JPS5925033B2 - 金属の選択的除去 - Google Patents
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- JPS5925033B2 JPS5925033B2 JP51093537A JP9353776A JPS5925033B2 JP S5925033 B2 JPS5925033 B2 JP S5925033B2 JP 51093537 A JP51093537 A JP 51093537A JP 9353776 A JP9353776 A JP 9353776A JP S5925033 B2 JPS5925033 B2 JP S5925033B2
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- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/44—Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition
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- D21H17/33—Synthetic macromolecular compounds
- D21H17/34—Synthetic macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- D21H17/35—Polyalkenes, e.g. polystyrene
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属基質、特に鋼基質からニツケル、ニツケル
一鉄合金およびニツケル一鉄−コバルト合金をストリツ
ピングするための組成物および方法に関する。
一鉄合金およびニツケル一鉄−コバルト合金をストリツ
ピングするための組成物および方法に関する。
すなわち本発明は金属基質の表面からニツケル、ニツケ
ル一鉄合金およびニツケル一鉄一コバルト合金を選択的
に除去するための組成物およびその方法に関するもので
あり、該方法は該金属の表面を、（ａ）少くとも一つの
ニトロにより置換された芳香族化合物，（ｂ）少くとも
一つの脂肪族アミンまたはポリアミンまたは置換された
脂肪族アミンまたはポリアミン；および（ｃ）少くとも
一つのりんオキソ酸または有機りんオキソ酸またはその
塩またはアルキル・ホスホネートにより置換されたアミ
ンを含有する水性浴と接触させることからなるものであ
る。
ル一鉄合金およびニツケル一鉄一コバルト合金を選択的
に除去するための組成物およびその方法に関するもので
あり、該方法は該金属の表面を、（ａ）少くとも一つの
ニトロにより置換された芳香族化合物，（ｂ）少くとも
一つの脂肪族アミンまたはポリアミンまたは置換された
脂肪族アミンまたはポリアミン；および（ｃ）少くとも
一つのりんオキソ酸または有機りんオキソ酸またはその
塩またはアルキル・ホスホネートにより置換されたアミ
ンを含有する水性浴と接触させることからなるものであ
る。
ニツケル一鉄沈着物という語は約５〜９０重量％の鉄を
含有し、鉄以外の部分は主としてニツケルであるかまた
はニツケルおよびコバルトである沈着物を意味する。
含有し、鉄以外の部分は主としてニツケルであるかまた
はニツケルおよびコバルトである沈着物を意味する。
銅、亜鉛、カドミウム、鉛等の不純物が少量存在してい
てもよいが、この合金の主成分はニツケルと鉄である。
ニツケル沈着物を除去する方法がいくつかこれまでの特
許文献に記載されている。
てもよいが、この合金の主成分はニツケルと鉄である。
ニツケル沈着物を除去する方法がいくつかこれまでの特
許文献に記載されている。
しかしたとえばクラウス（Ｃｌａｕｓｓ）等の米国特許
第３７９５５９１号および第３８０６４２９号またはパ
ツサル（Ｐａｓｓａｌ）の米国特許第３８０４７２６号
に記載されているようにこれらの方法はニツケル一鉄電
気沈着物の除去に関しては工業的に結果が良くなかつた
。
第３７９５５９１号および第３８０６４２９号またはパ
ツサル（Ｐａｓｓａｌ）の米国特許第３８０４７２６号
に記載されているようにこれらの方法はニツケル一鉄電
気沈着物の除去に関しては工業的に結果が良くなかつた
。
ニツケル沈着物は化学的および（または）電気化学的に
基礎金属と十分異なつているため鋼や鉄のような基礎金
属からニツケル沈着物（電解またはＥｌｅｃｔｒＯｌｅ
ｓｓ）をストリツピングすることは可能であつた。この
ストリツピングの作用はニツケル沈着物に限られ、基礎
金属をおかすことはない。しかしニツケル鉄合金沈着物
、特に鉄がかなりの比率（たとえば１５％以上）に達す
る場合にはこの沈着物はニツケル一鉄合金をメツキした
鉄基体と化学的に非常に似ている。従つて本発明の目的
はこれらの沈着物の除去において選択的であり、基礎金
属には作用しないニツケル・メツキした物体特にニツケ
ルー鉄またはニツケル一鉄−コバルトをメツキした物体
の再生に用いるストリツピング溶液を作る成分の組合わ
