JPS59227858A - プロリン誘導体 - Google Patents
プロリン誘導体Info
- Publication number
- JPS59227858A JPS59227858A JP58102236A JP10223683A JPS59227858A JP S59227858 A JPS59227858 A JP S59227858A JP 58102236 A JP58102236 A JP 58102236A JP 10223683 A JP10223683 A JP 10223683A JP S59227858 A JPS59227858 A JP S59227858A
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- JP
- Japan
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- acid
- reaction
- salts
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- Pyrrole Compounds (AREA)
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Peptides Or Proteins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プロリン誘導体及びその塩に関する。
本発明のプロリン誘導体は、文献未載の新規化合物であ
り、下記一般式(1)で表わされる。
り、下記一般式(1)で表わされる。
(式中Aは低級アルキレン基を、またBはフェニル基を
置換基として有することのある低級アルキレン基をそれ
ぞれ示す) 上記一般式(1)で表わされる本発明化合物及びその塩
は、アンジオテンシン変換酵素阻害作用を有し、降圧剤
として有用である。
置換基として有することのある低級アルキレン基をそれ
ぞれ示す) 上記一般式(1)で表わされる本発明化合物及びその塩
は、アンジオテンシン変換酵素阻害作用を有し、降圧剤
として有用である。
上記一般式(1)において、低級アルキレン基としては
、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルメチ
レン、エチルメチレン、プロピルメチレン、ブチルメチ
レン、ペンチルメチレン、ヘキシルメチレン、1−メチ
ルエチレン、2−メチルエチレン、1−メチルトリメチ
レン、2−メチルトリメチレン、3−メチル1−リメチ
レン、1−メチルテトラメチレン、2−メチルテトラメ
チレン、3−メチルテトラメチレン、4−メチルテトラ
メチレン等を、またフェニル基を置換基として有するこ
とのある低級アルキレン基としては、上記低級アルキレ
ン基及びフェニルメチレン、1−フェニルエチレン、2
−フェニルエチレン、1−フェニルトリメチレン、2−
フェニルトリメチレン、3−フェニルトリメチレン、1
−フェニルテトラメチレン、2−フェニルテトラメチレ
ン、3−フェニルテトラメチレン、4−フェニルテトラ
メチレン、1−ベンジルメチレン、1−ベンジルエチレ
ン、2−ベンジルエチレン、1−ベンジルトリメチレン
、2−ベンジルトリメチレン、3−ベンジルトリメチレ
ン、1−ベンジルテトラメチレン、2−ベンジルテトラ
メチレン、3−ベンジルテトラメチレン、4−ベンジル
テトラメチレン、1−7エネチルメチレン、2−7エネ
チルメチレン、1−(2−7エネチル)エチレン、2−
(2−7エネチル)エチレン、1−(2−フェネチル)
トリメチレン、2−(2−7エネチル)トリメチレン、
3− (2−フェネチル)トリメチレン、1−(2−7
エネチル)テトラメチレン、2−(2−フェネチル)テ
トラメチレン、3−(2−7エネチル)テトラメチレン
、4− (2−7エネチル)テトラメチレン、1−(2
−7エネヂル)ペンタメチレン、3−(2−7エネチル
)ペンタメチレン、5− (2−フェネチル)ペンタメ
チレン、1−(2−7エネチル)へキサメチレン、3−
