JPS59226410A - 高分子誘電体 - Google Patents

高分子誘電体

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JPS59226410A
JPS59226410A JP9877883A JP9877883A JPS59226410A JP S59226410 A JPS59226410 A JP S59226410A JP 9877883 A JP9877883 A JP 9877883A JP 9877883 A JP9877883 A JP 9877883A JP S59226410 A JPS59226410 A JP S59226410A
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JP
Japan
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dielectric
ethylene
vinylidene fluoride
copolymer
mol
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Pending
Application number
JP9877883A
Other languages
English (en)
Inventor
輝夫 阪上
則之 荒川
角谷 治子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kureha Corp
Original Assignee
Kureha Corp
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、比較的高い誘電率と低誘電正接を兼ね備えた
フッ化ビニリデン系高分子誘電体に関する。
高分子誘電体は、セラミック誘電体に比べて、一般に高
周波特性、温度特性に優れ且つ薄膜化も容易であるため
、主として小型コンデンサー用材料等として広く用いら
れはじめている。従来よりよく知られている高分子誘電
体としては、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト(以下「PETJと略称する)、ポリカーボネート、
ポリスチレンなどがあり、なかでもPETは比較的高い
誘電率(20℃、1キロヘルツ(kHz)で約3.2)
と比較的低い誘電正接(20℃、1キロへ 1、ルツ(
kHz)で約0.6%)と、優れた薄膜特性とを有し、
有用な高分子誘電体材料として広く用いられている。
しかしながら、PETは、低誘電正接ではあるが、吸湿
性が比較的大であり、誘電特性が雰囲気条件により変化
するという難点がある。この点、ポリフッ化ビニリデン
(以下、rPVDFJと略称する)は合成高分子のなか
では最も高い部類の誘電率(20℃、1KHzで約io
)を有し、優れた成形性を有するとともに、低吸湿性、
高耐熱性などの点でもPETに比べて誘電体材料として
一段と優れた特性を有している。しかしながら、こ(7
)PVDFは、誘電正接(2’ 0℃、1k)12)が
、PETの約0.6%に比べて、約1.0%と大きく、
低誘電損失を要求される用途には好まし〈ない面を有し
ている このように、PETとPVDFとは、ともに優れた誘電
体ではあるが、必ずしも全ての面で満足できるものとは
云い難く、用途に応じて使い分けられているのが実情で
ある。したがって、一般的には、より高誘電率あるいは
より低誘電正接の材料が更に求められている。
本発明は、上述の事情に鑑み、PETと同等ないしはそ
れ以上の誘電率を有し、PETよりも一層低い誘電正接
を有するとともに成形性も良好なフッ化ビニリデン系高
分子誘電体を提供することを目的とする。
本発明者らの研究によれば、上述の目的は、特定の組成
割合のフッ化ビこリデンーエチレンー四フッ化エチレン
共重合体により達成されることが見出された。本発明の
高分子誘電体は、このような知見に基づくものであり、
より詳しくは、フッ化ビこリデン3モル%以上20モル
%未満、エチレン35〜55モル%、四フフ化エチレン
