JPS59227706A - 炭化ケイ素微粉末の製造方法 - Google Patents

炭化ケイ素微粉末の製造方法

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JPS59227706A
JPS59227706A JP58101658A JP10165883A JPS59227706A JP S59227706 A JPS59227706 A JP S59227706A JP 58101658 A JP58101658 A JP 58101658A JP 10165883 A JP10165883 A JP 10165883A JP S59227706 A JPS59227706 A JP S59227706A
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JP
Japan
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gas
silicon carbide
powder
fine powder
carbon
Prior art date
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Pending
Application number
JP58101658A
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English (en)
Inventor
Michiyo Tsuchiya
土屋 通世
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Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭化ケイ素微粉末の製法、さらに詳しくは非酸
化性ガス中に浮遊させた炭素微粉末とsioガスとを1
50000以上の温度で接触させ炭化ケイ素微粉末を直
接取得する炭化ケイ素微粉末の製造方法に関する。
炭化ケイ素微粉末は窒化ケイ素微粉末と共に工業用材料
、例えば成形体、金属や合成樹脂の充填剤等に使用され
る重要な原料である。
炭化ケイ素微粉末の工業的製法についてはいろいろ提案
されている。
例えば5102と炭素との混合物を成形し、これをタン
マン炉に充填し、温度1600’C!以上の高温に加熱
し、次式 %式%(1) の反応を行なわせて炭化ケイ素クリンカーとし、これを
粉砕精製する方法がある。さらに詳しく説明すると、 (1)式のSIC生成反応は通常 5i02 十〇 −+ SiO+Co  ・・印・・・
・・・・・・・・(2)SiO+20−+ SiO+ 
Co  −=−=・−・旧−−−(3)02段反応によ
シ進行するが、前記方法は(2)式の反応で生成するS
iOガスの発生を遅らせて、炭素にSiOガスを吸収さ
せ、さらに原料が炉内を滑らかに流れるようにするため
微粉末の砕石と炭素とを成型し、これを加熱し反応させ
るものである。
しかしこの方法は、得られたクリンカー中のSiCは互
に焼結し、微粉末状の炭化ケイ素を得るためには長時間
粉砕する必要があシ経済的ではない(特開昭52−46
398号公報)。
また、重量でカーボンブラック1部とSiOガス1、7
〜2.1部トk 10 fJH5’ 以下” 減圧下、
温度1200〜1500’Oの間で反応させる方法があ
る。しかしこの方法は減圧下高温反応させるので、操作
が繁雑であシまた減圧装置を必要とするので実用的では
ない(特開昭54−122312号公報)。
本発明はこれらの欠点を解決すること全目的とするもの
であって、高温下炭素微粉末を非酸化性ガス中に浮遊さ
せた状態でSiOと接触させると、炭化ケイ素生成反応
が敏速に進行し且つ生成した炭化ケイ素粒子相互の焼結
・粒成長が起らないため、粉砕等の手段を要せず直接炭
化ケイ素微粉が得られるというすぐれた炭化ケイ素微粉
末の製造方法を提供しようとするものである。
すなわち本発明は炭素微粉末とSiQガスとから炭化ケ
イ素微粉末を製造するにあたシ、非酸化性ガス中に浮遊
させた炭素微粉末とsioガスと全温度1500℃以上
で接触させることを特徴とする。
以下さらに本発明の詳細な説明する。
本発明の具体例としてはSiO発生源となる原料又は固
型SiOを反応器内に充填し反応器内の温度全高温例え
ば1500 ’C以上に加熱し、一方炭素微粉末を浮遊
させた非酸化性ガスを供給し反応器内でSiOガスと炭
素微粉末とを接触させ、SiO+2C→SiO+ (!
Oの反応により炭化ケイ素微粉末を生成させ、これを系
外に排出させて捕集器に捕集する方法があげられるが、
これらに限られるものではな(SiOガスと炭素微粉末
とを非酸化性ガス雰囲気下高温で浮遊状態で接触させ炭
化ケイ素微粉末とするものであれば本発明の範囲に含ま
れる。
本発明に用いられる炭素の具体例としては炭化水素を熱
分解して得られるカーボンブラック、コークス、無煙炭
等があげられる。これらの粒度は非酸化性ガスに浮遊す
る程度の粉末であればよいが、好ましくは比表面積で約
110 m2/j9、平均粒径で約10μのもの、又は
これらより小さいものである。
前記炭素の中、力〜ボンプラックは市販品であっても粒
度は本発明に適当なものであシ、非酸化性ガス流中に浮
遊させやすく、また不純物が少ないので好ましいもので
ある。
なお石油コークスや無煙炭は前記した粒度となるように
粉砕機で微粉砕して用いることができる。
SiOガスを発止させる原料としては固体状siOの他
、ケイ石と炭素の混合物、ケイ石と金属シリコンとの混
合物など公知の材料のいづれでも良い。
またこれらにSiOガス発生促進剤を加えることもでき
る。
非酸化性ガスとしてはアルゴンのような不活性ガス、H
2ガスのような還元性ガスのいづれでも良く、またこれ
らの混合ガスやCOガスを含むH2ガス等でもよく、炭
素微粉末を酸化しないものであれば良い。
炭素微粉末の浮遊した状態とは炭素微粉末及び生成した
炭化ケイ素が非酸化性ガスによって実質的に隔てられ、
相互間の焼結が防止でき、且つ炭素とSiOガスとの接
触反応が均一にできる様に充分に非酸化性ガス中に分散
した状態の意味である〇例えば炭素微粉末が非酸化性ガ
スの流れに分散した状態で非酸化性ガスと同方向に移動
する場合、或は、逆方向に移動する場合や同じ位置にほ
ぼ停止している状態のいづれでも良い。
このような浮遊した状態におくことの重要性は次の点に
ある。即ち第1には通常の方法の様に、炭素微粉末が非
酸化性ガス流中に浮遊していない時は生成した炭化ケイ
素は互に焼結し、機械的な粉砕が必要となるが、非酸化
性ガス流中に浮遊している状態で1は焼結は起シ難く直
接の炭化ケイ素微粉末を得ることができ1.粉砕は不要
となるからである。
第2には、炭化ケイ素の生成反応はSiOガスと炭素微
粉末との気固反応であるので炭素が、気流中に浮遊して
いる場合にはよく分散し凝集することが少ないので炭化
ケイ素生成反応は非常に敏速に進行するからである。
炭素微粉末の反応室への供給量は、前記(2)式の反応
が行われる理論値を基準とし、その理論値の±20係程
度であるが炭素微粉末の多い方が好ましい。
本発明に用いる反応器としては例えば、SiOガス発生
源となる原料を温度1500℃以上に加熱し、SiOガ
スを発生させることができ、さらに非酸化性ガス中に炭
素微粉末を浮遊した状態で反応器に供給できるものであ
って、さらに説明すると反応器の下端に多孔板、上部側
部に排出口を設けた竪型の反応器にその上部から炭素微
粉末を供給する装置、下部多孔板から非酸化性ガスを供
給する装置を備えたものがあげられる。
以上説明したように本発明は、炭素微粉末とSiOガス
とから炭化ケイ素微粉末を製造するにあたり、非酸化性
ガス中に浮遊させた炭素微粉末とSiQガスとを温度1
500°C以上で接触させることを特徴とする炭化ケイ
素微粉末の製造方法であってこのような方法は従来全く
知られていなかったものである。
本発明によればSiOガスと炭素との反応が容易に進行
し、また炭化ケイ素が凝集することが少なく、高純度の
炭化ケイ素微粉末が収率よく得られるという利点がある
以下に実施例をあげてさらに本発明を具体的に説明する
実施例1 下端に黒鉛製多孔板を備え、上部よシ直径20咽のアル
ミナ管を挿入した直径80閣、均熱長500Tlr!n
のアルミナ質反応管の下部にコークス(固定炭素94%
、平均粒径12μ)と砂石(純度97チ、平均粒径8μ
)とをCと5in2のモル比1対1に混合した後、直径
2〜10+++mに造粒した混合物200 frを入れ
、反応管の下端からアルゴンガスを流しながら加熱した
。反応管示1700℃に到達した時上部より挿入した直
径20mmのアルミナ管よりアルゴンガスと共に、アセ
チレンブラック(電気化学製平均粒径0.04μ)を2
g/分の割合で30分間供給し、反応管上部よりアルゴ
ンガスを主成分とするガス流に乗って排出された反応物
802rをテトロンフェルトを備えた捕集ビンに捕集し
た。
この捕集物を空気中700°Cで1Hvs脱炭したのち
10%ノHF /HNO3= j / 1混酸に6HV
S浸漬し水洗した。
得られた微粉はX線回折分析の結果β−8icであり、
SiOの純度は98%、電子顕微鏡観察の結果0.5μ
以下の微粉であった○ 実施例2 アルゴンガスの代りにH2ガスを使用した以外は、実施
例1と同様に行った。捕集物収量722rで、精製後の
β−8icの純度は97チ、粒度は05μ以下の微粉で
めった。
特許出願人  電気化学工業株式会社 手  続  補  正  書 昭和58年7月6日 1、事件の表示 昭和58年特許願第101658号 2、発明の名称 炭化ケイ素微粉末の製造方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住 所  東京都千代田区有楽町1丁目4番1号5、補
正の内容 5−1)明細書第4頁第18行「比表面積で役110r
d/glを削除する。
5−2)同第6頁第11行「直接の炭化ケイ素」を「直
接炭化ケイ素」と訂正する。
5−3)同第7頁第要テ「±20程度であるが炭素微粉
末の多い方が好まし・い。」を「±20%程度である。
」と訂正する。
5−4)同第9頁において第1行rlHVsJを「1時
間」、第2行r6HVSjを「6時間」と訂正する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 炭素微粉末とSiOガスとから炭化ケイ素微粉末で接触
    させることを特徴とする炭化ケイ素微粉末の製造方法
JP58101658A 1983-06-09 1983-06-09 炭化ケイ素微粉末の製造方法 Pending JPS59227706A (ja)