(2−7エネチル)へキサメチレン、6−(2−7エネ
チル)へキサメチレン等を挙げることができる。
、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルメチ
レン、エチルメチレン、プロピルメチレン、ブチルメチ
レン、ペンチルメチレン、ヘキシルメチレン、1−メチ
ルエチレン、2−メチルエチレン、1−メチルトリメチ
レン、2−メチルトリメチレン、3−メチル1−リメチ
レン、1−メチルテトラメチレン、2−メチルテトラメ
チレン、3−メチルテトラメチレン、4−メチルテトラ
メチレン等を、またフェニル基を置換基として有するこ
とのある低級アルキレン基としては、上記低級アルキレ
ン基及びフェニルメチレン、1−フェニルエチレン、2
−フェニルエチレン、1−フェニルトリメチレン、2−
フェニルトリメチレン、3−フェニルトリメチレン、1
−フェニルテトラメチレン、2−フェニルテトラメチレ
ン、3−フェニルテトラメチレン、4−フェニルテトラ
メチレン、1−ベンジルメチレン、1−ベンジルエチレ
ン、2−ベンジルエチレン、1−ベンジルトリメチレン
、2−ベンジルトリメチレン、3−ベンジルトリメチレ
ン、1−ベンジルテトラメチレン、2−ベンジルテトラ
メチレン、3−ベンジルテトラメチレン、4−ベンジル
テトラメチレン、1−7エネチルメチレン、2−7エネ
チルメチレン、1−(2−7エネチル)エチレン、2−
(2−7エネチル)エチレン、1−(2−フェネチル)
トリメチレン、2−(2−7エネチル)トリメチレン、
3− (2−フェネチル)トリメチレン、1−(2−7
エネチル)テトラメチレン、2−(2−フェネチル)テ
トラメチレン、3−(2−7エネチル)テトラメチレン
、4− (2−7エネチル)テトラメチレン、1−(2
−7エネヂル)ペンタメチレン、3−(2−7エネチル
)ペンタメチレン、5− (2−フェネチル)ペンタメ
チレン、1−(2−7エネチル)へキサメチレン、3−
(2−7エネチル)へキサメチレン、6−(2−7エネ
チル)へキサメチレン等を挙げることができる。
本発明化合物は、種々の方法により製造することができ
る。その好ましい一例を下記の反応工程式で示す。
る。その好ましい一例を下記の反応工程式で示す。
く反応工程式〉
!?2
(2) (3)
(7)
Uノ!
(+)
〔上記各式においてA及びBは上記に同じ。RI2
及びR2は基−R1−CH−がフェニル基を置換基とし
て有することのある低級アルキレン基を形成するように
選択される。〕 本発明化合物は、上記反応工程式に示す通り、公知の一
般式(2)で示される化合物と一般式(3)で示される
化合物とを脱水反応させ、次いで得られる一般式(5)
で示される化合物のイミノ基をアミノ基に還元し、更に
得られる一般式(7)で示されるエステルを分解するこ
とにより製造される。
て有することのある低級アルキレン基を形成するように
選択される。〕 本発明化合物は、上記反応工程式に示す通り、公知の一
般式(2)で示される化合物と一般式(3)で示される
化合物とを脱水反応させ、次いで得られる一般式(5)
で示される化合物のイミノ基をアミノ基に還元し、更に
得られる一般式(7)で示されるエステルを分解するこ
とにより製造される。
上記各反応工程は、より詳細には以下の如くして行なわ
れる。即ち化合物(2)と化合物(3)との脱水反応は
、適当な脱水剤(4)の存在下、通常溶媒中で行なわれ
る。脱水剤(4)としては、この種反応に通常用いられ
る各種のもの、例えばモレキュラーツーブス3A、モレ
キユラーシーブス4A、硫酸マグネシウム、TA酸すト
リウム等を用いることができる。溶媒としては、反応に
悪形冑を与えない各種の有機溶媒、例えばメタノール、
エタノール等の低級アルコール類;テ]−ラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の環状エーテル類;塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等を利用すること