30〜60モル%で、エチレン/フッ化ビニリデンのモ
ル比が2.2〜18.3である組成を有する共重合体テ
Toす、20℃、1キロヘルツにおける誘電率が3.0
以上、誘電正接が0.4%以下であることを特徴とする
ものである。
なお、フッ化ビニリデン−エチレン−四フッ化エチレン
三元共重合体自体は、四フッ化エチレンーフフ化ビニリ
デン−フルオロオレフィン三元共重合体の一種として公
知である(特公昭48−25415号公報)。しかしな
がら、これら一連の共重合体は、単に成形性の良好な耐
熱性共重合体として開発されたものであり、フッ化ビニ
リデン−エチレン−四フッ化エチレン三元共重合体にし
ても、その誘電体としての有用性は全く認識されていな
い。特に本発明の組成の竺元共重合体が、比較的高い誘
電率と低誘電正接とを兼ね備えた優れた誘電体であるこ
とは、本発明者らによりはじめて見出されたものである
。また、上記公報に開示されているような溶液重合によ
るときは、生成共重合体が低分子量化して、薄膜成形性
が低下するkともに、望ましい程度の誘電正接の低下が
得られないという問題もある(後記比較例参照)。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明の誘電体を構成する共重合体は、フッ化ビニリデ
ン、エチレンおよび、四フフ化エチレンの三成分が必要
であり、これらのうちの二成分の共重合体では所望の性
質を得られない、すなわち、フッ化ビニリデンとエチレ
ンとは共重合性に乏しく、本質的に高誘電率、低誘電正
接の共重合体を得ることができない、フッ化ビニリデン
と四フッ化エチレンの二元共重合体は広く知られている
が、四フッ化エチレンの含量が多いと成形性が極めて悪
く、コンデンサーとして有用な薄膜に成形困難となる。
これに反してフッ化ビニリデン含量の多いものは、その
性質がPVDFに近く高誘電率ではあるが、誘電正接を
低くすることも極めて困難となる。更に、エチレンと四
フッ化エチレンの共重合体も、成形性の良い耐熱性樹脂
として広く知られているが、誘電率の向上に必要な極性
を有さす、低誘電正接ではあるものの、誘電率が小さく
有用な誘電体とはなり得ない。
所望の誘電特性を得るには、三成分間の組成比が極めて
重要である。すなわち、本発明においては、フッ化ビニ
リデン3モル%以上20モル%未満、エチレン35〜5
5モル%、四フッ化エチレン30〜60モル%であって
且つエチレン/フッ化ビニリデンのモル比が2.2〜1
8.3である限られた組成の共重合体のみが用いられる
フッ化ビニリデン含量が20モル%以上の場合には、共
重合体の誘電正接が大きく増加し本発明の目的を達成で
きない。また3モル%未満では四フッ化エチレンーエチ
レン二元共重合体と大差なく誘電率の低いものしか得ら
れない。エチレン含量が35モル%未満では、耐熱性は
良好となるが共重合体の成形性が悪く、薄膜化が困難と
なるだけでなく、誘電正接も高くなる傾向を示1゜!一
方、エチレンが55モル%を超えると、極端に共重合性
が悪く製造が困難となり、本実上、共重合体を得ること
ができなくなる。また四フッ化エチレンカ、30モル%
未満では、エチレンとフッ化ビニリデンの共重合性が悪
いため、この範囲の共重合体を得ることは困難である。
更に本発明ではエチレン/フッ化ビニリデンのモル比も
重要な意味をもち、この比が2.2〜18.3の範囲外
では、所期の誘電特性を有するランダム共重合体を得る
ことができない。
この様に本発明の高分子誘電体は、フッ化ビニリデン、
エチレン、四フフ化エチレンの三成分を必要とするが、
所期の誘電特性、すなわち、20°C,1kHzにおい
て3.0以上の誘電率、0゜4%以下の誘電正接を与え
る限りにおいて、例えばプロピレン、インブチレン、フ
ッ化ビニル、トリフロロエチレン、トリフロロモノクロ
ロエチレン、六フフ化プロピレン等の上記三成分と共重
合可能な単量体を、少量、たとえば生成共重合体の5モ
ル%以下、の割合で含ませることも可能である。
本発明の高分子誘電体を構成する共重合体は、一般には
フッ化ビニリデン共重合体の製造に適用される各種重合
方法により得られるが、過酸化物開始剤、アゾ系開始剤
あるいは電離性放射線等を重合開始源として、水を分散
