JPS59222596A - Ag被覆Cu系材料とその製造方法 - Google Patents
Ag被覆Cu系材料とその製造方法Info
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- JPS59222596A JPS59222596A JP9849383A JP9849383A JPS59222596A JP S59222596 A JPS59222596 A JP S59222596A JP 9849383 A JP9849383 A JP 9849383A JP 9849383 A JP9849383 A JP 9849383A JP S59222596 A JPS59222596 A JP S59222596A
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- Japan
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- alloy
- coated
- bath
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はへ〇被覆Cu系(A料とその製造方法に関する
もので、特に耐熱性を改善し、A(+被覆層の厚さを薄
くしても高度の特性を維持できるようにしたものである
。
もので、特に耐熱性を改善し、A(+被覆層の厚さを薄
くしても高度の特性を維持できるようにしたものである
。
八g又はへ〇合金、例えばA<1−8b 、Ag−CI
J 、Ag −Pd 、A(1−AU等の合金(以下こ
れ等を単に八〇と略記)は耐食性の1ぐれた良導体であ
り、これを卑金属からなる基材−ヒに被覆したものは、
電子、電気(幾器やその部品の電気接続材に用いられて
いる。基材には通常C1l 、 CLI合金又はE:e
合金の帯条材が用いられ、これに八〇を被覆した素材を
プレス成型して電気接続部材とづるか、又は前記帯条材
の一部又は全部をプレス成型した後AIJを被覆して電
気接続部材としている。Δり被覆はΔりがW% fll
ll %ため、必要部分にの1ノ限定し、例えばス1−
ライフ゛状又はスボッ1〜状にi、′l買1Jる場合か
多く、C,tt等△q被會電気接続部(Aは]ネクター
、リレー、スイッチ等の接点又はIC1l−81等のり
−1へフレームに用いられている。
J 、Ag −Pd 、A(1−AU等の合金(以下こ
れ等を単に八〇と略記)は耐食性の1ぐれた良導体であ
り、これを卑金属からなる基材−ヒに被覆したものは、
電子、電気(幾器やその部品の電気接続材に用いられて
いる。基材には通常C1l 、 CLI合金又はE:e
合金の帯条材が用いられ、これに八〇を被覆した素材を
プレス成型して電気接続部材とづるか、又は前記帯条材
の一部又は全部をプレス成型した後AIJを被覆して電
気接続部材としている。Δり被覆はΔりがW% fll
ll %ため、必要部分にの1ノ限定し、例えばス1−
ライフ゛状又はスボッ1〜状にi、′l買1Jる場合か
多く、C,tt等△q被會電気接続部(Aは]ネクター
、リレー、スイッチ等の接点又はIC1l−81等のり
−1へフレームに用いられている。
Δ(1被覆電気接続部材はAイj固イ1の物In1的、
化学的特性、具体的には接触抵抗が小さい電気的接続性
と′、l’ )II (=J lJ性及びホンティング
性に漫れた機械的接続性を利用したもので、これ等の特
性は高温に耐えねばならないケースが多い。例えばA(
J被覆電気接続部(オの製造工程で:半田付IJ 、溶
接、t−ル1−1樹脂キュアー等が住なわれるばかりか
、+71?器や部品への実装過程におい、−(ちシリン
ド基板などに半If((J lブされ、更には接、絞部
材の品質、信頼性の試験A5高温条件が義務1=JCJ
られるケースも1. 少なくない。しかるにΔ
!l被覆電気接続部(Δは高湿条件において重大な欠陥
をまねくことが報告されている。これを改善づ−るため
、従来は基材とAaFI間にNi中17!i層を形成し
たものが用いられている。Niは銅食牲rA(]層のピ
ンホールを介 。
化学的特性、具体的には接触抵抗が小さい電気的接続性
と′、l’ )II (=J lJ性及びホンティング
性に漫れた機械的接続性を利用したもので、これ等の特
性は高温に耐えねばならないケースが多い。例えばA(
J被覆電気接続部(オの製造工程で:半田付IJ 、溶
接、t−ル1−1樹脂キュアー等が住なわれるばかりか
、+71?器や部品への実装過程におい、−(ちシリン
ド基板などに半If((J lブされ、更には接、絞部