ができる。化合物(2)、化合物(3)及び脱水剤(4
)の使用割合は、特に限定されず、広範囲内で適宜選択
できるが、通常化合物(3)に対して化合物(2)は等
モル量〜過剰帛、好ましくは約1〜7倍mを、脱水剤(
4)は、通常化合物(3)に対して等重量〜過剰但、好
ましくは1〜10倍重量を用いるのが適当である。上記
反応は0℃から溶媒の沸点付近の加温下で進行するが、
0℃から25℃で良好に進行し、一般に12〜48時間
で反応は完結する。かくして化合物(5)を得る。
れる。即ち化合物(2)と化合物(3)との脱水反応は
、適当な脱水剤(4)の存在下、通常溶媒中で行なわれ
る。脱水剤(4)としては、この種反応に通常用いられ
る各種のもの、例えばモレキュラーツーブス3A、モレ
キユラーシーブス4A、硫酸マグネシウム、TA酸すト
リウム等を用いることができる。溶媒としては、反応に
悪形冑を与えない各種の有機溶媒、例えばメタノール、
エタノール等の低級アルコール類;テ]−ラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の環状エーテル類;塩化メチレン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等を利用すること
ができる。化合物(2)、化合物(3)及び脱水剤(4
)の使用割合は、特に限定されず、広範囲内で適宜選択
できるが、通常化合物(3)に対して化合物(2)は等
モル量〜過剰帛、好ましくは約1〜7倍mを、脱水剤(
4)は、通常化合物(3)に対して等重量〜過剰但、好
ましくは1〜10倍重量を用いるのが適当である。上記
反応は0℃から溶媒の沸点付近の加温下で進行するが、
0℃から25℃で良好に進行し、一般に12〜48時間
で反応は完結する。かくして化合物(5)を得る。
得られる化合物(5)は、通常反応系より単離すること
なく、引き続(反応に用いることができる。該化合物(
5)のイミノ基Φ還元反応は、金属水素化合物(6)を
用いて実等される。金属水素化合物(6)としては、通
常の各種のもの、例えば水素化ホウ素すトリウム、水素
化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素す1ヘリウム、
シアノ水素化ホウ素リチウム等が挙げられる。該金属水
素化合物(6)の使用量は特に限定されず、広い範囲内
で適宜選択できるが、通常化合物(5)に対して等モル
量〜過剰量、好ましくは1〜20倍員用いるのが適当で
ある。上記反応は一20℃から溶媒の沸点付近の加湿下
で進行するが、−20℃から25℃で良好に進行し、一
般に1時間で反応は完結する。かくして化合物(7)を
1りる。
なく、引き続(反応に用いることができる。該化合物(
5)のイミノ基Φ還元反応は、金属水素化合物(6)を
用いて実等される。金属水素化合物(6)としては、通
常の各種のもの、例えば水素化ホウ素すトリウム、水素
化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素す1ヘリウム、
シアノ水素化ホウ素リチウム等が挙げられる。該金属水
素化合物(6)の使用量は特に限定されず、広い範囲内
で適宜選択できるが、通常化合物(5)に対して等モル
量〜過剰量、好ましくは1〜20倍員用いるのが適当で
ある。上記反応は一20℃から溶媒の沸点付近の加湿下
で進行するが、−20℃から25℃で良好に進行し、一
般に1時間で反応は完結する。かくして化合物(7)を
1りる。
得られる化合物(7)の脱保護基反応は、好ましくは適
当な溶媒中酸(8)を用いて行なわれる。
当な溶媒中酸(8)を用いて行なわれる。
酸(8)としては、塩化水素、臭素、トリフルオロ酢酸
等を使用することができる。特に1−リフルオロ酢酸を
用いる場合には溶媒が不用であり、好都合である。溶媒
としては好ましくは例えば、酢酸エチル、酢酸、ジオキ
サン、メタノール等を使用できる。化合物(7)に対す
る酸(8)の使用 −割合は、通常10〜60倍モル
nとされるが、特にこの範囲に限定されない。上記酸分
解反応は通常0〜40℃、好ましくは0〜25℃付近の