せを提供することである。本発明は金属基質の表面から
ニツケル、ニツケル一鉄合金およびニツケル一鉄−コバ
ルト合金を選択的に除去するための組成物およびその方
法に関するものであり、該方法は該金属表面を（ａ）少
くとも一つの可溶化基を含有する、少くとも一つのニト
ロにより置換された芳香族化合物，（ｂ）少くとも一つ
の脂肪族アミンまたはポリアミンまたは置換された脂肪
族アミンまたはポリアミン：および（ｃ）少くとも一つ
のりんオキソ酸または有機りんオキソ酸またはその塩ま
たはアルキル・ホスホネートにより置換されたアミンを
含有する水性浴と接触させることからなる。
基礎金属と十分異なつているため鋼や鉄のような基礎金
属からニツケル沈着物（電解またはＥｌｅｃｔｒＯｌｅ
ｓｓ）をストリツピングすることは可能であつた。この
ストリツピングの作用はニツケル沈着物に限られ、基礎
金属をおかすことはない。しかしニツケル鉄合金沈着物
、特に鉄がかなりの比率（たとえば１５％以上）に達す
る場合にはこの沈着物はニツケル一鉄合金をメツキした
鉄基体と化学的に非常に似ている。従つて本発明の目的
はこれらの沈着物の除去において選択的であり、基礎金
属には作用しないニツケル・メツキした物体特にニツケ
ルー鉄またはニツケル一鉄−コバルトをメツキした物体
の再生に用いるストリツピング溶液を作る成分の組合わ
せを提供することである。本発明は金属基質の表面から
ニツケル、ニツケル一鉄合金およびニツケル一鉄−コバ
ルト合金を選択的に除去するための組成物およびその方
法に関するものであり、該方法は該金属表面を（ａ）少
くとも一つの可溶化基を含有する、少くとも一つのニト
ロにより置換された芳香族化合物，（ｂ）少くとも一つ
の脂肪族アミンまたはポリアミンまたは置換された脂肪
族アミンまたはポリアミン：および（ｃ）少くとも一つ
のりんオキソ酸または有機りんオキソ酸またはその塩ま
たはアルキル・ホスホネートにより置換されたアミンを
含有する水性浴と接触させることからなる。
上述のようにニツケル一鉄沈着物という語は約 Ｚ５〜
９０重量％の鉄を含有し、鉄以外の部分は主としてニツ
ケルであるかまたはニツケルおよびコバルトである沈着
物を意味する。また銅、亜鉛、カドミウム、鉛等の不純
物が少量存在していてもよいが、この合金の主成分はニ
ツケルおよび鉄である。代表的なニトロ置換芳香族化合
物はカルボン酸またはスルホン酸等の一個以上の可溶化
性基を含有するモノまたはポリニトロ置換されたベンゼ
ン環、たとえば：上記の遊離酸の代わりにこれらの酸の
塩たとえばＮａ＋ Ｋ＋・Ｌｉ＋、ＮＨ４＋等の塩を用
いることができることは理解されよう。
９０重量％の鉄を含有し、鉄以外の部分は主としてニツ
ケルであるかまたはニツケルおよびコバルトである沈着
物を意味する。また銅、亜鉛、カドミウム、鉛等の不純
物が少量存在していてもよいが、この合金の主成分はニ
ツケルおよび鉄である。代表的なニトロ置換芳香族化合
物はカルボン酸またはスルホン酸等の一個以上の可溶化
性基を含有するモノまたはポリニトロ置換されたベンゼ
ン環、たとえば：上記の遊離酸の代わりにこれらの酸の
塩たとえばＮａ＋ Ｋ＋・Ｌｉ＋、ＮＨ４＋等の塩を用
いることができることは理解されよう。
上記の化合物の中でもパラ一およびメターニト口安息香
酸は効力および工業的に容易に入手できるという点で特
に有利である。
酸は効力および工業的に容易に入手できるという点で特
に有利である。
★実施可能な代表的な脂肪族アミン
類またはポワアミン類または置換された脂肪族アミン類
またはポリアミン類の例を次のリストで示す：該遊離酸
またはアミンの代わりに上記の酸の塩または該アミン基
の四級化誘導体を使用することができることが理解され
よう。
類またはポワアミン類または置換された脂肪族アミン類
またはポリアミン類の例を次のリストで示す：該遊離酸
またはアミンの代わりに上記の酸の塩または該アミン基
の四級化誘導体を使用することができることが理解され
よう。
実施可能なりんオキソ陰イオンはその酸または塩として
ホスフエート、縮合ホスフエートたとえばピロホスフエ
ートおよび他のポリホスフエート、ならびに有機ホスフ
エート、ホスホネート、ボスフィネートおよびアルキル
・ホスホネート置換アミンである。
ホスフエート、縮合ホスフエートたとえばピロホスフエ
ートおよび他のポリホスフエート、ならびに有機ホスフ
エート、ホスホネート、ボスフィネートおよびアルキル
・ホスホネート置換アミンである。
好適なりんオキソ陰イオンの代表的な例は次のようなも
のである：（式中ｎはたがいに無関係に１〜４の整数で
ある）上記の陰イオンの電荷を中和するために適当な陽
イオンが必要なことは理解されよう。
のである：（式中ｎはたがいに無関係に１〜４の整数で
ある）上記の陰イオンの電荷を中和するために適当な陽
イオンが必要なことは理解されよう。
この陽イオンはたとえば水素、ナトリウム、カリウム、
リチウム、アンモニウム等である。上記の代表的なりん
オキソ化合物の中でも本発明の操作においてはオルトリ
ん酸またはその種々の塩およびピロリん酸またはその種