媒とする懸濁重合法もしくは塊状重合法により製造する
ことが好ましい。有機溶剤を用いる溶液ないし懸濁重合
法では、生成共重合体の重合度を充分大とすることが困
難であり、物性が低下するのみでなく、所期の誘電特性
、特に低誘電正接を得ることができない。
本発明の高分子誘電体は、成形性にも優れており、加熱
成形によって容易にフィルムないしは、シート状の誘電
体とすることが可能である。フィルムないしシート化の
ための加熱成形法としては一般に公知の成形法が用いら
れ、例えば、熱プレス、エクストルーダー、カレンダー
ロール−等を用いる加熱成形が用いられる。特に薄膜と
する場合には、更にロール圧延するか、l軸、又は多軸
に延伸することも可能である。特に延伸の場合には、薄
膜化のみでなく、誘電特性の若干の向上も期待できる。
上述したように、本発明によれば、限られた組成の、フ
ッ化ビニリデン−エチレン−四フッ化エチレン共重合体
からなり、PETと同等ないしは、それ以上の誘電率を
有し、且っ誘電正接が一層低く、更に耐吸湿性、耐熱性
および成形性も優れた高分子誘電体が提供され・る。し
たがって、この誘電体は、特に低誘電正接を要求される
コンデンサーフィルム等として極めて有用なものである
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する。以
下の記載において、誘電率および誘電正接は、特に断ら
ない限り、20’0.1kHzにおける測定値である。
実施例1 撹拌器を備えた141オートクレーブ中に蒸留水580
g、メチルセルロース(懸濁剤)0.2g、n−プロピ
ルパーオキシジカーボネート(重合開始剤)4.0gを
加え窒素置換後、更にフッ化ビニリチン10.3g(5
モル%)、エチレン45g(50モル%)、四フッ化エ
チレン144゜7g(45モル%)を入れ、攪拌下に3
0”0で重合を開始した。圧力が10Kg/cf以下に
低下した時点で窒素圧で水を圧入し、圧力が10Kg/
 c nf以下にならないようにして重合を続は最終的
に収率98%以上で組成がほぼ仕込組成に等しい三元共
重合体を得た。収率は98%以上であり組成がほぼ仕込
組成に等しい三元共重合体が得られた。エチレン/フッ
化ビニリデンのモル比は10−0であった。
この共重合体は、融点265℃を有する耐熱性に優れた
樹脂であり、容易に熱プレスによって成形可能であった
。このもののプレスシート(厚さ約120°C)の誘電
率及び誘電正接な次に示す。
この様に、得られた三元共重合誘電体は誘電正接が小さ
く、且つ比較的大きな誘電率を有する有用な高分子誘電
体であることがわかる。
比較例1 実施例1に準じた方法でフッ化ビこリデン/エチレン/
四フッ化エチレンのモル%比が2/45153/の三元
共重合体を得た。融点は265℃でありこの共重合体の
プレスシート(厚さ120μ、)の誘電特性を測定する
と、以下の結果が得られた。
誘電率   2.5 誘電正接  0.15% このようにフッ化ビニリデン含量が本発明の範囲より少
ない場合、誘電正接は小さいが誘電率も低いものしか得
られなかった。
実施例2 実施例1に準じた方法でフッ化ビニリデン/エチレン/
四フッ化エチレンのモル%比が15150/35の三元
共重合体を得た(エチレン/フッ化ビニリデンのモル比
は3.3)。この共重合体の融点は248℃であり成形
性に富むものであった。この共重合体を成形温度280
℃で熱プレスしてプレスシート(160JL)を作り、
誘電特性を測定した。結果は以下の通りであった。
誘電率      3、? 誘電正接     0.3% 次にこのシートを用いて誘電特性の温度による変化を測
定した。測定は東洋精器製レオログラフにより30Hz
で行った。その結果を第1図、第2図に示す。このよう
に本発明の三元共重合体は誘電率及び誘電正接の温度依
存性が極めて小さくこの点からも有用な高分子誘電体で
あることがわかる。
実施例3 実施例1に準じた方法でフッ化ビニリデン/エチレン/
四フッ化エチレンのモル%比が13152/35である
三元共重合体を得た(エチレン/フッ化ビニリデンのモ
ル比は4.0)。この共電体の融点は245℃であった
。この共重合体を290℃で厚さ19Jtのプレスシー