温度条件下に有利に進行し、一般に約1〜3時間で反応
は完結する。 かくして一般式(1)で表わされる本発
明化合物を収得できる。
等を使用することができる。特に1−リフルオロ酢酸を
用いる場合には溶媒が不用であり、好都合である。溶媒
としては好ましくは例えば、酢酸エチル、酢酸、ジオキ
サン、メタノール等を使用できる。化合物(7)に対す
る酸(8)の使用 −割合は、通常10〜60倍モル
nとされるが、特にこの範囲に限定されない。上記酸分
解反応は通常0〜40℃、好ましくは0〜25℃付近の
温度条件下に有利に進行し、一般に約1〜3時間で反応
は完結する。 かくして一般式(1)で表わされる本発
明化合物を収得できる。
本発明の一般式(1)で表わされるプロリン誘導体は、
適当な酸または塩基を作用させることにより容易に医薬
的に許容される塩とすることができる。該酸としては例
えば、帽り臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機酸、p−
t−ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、コハク酸、
フマール酸、マレイン酸等の有機酸を挙げることができ
る。また塩基を作用させて得られる塩としては、例えば
ナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金R
fA、あるいはアルギニ〕/塩、リジン塩の如き有機塩
基との塩が挙げられる。之等の医薬的に許容される塩の
形成反応は、いずれも常法に従うことができる。
適当な酸または塩基を作用させることにより容易に医薬
的に許容される塩とすることができる。該酸としては例
えば、帽り臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機酸、p−
t−ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、コハク酸、
フマール酸、マレイン酸等の有機酸を挙げることができ
る。また塩基を作用させて得られる塩としては、例えば
ナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金R
fA、あるいはアルギニ〕/塩、リジン塩の如き有機塩
基との塩が挙げられる。之等の医薬的に許容される塩の
形成反応は、いずれも常法に従うことができる。
かくして得られる本発明化合物及びその塩は通常の分離
手段により容易に単離精製することができる。該分離手
段としては溶媒抽出法、希釈法、再結晶法、吸着クロマ
トグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、分子ふ
るいクロマトグラフィー等を例示できる。
手段により容易に単離精製することができる。該分離手
段としては溶媒抽出法、希釈法、再結晶法、吸着クロマ
トグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、分子ふ
るいクロマトグラフィー等を例示できる。
本発明化合物は不斉炭素が存在するため多数の光学異性
体が存在するが、本発明は各々の光学異性体及びそれら
の混合物(ラセミ休も含む)をも包含するものである。
体が存在するが、本発明は各々の光学異性体及びそれら
の混合物(ラセミ休も含む)をも包含するものである。
以下本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
実施例1
N−((2−ヒドロキシフェニル)ブチル)−L−アラ
ニル−L−プロリンの合成 サリチルアルデヒド0.92mQ、1−アラニル−L−
プロリン t−ブチルエステル418mg及びモレキュ
ラーシーブス3A2.70をメタノール91m2に!!
!濁させ、室温下で22時間撹拌した。
ニル−L−プロリンの合成 サリチルアルデヒド0.92mQ、1−アラニル−L−
プロリン t−ブチルエステル418mg及びモレキュ
ラーシーブス3A2.70をメタノール91m2に!!