材の品質、信頼性の試験A5高温条件が義務1=JCJ
られるケースも1. 少なくない。しかるにΔ
!l被覆電気接続部(Δは高湿条件において重大な欠陥
をまねくことが報告されている。これを改善づ−るため
、従来は基材とAaFI間にNi中17!i層を形成し
たものが用いられている。Niは銅食牲rA(]層のピ
ンホールを介 。
しての腐食を防ILすると共に卑金属層である基材と八
〇の拡散反応によるA !+の消耗や、卑金属のAg表
面への浸出を防止するとされている。しかしながらNi
中間層を形成したAg被覆電気接続部材が高温条件にお
いて、しばしば欠陥存生ずることが知らている。
〇の拡散反応によるA !+の消耗や、卑金属のAg表
面への浸出を防止するとされている。しかしながらNi
中間層を形成したAg被覆電気接続部材が高温条件にお
いて、しばしば欠陥存生ずることが知らている。
本発明者等はSれに鑑み、欠陥発生条件とその原因を詳
細に究明した結果、AIJ被覆電気接続部材のAg層か
半[11例【)、機械的外力、変形等により剥離したり
、電気接触抵抗が異常に上昇するなど、欠陥の多くがA
QIM下の基材表面、例えばCu、Fe等の表面が高温
においてAolmを透過する外気中のOzにより酸化す
るためであることを知見した。即ち80℃以上の温度で
Agの酸化物は分解するため、この温度以上ではA(+
酸化物が 、安定に存在し得り゛、A(1層内をOzが
自由に透過することになり、ACI層下の基材である卑
金属表面を酸化する。これを防止するため基材とAu層
間にNi中間層を形成してもN1表面が酸化し、Aり層
どのl6性を低小して、へ〇府の剥離、電気接触抵抗の
1胃、半Lll (;Iり性の低下等の欠陥を起り。
細に究明した結果、AIJ被覆電気接続部材のAg層か
半[11例【)、機械的外力、変形等により剥離したり
、電気接触抵抗が異常に上昇するなど、欠陥の多くがA
QIM下の基材表面、例えばCu、Fe等の表面が高温
においてAolmを透過する外気中のOzにより酸化す
るためであることを知見した。即ち80℃以上の温度で
Agの酸化物は分解するため、この温度以上ではA(+
酸化物が 、安定に存在し得り゛、A(1層内をOzが
自由に透過することになり、ACI層下の基材である卑
金属表面を酸化する。これを防止するため基材とAu層
間にNi中間層を形成してもN1表面が酸化し、Aり層
どのl6性を低小して、へ〇府の剥離、電気接触抵抗の
1胃、半Lll (;Iり性の低下等の欠陥を起り。
本発明は」−記知見に基づき、更に実験伺究の結果、A
g被覆電気接続部材として品質、特性、特に耐熱+![
を改善し、Ag被覆層の厚さを薄くしでも高庶の特性を
維持づることがCきる省資源、かつ経済的なA(1被罠
CIJ系材料とそのシlj告方法を開発したしのである
。
g被覆電気接続部材として品質、特性、特に耐熱+![
を改善し、Ag被覆層の厚さを薄くしでも高庶の特性を
維持づることがCきる省資源、かつ経済的なA(1被罠
CIJ系材料とそのシlj告方法を開発したしのである
。
即ち本発明+411は、八〇又はΔ(1合金を被覆した
CLI系材料においU、C’u系材料1−にCr又は0
1゛含金からなる第1中間層と、その十に3 n、Cr
l 、 Zn 、 In 、 Cu 、 P(+ 、
Ru、5?はその合金からなる第2中間層を形成し、
イの1−にA +1又(,1へ〇合金を被覆したことを
特徴とづるbのて゛ある。
CLI系材料においU、C’u系材料1−にCr又は0
1゛含金からなる第1中間層と、その十に3 n、Cr
l 、 Zn 、 In 、 Cu 、 P(+ 、
Ru、5?はその合金からなる第2中間層を形成し、
イの1−にA +1又(,1へ〇合金を被覆したことを
特徴とづるbのて゛ある。
71に本発明Yi 込/J法は、Cti系シイ41II
にCr又はCr合金を電気メツ−Vして第′1中闇層を
形成し、その上に3++、(’;tl、7++、l++
、(El、Pct。
にCr又はCr合金を電気メツ−Vして第′1中闇層を
形成し、その上に3++、(’;tl、7++、l++
、(El、Pct。
1又(1又はでの合金の少なくとも1種を電気メッキし
く第2中間層を形成し、そのトに八9又はΔす合金を電
気メッキすることを特徴とするものである。
く第2中間層を形成し、そのトに八9又はΔす合金を電
気メッキすることを特徴とするものである。
本発明においてCO系材料上にCr又tまc r合金、
例えばCI’ −Fe 、 Cr −Fe −Mo 、
Cr−Mo 、’ Or −N i 、Cr−’VV
、 Cr −1i等の合金からなる第1中間層を形成す