々の塩が特に有用である。
リチウム、アンモニウム等である。上記の代表的なりん
オキソ化合物の中でも本発明の操作においてはオルトリ
ん酸またはその種々の塩およびピロリん酸またはその種
々の塩が特に有用である。
下記のＡ．ｂおよびｅの各群から選んだ少くとも一つの
化合物を組み合わせると鉄金属からなる物体を腐食、溶
解またはおかすことなくこの物体からニツケル一鉄合金
沈着物を効果的に除去することができる。
化合物を組み合わせると鉄金属からなる物体を腐食、溶
解またはおかすことなくこの物体からニツケル一鉄合金
沈着物を効果的に除去することができる。
本発明の種々な観点に従つて第一鉄基礎金属から約９０
％までの鉄を含有するニツケル、ニツケル一鉄合金また
はニツケル一鉄−コバルト合金をストリツピングすなわ
ち除去するためには次の各物質群から少くとも一成分を
選んで水溶液を調整することが必要である：（ａ）少く
とも一つの可浄ヒ性を有する基を含有することを特徴と
するニトロ置換された芳香族化合物；（ｂ）脂肪族アミ
ン、ポリアミンまたは置換された脂肪族アミンまたはポ
リアミン；および（ｃ） りんオキソ酸またはその塩ま
たは有機りんオキソ酸またはその塩またはアルキル・ホ
スホネートにより置換されたアミン。
％までの鉄を含有するニツケル、ニツケル一鉄合金また
はニツケル一鉄−コバルト合金をストリツピングすなわ
ち除去するためには次の各物質群から少くとも一成分を
選んで水溶液を調整することが必要である：（ａ）少く
とも一つの可浄ヒ性を有する基を含有することを特徴と
するニトロ置換された芳香族化合物；（ｂ）脂肪族アミ
ン、ポリアミンまたは置換された脂肪族アミンまたはポ
リアミン；および（ｃ） りんオキソ酸またはその塩ま
たは有機りんオキソ酸またはその塩またはアルキル・ホ
スホネートにより置換されたアミン。
（ａ）群のニトロ置換芳香族化合物（よい例はパラニト
ロ安息香酸）の目的はニツケル一鉄合金沈着物を酸化す
ることである。
ロ安息香酸）の目的はニツケル一鉄合金沈着物を酸化す
ることである。
これらの芳香族二トロ化合物の好適な濃度範囲は約０．
０１５〜２．２モル／ｌ、好ましくは約０．０６〜１．
５モル／ｌであり、最も好ましい範囲は約０．１〜０．
８モル／ｌである。（ｂ）群の芳香族アミンまたはポリ
アミンはニツケルイオンに対する錯化剤として作用し、
緩衝作用を行なつて該溶液のＰＨを安定化するが、最も
重要な作用は鉄基礎金属の腐食を防止することであり、
これがなければ該金属は芳香族二トロ化合物におかされ
るであろう。これらの脂肪族アミンまたはポリアミン類
の実施可能な濃度範囲は０．０１５〜７モル／ｌ？、好
ましくは約０．０３〜５モル／ｌであり、最も好ましい
範囲は０．０５〜４モル／ｌである。（ｅ）群のりんオ
キソ酸またはその塩は該沈着物の酸化金属に対する錯化
剤として働いてニツケルおよび鉄および（または）コバ
ルト・イオンの可溶化を助け、沈着物表面からのこれら
の除去を助けて芳香族二トロ酸化剤が有効に作用できる
ようにすることであると考えられる。
０１５〜２．２モル／ｌ、好ましくは約０．０６〜１．
５モル／ｌであり、最も好ましい範囲は約０．１〜０．
８モル／ｌである。（ｂ）群の芳香族アミンまたはポリ
アミンはニツケルイオンに対する錯化剤として作用し、
緩衝作用を行なつて該溶液のＰＨを安定化するが、最も
重要な作用は鉄基礎金属の腐食を防止することであり、
これがなければ該金属は芳香族二トロ化合物におかされ
るであろう。これらの脂肪族アミンまたはポリアミン類
の実施可能な濃度範囲は０．０１５〜７モル／ｌ？、好
ましくは約０．０３〜５モル／ｌであり、最も好ましい
範囲は０．０５〜４モル／ｌである。（ｅ）群のりんオ
キソ酸またはその塩は該沈着物の酸化金属に対する錯化
剤として働いてニツケルおよび鉄および（または）コバ
ルト・イオンの可溶化を助け、沈着物表面からのこれら
の除去を助けて芳香族二トロ酸化剤が有効に作用できる
ようにすることであると考えられる。
これらのりんオキソ酸またはその塩の好適な濃度範囲は
約０．０５モル／ｌないし飽和点まで、好ましくは約０
．１〜５モル／′、最も好ましくは約０．３〜２モル／
ｌである。温度が高くなるほど化学反応の進行速度は高
くなるので、本発明のニツケル一鉄ストリツピング溶液
の操作は高温で行なうのが有利である。
約０．０５モル／ｌないし飽和点まで、好ましくは約０
．１〜５モル／′、最も好ましくは約０．３〜２モル／
ｌである。温度が高くなるほど化学反応の進行速度は高
くなるので、本発明のニツケル一鉄ストリツピング溶液
の操作は高温で行なうのが有利である。
さらに、種々成分をより高濃度範囲で使用する場合には
溶解度が限られているので室温より高温で操作するのが
必要となる。好適な温度は約３０℃ないし沸点までの範
囲である。しかし沸騰溶液は急速に蒸発するのでしばし
ば水を添加しなければならず、その他の問題も生ずる。
従つて適当な妥協案として６０〜９０℃の範囲があげら
れる。温度をこの範囲にすると溶液のロスが過剰となる
こともなく、また沸騰溶液に関するその他の問題を生ず