!濁させ、室温下で22時間撹拌した。
反応混合物に一5℃以下で水素化ホウ素すトリウム32
7Il1gヲ加え、さらに10’C以下で30分間撹拌
した。モレキュラーシーブスを濾過して除いた後、水で
希釈し、ジクロルメタンで抽出した。
7Il1gヲ加え、さらに10’C以下で30分間撹拌
した。モレキュラーシーブスを濾過して除いた後、水で
希釈し、ジクロルメタンで抽出した。
ジクロルメタン溶液を飽和塩化す1ヘリウム水溶液で洗
浄し、硫酸すトリウム上で乾燥後、濃縮した。
浄し、硫酸すトリウム上で乾燥後、濃縮した。
残留物を4.1N塩化水素−rn1エチル5前に溶解し
、室温で2時間撹拌した1々、反応液にエーテルを加え
て析出した固体を枦取した。生成物をアンバーライトI
RA−68(ロームアンドハース社製、?FJil液=
496酢酸−メタノール)で処理し、濃縮して1qられ
た残留物をMCIゲルCHP20P(三菱化成工業株式
会社製)に吸着さ往、5096メタノールー水で溶−1
することにより次の物理的性質を有する標記化合物38
6111!J(収率74%)を得た。
、室温で2時間撹拌した1々、反応液にエーテルを加え
て析出した固体を枦取した。生成物をアンバーライトI
RA−68(ロームアンドハース社製、?FJil液=
496酢酸−メタノール)で処理し、濃縮して1qられ
た残留物をMCIゲルCHP20P(三菱化成工業株式
会社製)に吸着さ往、5096メタノールー水で溶−1
することにより次の物理的性質を有する標記化合物38
6111!J(収率74%)を得た。
w111二69〜71℃(分解)
MS :ra /e =292 (M” )〔α)D−
−72,13°(c =0.89.メタノール) 実施例2及び3 実施例1においてサルデルアルデヒドに代え、アセトフ
ェノン(実施例2)及び3−(2−ヒドロキシフェニル
)プロピオフェノン(実施例3)のそれぞれをし−アラ
ニル−L−プロリン 【−ブチルエステルに対しそれぞ
れ5倍モル百用い、同様にして下記本発明化合物を得た
。
−72,13°(c =0.89.メタノール) 実施例2及び3 実施例1においてサルデルアルデヒドに代え、アセトフ
ェノン(実施例2)及び3−(2−ヒドロキシフェニル
)プロピオフェノン(実施例3)のそれぞれをし−アラ
ニル−L−プロリン 【−ブチルエステルに対しそれぞ
れ5倍モル百用い、同様にして下記本発明化合物を得た
。
実施例2
N−(1−(2−ヒドロキシフェニル)エチル)−L−
アラニル−L−プロリン 収率;88% 瀾p;約121℃(分解開始点) MS :m /e −306(M” )(α)D−−9
4,82°(c=0.56、メタノール) 実施例3 N−(1−(2−ヒドロキシフェニル)−3=フエニル
プロピル)−L−アラニル−L−プロリン 収率;36% mp;約116℃(分解開始点) MS :m /e −396(M+ )〔α〕訃−−
69.62°(c=1.04、メタノール) (以 上)
アラニル−L−プロリン 収率;88% 瀾p;約121℃(分解開始点) MS :m /e −306(M” )(α)D−−9
4,82°(c=0.56、メタノール) 実施例3 N−(1−(2−ヒドロキシフェニル)−3=フエニル
プロピル)−L−アラニル−L−プロリン 収率;36% mp;約116℃(分解開始点) MS :m /e −396(M+ )〔α〕訃−−
69.62°(c=1.04、メタノール) (以 上)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 〔式中Aは低級アルキレン基を、またBは、)工二ル基
を置換基として有することのある低級アルキレン基をそ
れぞれ示す〕 で表わされるプロリン誘導体及びその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58102236A JPS59227858A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | プロリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58102236A JPS59227858A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | プロリン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59227858A true JPS59227858A (ja) | 1984-12-21 |
JPH032151B2 JPH032151B2 (ja) | 1991-01-14 |
Family
ID=14321999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58102236A Granted JPS59227858A (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | プロリン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59227858A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002060858A1 (fr) * | 2001-01-31 | 2002-08-08 | Meiji Seika Kaisha, Ltd. | Nouveau compose presentant une activite inhibitrice de la reaction de maillard |
KR100569156B1 (ko) * | 1999-05-15 | 2006-04-10 | 씨제이 주식회사 | 프롤린 유도체 및 이의 제조방법 |
-
1983
- 1983-06-08 JP JP58102236A patent/JPS59227858A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100569156B1 (ko) * | 1999-05-15 | 2006-04-10 | 씨제이 주식회사 | 프롤린 유도체 및 이의 제조방법 |
WO2002060858A1 (fr) * | 2001-01-31 | 2002-08-08 | Meiji Seika Kaisha, Ltd. | Nouveau compose presentant une activite inhibitrice de la reaction de maillard |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH032151B2 (ja) | 1991-01-14 |
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