トを作製後、60℃で延伸し厚さ48ILのフィルムを
得た。これを更に130℃で約1時間熱処理したフィル
ムの誘電特性を、次に示す。
この様に本発明の範囲内のものは容易に延伸でき延伸物
も低い誘電正接をもっていることがわかる。
比較例2 実施例3と同組成の三元共重合体を1.1.2−トリク
ロロ−1,2,2−トリフロロエタンのパーハロゲン化
溶媒中での懸濁重合により得た。
充分に洗浄、乾燥し、実施例3と同様にシート化した後
、測定した誘電特性を次に示す。
この様に得られたプレスシートは脆く、物性が劣るのみ
でなく誘電損失の1大きいものであった。
比較例3 実施例1に準じた方法でフッ化ビニリデン/エチレン/
四フッ化エチレンのモル%比が25/40/35でフッ
素含J158.0モル%、エチレン/フッ化ビニリデン
のモル比1.6の三元共重合体を得た。この共重合体の
物性を、次に示す、誘電特性はプレスシート(約160
#L)を用いて測定したものである。
この様に、フッ化ビニリデン含量が多くエチレン/フッ
化ツビニリデンモル比の小さいものは、誘電率は多少大
きいものの誘電正接が大きくなる事がわかる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は実施例2の三元共重合体シートについ
て30Hzで温度を変えて得た誘電率、誘電正接のそれ
ぞれの測定値を温度に対してプロットしたグラフである
。 ・r′−続補正書 昭和58年乙月9θ日 4N51庁長官 若杉和夫 殿 1、事ヂ1の表示 昭和58年特許ll′i第98778号2、発明の名称 高分子誘電体 3、補正をする渚 事件との関係  特許出願人 (110)呉羽化学工業株式会社 4、代理人 住所〒105 東京都港区東新橋2−7−7 新橋国際ビル6階 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 、乙\\・ ・、1−1・ ・・(゛ 6 補正の内容 本願明細書の下記の筒所の記載を、それぞれ以下の通り
に補正する。 頁    行      ゛  正  1−−    
   ’    −’116 高分子誘電体は、・ 高
分子誘電体は、薄〜19番・mmいられはじ 脱化が容
易であるためている。     め、主として小型コン
デンサー用材料等 として広く用いられ ている。 21B  低吸湿性、高耐熱性 低吸湿性の点〜17 
 などの点 2 19 1.0%      1.0%以上4 7 
フッ化ビニリデン  エチレン5 8 木質的に高誘電
率  高誘電率5 8 を得ることができな は未だ得
られていない。         い。 5 1B   誘電率・◆・なり得 低誘電正、接では
ある〜20  ない。       ものの、誘電率が
小さい。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. フッ化ビニリデン3モル%以上20モル%未満、エチレ
    ン35〜55モル%、四フフ化エチレン30〜60モル
    %で、且つエチレン/フッ化ビ゛ニリデンのモル比が2
    .2〜18.3である組成を有する共重合体であり、2
    0″ch1キロヘルツにおける誘電率が3.0以上、誘
    電正接が(14%以下であることを特徴とする高分子誘
    電体。
JP9877883A 1983-06-04 1983-06-04 高分子誘電体 Pending JPS59226410A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0388811A (ja) * 1989-08-03 1991-04-15 Soc Atochem フッ化ビニリデンとエチレンとのコポリマー、該コポリマーの製造方法及び該コポリマーの接着剤としての適用
EP2620963A4 (en) * 2010-09-22 2015-04-01 Daikin Ind Ltd FILM FOR USE IN FILM CAPACITORS AND FILM CAPACITORS

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