ることもなくストリツピングの速度が効果的なものとな
る。本発明の操作を効率よく行なうには溶液のＰＨを考
えなければならない。
溶解度が限られているので室温より高温で操作するのが
必要となる。好適な温度は約３０℃ないし沸点までの範
囲である。しかし沸騰溶液は急速に蒸発するのでしばし
ば水を添加しなければならず、その他の問題も生ずる。
従つて適当な妥協案として６０〜９０℃の範囲があげら
れる。温度をこの範囲にすると溶液のロスが過剰となる
こともなく、また沸騰溶液に関するその他の問題を生ず
ることもなくストリツピングの速度が効果的なものとな
る。本発明の操作を効率よく行なうには溶液のＰＨを考
えなければならない。
このＰＨは基礎金属を腐食させるほど低くてはならず、
また諸成分の溶解度を低下させるほど高くてもいけない
。有効なＰＨはＡ，．ｂおよびｃ群から選んだ化合物の
タイプによるが、６〜１４の範囲である。望ましい操作
範囲はＰＨ９〜１３の間であり、より好ましいＰＨは約
１０〜１２である。ＰＨは酸および塩基を適当に加える
ことにより調整することができる。たとえばりん酸、硫
酸または塩酸および水酸化ナトリウムまたは水酸化アン
モニウムを加えてストリツピング溶液の操作ＰＨを都合
よく低下または上昇させることができる。また操作温度
における溶液のＰＨを測定することも有利である。以上
鉄基礎金属からニツケル一鉄沈着物をストリツピングす
ることに関して本発明を説明したが、当業者にはニツケ
ル、ニツケル一鉄合金またはニツケル一鉄−コバルト合
金沈着物の適当な基礎金属として真鍮、銅またはその他
の銅合金も有効であることは当然明らかであろう。
また諸成分の溶解度を低下させるほど高くてもいけない
。有効なＰＨはＡ，．ｂおよびｃ群から選んだ化合物の
タイプによるが、６〜１４の範囲である。望ましい操作
範囲はＰＨ９〜１３の間であり、より好ましいＰＨは約
１０〜１２である。ＰＨは酸および塩基を適当に加える
ことにより調整することができる。たとえばりん酸、硫
酸または塩酸および水酸化ナトリウムまたは水酸化アン
モニウムを加えてストリツピング溶液の操作ＰＨを都合
よく低下または上昇させることができる。また操作温度
における溶液のＰＨを測定することも有利である。以上
鉄基礎金属からニツケル一鉄沈着物をストリツピングす
ることに関して本発明を説明したが、当業者にはニツケ
ル、ニツケル一鉄合金またはニツケル一鉄−コバルト合
金沈着物の適当な基礎金属として真鍮、銅またはその他
の銅合金も有効であることは当然明らかであろう。
これらの金属は本明細書に記載のストリツピング溶液の
作用により容易に腐食するので本発明の組成にさらに防
止剤を加えるのが有利である。これらの防止剤は米国特
許第３１０２８０８号に記載されたタイプの硫黄化合物
が最も好適である。代表的な例はジエチルジチオカルバ
メート、チオ尿素、硫化ナトリウム等である。次に実施
例をあげて説明するが、当業者にはこれらの実施例から
本発明の操作が明らかとなろう。
作用により容易に腐食するので本発明の組成にさらに防
止剤を加えるのが有利である。これらの防止剤は米国特
許第３１０２８０８号に記載されたタイプの硫黄化合物
が最も好適である。代表的な例はジエチルジチオカルバ
メート、チオ尿素、硫化ナトリウム等である。次に実施
例をあげて説明するが、当業者にはこれらの実施例から
本発明の操作が明らかとなろう。
ただしこれらの実施例は本発明の範囲を限定するもので
はない。例１ 水中次の組成を有するニツケル・ストリツパ一を製造し
た：上記の組成を有する溶液が基礎金属から電着ニツケ
ルをストリツピングするのに有効であることは当業界に
おいて公知である（米国特許第２９３７９４０号）。
はない。例１ 水中次の組成を有するニツケル・ストリツパ一を製造し
た：上記の組成を有する溶液が基礎金属から電着ニツケ
ルをストリツピングするのに有効であることは当業界に
おいて公知である（米国特許第２９３７９４０号）。
平均厚み８ミクロン、鉄含量４８．９％の光沢ニツケル
一鉄合金電着を予め行なつた鋼性パネルを、８０℃に保
つた上記の溶液に浸漬した。２時間後該沈着物は変色し
たが、ストリツピングの形跡は観察されなかつた。
一鉄合金電着を予め行なつた鋼性パネルを、８０℃に保
つた上記の溶液に浸漬した。２時間後該沈着物は変色し
たが、ストリツピングの形跡は観察されなかつた。
例２
水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造
した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含
量約５０％のニツケル一鉄合金電着物を８０℃でこの溶
液に９０分浸漬した。
した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含
量約５０％のニツケル一鉄合金電着物を８０℃でこの溶
液に９０分浸漬した。
この浸漬終了時には該基礎鋼からのニツケル一鉄沈着物
のストリツピングが終了してきれいな腐食されていない