Priority Applications (1)

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JP58101658A JPS59227706A (ja) 1983-06-09 1983-06-09 炭化ケイ素微粉末の製造方法

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JP58101658A JPS59227706A (ja) 1983-06-09 1983-06-09 炭化ケイ素微粉末の製造方法

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JPS59227706A true JPS59227706A (ja) 1984-12-21

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ID=14306473

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58101658A Pending JPS59227706A (ja) 1983-06-09 1983-06-09 炭化ケイ素微粉末の製造方法

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61209520A (ja) * 1985-03-14 1986-09-17 中部ハンドリング株式会社 深耕施肥装置
FR2684091A1 (fr) * 1991-11-21 1993-05-28 Pechiney Recherche Procede de fabrication de carbures metalliques a grande surface specifique sous balayage de gaz inerte a pression atmospherique.
JP2009256153A (ja) * 2008-04-21 2009-11-05 Bridgestone Corp 炭化珪素粉体の製造方法及び製造装置

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US5427761A (en) * 1991-11-21 1995-06-27 Pechiney Recherche Process for the production of metal carbides having a large specific surface under atmospheric pressure inert gas scavenging
JP2009256153A (ja) * 2008-04-21 2009-11-05 Bridgestone Corp 炭化珪素粉体の製造方法及び製造装置

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