。
められた空気で送ることにより、フォト・マスク内の温
度分布が均一となり、フォト・マスク表面に形成された
パターンの精度を充分に保つことができる。
また、エアーの吹き出しと送りピンの動作によってフォ
ト・プレートの自動的かつ連続的な供給およびベーキン
グがなされるから手数が省け、人員低減が図れるなどの
効果が得られる。
ト・プレートの自動的かつ連続的な供給およびベーキン
グがなされるから手数が省け、人員低減が図れるなどの
効果が得られる。
前記実施例においては被処理物としてフォト・マスク３
を例示したが、これはウェーハにも充分適用できる。
を例示したが、これはウェーハにも充分適用できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明のベーキング方法を実施する際に用いる
装置の一部を省略した平面図、第２図は第１図に示すＡ
−Ａ’線に沿って矢印方向に見た図、第３図は第１図の
ホット・プレートを拡大し横断面した図、第４図はホッ
ト・プレートとこの加熱手段との配置を示す第１図を連
結杆側から見た一部を省略した断面図、第５図は送りピ
ンの上下および横行運動の関係を示す線図、第６図およ
び第７図は従来のベーキング方法を実施する際に用いる
治具および熱風循環炉の概略図である。 １・・・炉体、２・・・ホット・プレート、３・・・フ
ォト・マスク、４・・・ガイド溝、５・・・送りピン、
６・・・連結杆、７・・・腕杆、８・・・固定軸、９・
・・リンク、１０・・・カム、１１・・・支軸、１２・
・・リンク、１３・・・ローラ、１４・・・カムフロア
、１５・・・カム、１６・・・小穴、１７・・・小穴、
１８・・・配管、１９・・・熱交換器、２０・・・エア
ー・フィルタ、２１・・・ヒータ、２２・・・反射笠、
２３・・・ヒータ、２４・・・点、２５・・・点、２６
・・・点、２７・・・ホトレジストを塗布した面、３１
・・・熱風循環炉、３２・・・治具、３３・・・フォト
・マスク。 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ６ 図 ２ 第 ７ 図 ３ノ ｊ３
装置の一部を省略した平面図、第２図は第１図に示すＡ
−Ａ’線に沿って矢印方向に見た図、第３図は第１図の
ホット・プレートを拡大し横断面した図、第４図はホッ
ト・プレートとこの加熱手段との配置を示す第１図を連
結杆側から見た一部を省略した断面図、第５図は送りピ
ンの上下および横行運動の関係を示す線図、第６図およ
び第７図は従来のベーキング方法を実施する際に用いる
治具および熱風循環炉の概略図である。 １・・・炉体、２・・・ホット・プレート、３・・・フ
ォト・マスク、４・・・ガイド溝、５・・・送りピン、
６・・・連結杆、７・・・腕杆、８・・・固定軸、９・
・・リンク、１０・・・カム、１１・・・支軸、１２・
・・リンク、１３・・・ローラ、１４・・・カムフロア
、１５・・・カム、１６・・・小穴、１７・・・小穴、
１８・・・配管、１９・・・熱交換器、２０・・・エア
ー・フィルタ、２１・・・ヒータ、２２・・・反射笠、
２３・・・ヒータ、２４・・・点、２５・・・点、２６
・・・点、２７・・・ホトレジストを塗布した面、３１
・・・熱風循環炉、３２・・・治具、３３・・・フォト
・マスク。 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ６ 図 ２ 第 ７ 図 ３ノ ｊ３
Claims (1)
- １、炉体と、炉体内に配置されたホットプレートと、ホ
ットプレート上で被処理物をホットプレートと非接触状
態に保つ手段と、被処理物をホットプレートに対し非接
触にした状態で移動させる機構とを有し、被処理物をホ
ットプレートで加熱する際ホットプレート上に接触させ
ることを特徴とするベーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2851684A JPS59161034A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ベ−キング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2851684A JPS59161034A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ベ−キング方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1998476A Division JPS5925372B2 (ja) | 1976-02-27 | 1976-02-27 | ベ−キング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59161034A true JPS59161034A (ja) | 1984-09-11 |
| JPS6156611B2 JPS6156611B2 (ja) | 1986-12-03 |
Family
ID=12250846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2851684A Granted JPS59161034A (ja) | 1984-02-20 | 1984-02-20 | ベ−キング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59161034A (ja) |
-
1984
- 1984-02-20 JP JP2851684A patent/JPS59161034A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6156611B2 (ja) | 1986-12-03 |
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