面が現われた。例３ 水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造
した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含
量約５０％のニツケル一鉄合金電着物を８０℃でこの溶
液に２０分浸漬した。
のストリツピングが終了してきれいな腐食されていない
面が現われた。例３ 水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造
した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含
量約５０％のニツケル一鉄合金電着物を８０℃でこの溶
液に２０分浸漬した。
この浸漬終了時には該基礎鋼からニツケル一鉄沈着物が
完全に除去され、きれいな腐食されていない面が現われ
た。例４水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ
一を製造した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロ
ン、鉄含量約５０％のニツケル一鉄電着物を８０℃でこ
の溶液に７５分浸漬した。
完全に除去され、きれいな腐食されていない面が現われ
た。例４水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ
一を製造した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロ
ン、鉄含量約５０％のニツケル一鉄電着物を８０℃でこ
の溶液に７５分浸漬した。
この浸漬終了時には該基礎鋼からの該沈着物のストリツ
ピングが完全に行なわれ、きれいな腐食されていない面
が現われた。この鋼のところどころに透明なかつ色の汚
れが残つていたがこれは１０％硫酸からなるピクリング
溶液に数秒間浸漬することにより除去された。例５水中
次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造した
：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含量約
４２％のニツケル一鉄合金電着物を８０℃で６０分この
溶液に浸漬した。
ピングが完全に行なわれ、きれいな腐食されていない面
が現われた。この鋼のところどころに透明なかつ色の汚
れが残つていたがこれは１０％硫酸からなるピクリング
溶液に数秒間浸漬することにより除去された。例５水中
次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造した
：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含量約
４２％のニツケル一鉄合金電着物を８０℃で６０分この
溶液に浸漬した。
この浸漬終了時には該基磁鋼からの該沈着物のストリツ
ピングが完全に行なわれ、きれいな腐食されていない面
が現われた。例６ ニトロベンゼンのパラ異性体の代わりにメタ異性体を用
いた以外は例５と同様の組成を有するニツケル・ストリ
ツパ一を製造した。
ピングが完全に行なわれ、きれいな腐食されていない面
が現われた。例６ ニトロベンゼンのパラ異性体の代わりにメタ異性体を用
いた以外は例５と同様の組成を有するニツケル・ストリ
ツパ一を製造した。
鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含量約４
２％のニツケル一鉄電着物を８０℃で３５分間この溶液
に浸漬した。この浸漬終了時には該基礎鋼からの該沈着
物のストリツピングが完全に行なわれ、きれ（・な腐食
されていない面が現われた。例７ 水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造
した：鋼上に直接メツキした厚み８ミクロン、鉄含量約
２９％のニツケル一鉄電着物を８０℃で４５分この溶液
に浸漬した。
２％のニツケル一鉄電着物を８０℃で３５分間この溶液
に浸漬した。この浸漬終了時には該基礎鋼からの該沈着
物のストリツピングが完全に行なわれ、きれ（・な腐食
されていない面が現われた。例７ 水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造
した：鋼上に直接メツキした厚み８ミクロン、鉄含量約
２９％のニツケル一鉄電着物を８０℃で４５分この溶液
に浸漬した。
浸漬終了時には該基礎鋼からの沈着物のストリツピング
が完全に行なわれ、きれいな腐食されていない面が現わ
れた。例８ 水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造
した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含
量約２９％のニツケル一鉄電着物を８０℃で７５分間こ
の溶液に浸漬した。
が完全に行なわれ、きれいな腐食されていない面が現わ
れた。例８ 水中次の組成を有するニツケル一鉄ストリツパ一を製造
した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミクロン、鉄含
量約２９％のニツケル一鉄電着物を８０℃で７５分間こ
の溶液に浸漬した。
この浸漬終了時には該沈着物の約９０％が基礎鋼からス
トリツピングされ、きれいな腐食されていない面が現わ
れた。例９例７に従つてストリツピング溶液を製造した
。
トリツピングされ、きれいな腐食されていない面が現わ
れた。例９例７に従つてストリツピング溶液を製造した
。
鋼土に直接メツキした厚み約１０ミクロンの光沢ニツケ
ル電着物を８０℃で６０分間この溶液に浸漬した。この
浸漬終了時には該沈着物がストリツピングにより完全に
基礎鋼から除去され、きれいな腐食されていない面が現
われた。例１０ 水中次の組成を有するニツケルまたはニツケル鉄ストリ
ツパ一を製造した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミ
クロン、鉄含量３８％のニツケル一鉄合金電着物を８０
℃で３０分間この溶液に浸漬した。
ル電着物を８０℃で６０分間この溶液に浸漬した。この
浸漬終了時には該沈着物がストリツピングにより完全に
基礎鋼から除去され、きれいな腐食されていない面が現
われた。例１０ 水中次の組成を有するニツケルまたはニツケル鉄ストリ
ツパ一を製造した：鋼上に直接メツキした平均厚み８ミ
クロン、鉄含量３８％のニツケル一鉄合金電着物を８０
℃で３０分間この溶液に浸漬した。
この浸漬終了時には該基礎鋼から沈着物がストリツピン
グにより完全に除去され、きれいな腐食されていない面
が現われた。以上特定の例をあげて本発明の説明を行な
つたが、本発明の範囲内で種々の変型を行なうことがで
きることは明らかであろう。
グにより完全に除去され、きれいな腐食されていない面
が現われた。以上特定の例をあげて本発明の説明を行な
つたが、本発明の範囲内で種々の変型を行なうことがで
きることは明らかであろう。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 金属基質の表面を、 （ａ）少くとも一つの可溶化基を含有する、少くとも一
つのニトロ置換芳香族化合物；（ｂ）少くとも一つの脂
肪族アミンまたはポリアミンまたは置換された脂肪族ア
ミンまたはポリアミン；および（ｃ）少くとも一つのり
んオキソ酸または有機りんオキソ酸またはその塩または
アルキル・ホスホネートにより置換されたアミンを含有
する水性浴と接触させることからなる、金属基質の表面
からニッケル、ニッケル−鉄合金またはニッケル−鉄−
コバルト合金を選択的に除去する方法。 ２ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該ニトロ置換された芳香族化合物がニトロ
安息香酸である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該ニトロ置換された芳香族化合物がニトロ
ベンゼンスルホン酸である特許請求の範囲第１項記載の
方法。 ４ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該ニトロ置換された芳香族化合物がニトロ
フェノールである特許請求の範囲第１項記載の方法。 ５ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該ニトロ置換された芳香族化合物がニトロ
アニリンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該脂肪族アミンがエチレンジアミンである
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ７ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該脂肪族アミンがエチレンジアミンテトラ
酢酸である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ８ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該脂肪族アミンがジエチレントリアミンペ
ンタ酢酸である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ９ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金ま
たはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する方
法において、該脂肪族アミンが１・２−ジアミノプロパ
ンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １０ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該脂肪族アミンが２・３−ジアミノブタ
ンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １１ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該脂肪族アミンが１・３−ジアミノプロ
パンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １２ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該脂肪族アミンが１・２・３−トリアミ
ノプロパンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １３ 金属基質の表面からニッケル、ニツケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該脂肪族アミンがジエチレントリアミン
である特許請求の範囲第１項記載の方法。 １４ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該りんオキソ部分がオルトホスフェート
陰イオンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １５ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該りんオキソ部分がピロホスフェート陰
イオンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １６ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該りんオキソ部分がトリポリホスフェー
ト陰イオンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １７ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該りんオキソ部分が式：▲数式、化学式
、表等があります▼（式中Ｒは９個より少ない炭素原子
を有するアリール、置換アリールおよび直鎖状または分
枝したアルキルからなる群から選んだ基である）を有す
る陰イオンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 １８ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該りんオキソ部分が式：（式中Ｒは９個
より少ない炭素原子を有するアリール、置換アリールお
よび直鎖状または分枝したアルキルからなる群から選ん
だ基である）を有する陰イオンである特許請求の範囲第
１項記載の方法。 １９ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該りんオキソ部分が式：▲数式、化学式
、表等があります▼（式中ＲおよびＲ′はたがいに無関
係に９個より少ない炭素原子を有するアリール、置換ア
リールおよび直鎖状または分枝したアルキルからなる群
から選んだ基である）を有する陰イオンである特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ２０ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的に除去する
方法において、該ニツケル−鉄合金が５％ないし９０％
の鉄を含有する特許請求の範囲第１項記載の方法。 ２１ （ａ）少くとも１個の可溶化基を含有する、少く
とも１個の、ニトロにより置換された芳香族化合物０．
０１５モル／ｌ〜２．２モル／ｌ；（ｂ）少くとも１個
の脂肪族アミン、ポリアミンまたは置換された脂肪族ア
ミンまたはポリアミン０．０１５モル／ｌ〜７モル／ｌ
；および（ｃ）少くとも１個のりんオキソ酸または有機
りんオキソ酸またはその塩またはアルキル・スルホネー
トにより置換されたアミン０．１３モル／ｌ〜５．０モ
ル／ｌを含有する水性浴からなる、金属基質の表面から
ニッケル、ニッケル−鉄合金またはニッケル−鉄−コバ
ルト合金を選択的にストリツピングするための組成物。 ２２ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該ニトロ置換された
芳香族化合物がニトロ安息香酸である特許請求の範囲第
２１項記載の組成物。 ２３ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該ニトロ置換された
芳香族化合物がニトロベンゼンスルホン酸である特許請
求の範囲第２１項記載の組成物。 ２４ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該ニトロ置換された
芳香族化合物がニトロフェノールである特許請求の範囲
第２１項記載の組成物。 ２５ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該ニトロ置換された
芳香族化合物がニトロアニリンである特許請求の範囲第
２１項記載の組成物。 ２６ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンがエ
チレンジアミンである特許請求の範囲第２１項記載の組
成物。 ２７ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンがエ
チレンジアミンテトラ酢酸である特許請求の範囲第２１
項記載の組成物。 ２８ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンがジ
エチレントリアミンペンタ酢酸である特許請求の範囲第
２１項記載の組成物。 ２９ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンが１
・２−ジアミノプロパンである特許請求の範囲第２１項
記載の組成物。 ３０ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンが２
・３−ジアミノブタンである特許請求の範囲第２１項記
載の組成物。 ３１ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンが１
・３−ジアミノプロパンである特許請求の範囲第２１項
記載の組成物。 ３２ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンが１
・２・３−トリアミノプロパンである特許請求の範囲第
２１項記載の組成物。 ３３ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該脂肪族アミンがジ
エチレントリアミンである特許請求の範囲第２１項記載
の組成物。 ３４ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該りんオキソ部分が
オルトホスフェート陰イオンである特許請求の範囲第２
１項記載の組成物。 ３５ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該りんオキソ部分が
ピロホスフェート陰イオンである特許請求の範囲第２１
項記載の組成物。 ３６ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該りんオキソ部分が
トリポリホスフェート陰イオンである特許請求の範囲第
２１項記載の組成物。 ３７ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該りんオキソ部分が
式：▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒは９個より少ない炭素原子を有するアリール、
置換アリールおよび直鎖状または分枝したアルキルから
なる群から選んだ基である）で表わされる特許請求の範
囲第２１項記載の組成物。 ３８ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該りんオキソ部分が
式：▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒは９個より少ない炭素原子を有するアリール、
置換アリールおよび直鎖状または分枝したアルキルから
なる群から選んだ基である）で表わされる特許請求の範
囲第２１項記載の組成物。 ３９ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該りんオキソ部分が
式：▲数式、化学式、表等があります▼ （式中ＲおよびＲ′は９個より少ない炭素原子を有する
アリール、置換アリールおよび直鎖状または分枝したア
ルキルからなる群から選んだ基である）で表わされる特
許請求の範囲第２１項記載の組成物。 ４０ 金属基質の表面からニッケル、ニッケル−鉄合金
またはニッケル−鉄−コバルト合金を選択的にストリツ
ピングするための組成物において、該ニッケル−鉄合金
が５〜９０％の鉄を含有するものである特許請求の範囲
第２１項記載の組成物。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/602,140 US4042451A (en) | 1975-08-05 | 1975-08-05 | Selected stripping of nickel-iron alloys from ferrous substrates |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5220338A JPS5220338A (en) | 1977-02-16 |
| JPS5925033B2 true JPS5925033B2 (ja) | 1984-06-13 |
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|---|---|---|---|
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| CA (1) | CA1086613A (ja) |
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