る。このようなり11中間層は、高融点であり、CU系
材料、第2中間層及びA(1層との相容性が乏しいので
、何れとも拡故反応し難く、Cu系材料への有害な作用
を遮断するものである。Qr又はCr合金は400゛C
の高温c Cu中に0.03wt%以下しか固溶せず、
CuはCr中により微堡しか溶けない。しかして第1中
間層の)1?さは実用上0605〜1μの範囲とするこ
とが望ましく、0.05μ未満では上記バリヤーの目的
を達成するのに不十分であり、1μを越えるとバ1月7
−効果は実用上゛飽和し、不経溜なばかりか、Cr又は
Cr合金のJ、うな硬質材をjワく被覆することは加二
[性を阻害する。
例えばCI’ −Fe 、 Cr −Fe −Mo 、
Cr−Mo 、’ Or −N i 、Cr−’VV
、 Cr −1i等の合金からなる第1中間層を形成す
る。このようなり11中間層は、高融点であり、CU系
材料、第2中間層及びA(1層との相容性が乏しいので
、何れとも拡故反応し難く、Cu系材料への有害な作用
を遮断するものである。Qr又はCr合金は400゛C
の高温c Cu中に0.03wt%以下しか固溶せず、
CuはCr中により微堡しか溶けない。しかして第1中
間層の)1?さは実用上0605〜1μの範囲とするこ
とが望ましく、0.05μ未満では上記バリヤーの目的
を達成するのに不十分であり、1μを越えるとバ1月7
−効果は実用上゛飽和し、不経溜なばかりか、Cr又は
Cr合金のJ、うな硬質材をjワく被覆することは加二
[性を阻害する。
次に第1中間層上に、Sn 、Cd 、”’Zn 、l
11、Gn 、l−)ぎ1.1くu ノ(,1、−ど
の0肴ン、1列えは511−7++ 、S++ −
Cu 、III −CIJ 、7+1−Ctl
、/n −Ni 、 So −Ni 、
S++ −に(1、III −Cu 、 l1
1−3++ 、 Zn −8n −Cd 、S
++ −1″b 、 ptl −Ni 、P
d −Co 、 pal −Ni −Go
、p(1−ALJ 、RLI −N i等の合1ンから
なる第2中間層形成りる。第2中間11・41.1.
A 1と第1中間層どの結合を強化し、Ag被苗CLI
系祠オ゛1の高調耐久1りを向上uしめるもO′cある
1、シかしで第2中間層の厚さは0 、01・−1μの
範囲とりることか望J、1]< 1.0.0+μ未満で
は実用上の効果がjil i!JCさり゛、Iμを越え
るとより人さな効果は(4スられず、小経済(−(ν)
す、場合にJ、っ−(はΔり層の表1rii I!L能
416i <>うこともある。特に第2中間層の内31
1.7n 、 Cd 、 I n 、 Cu又はその
合金はへ〇ニ易溶性で゛かつ02との親和力の茗しい元
素であり、02ゲツターとして第1中間層の表面に02
が到・τ 達して第1中間層の表面を酸化することを防止号−るし
のど考えられ、更にA41層中への適数の拡散は△り同
右の特性を改善し、表面の硬度を高め、r11?耗11
を向上し、硫化性ガスとの反応性や直流回路の短絡障害
(3i 1ver M igrajion)を低トりる
。また10(1−\:”v l’< u又はその合金は
耐酸化11の金属で高融点で八〇との拡散反応を起し難
く、A(3層を逍過りる07ハリX7−として第1中間
層を保J ”lるbのと考えられる。
11、Gn 、l−)ぎ1.1くu ノ(,1、−ど
の0肴ン、1列えは511−7++ 、S++ −
Cu 、III −CIJ 、7+1−Ctl
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S++ −に(1、III −Cu 、 l1
1−3++ 、 Zn −8n −Cd 、S
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なる第2中間層形成りる。第2中間11・41.1.
A 1と第1中間層どの結合を強化し、Ag被苗CLI
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素であり、02ゲツターとして第1中間層の表面に02
が到・τ 達して第1中間層の表面を酸化することを防止号−るし
のど考えられ、更にA41層中への適数の拡散は△り同
右の特性を改善し、表面の硬度を高め、r11?耗11
を向上し、硫化性ガスとの反応性や直流回路の短絡障害
(3i 1ver M igrajion)を低トりる
。また10(1−\:”v l’< u又はその合金は
耐酸化11の金属で高融点で八〇との拡散反応を起し難
く、A(3層を逍過りる07ハリX7−として第1中間
層を保J ”lるbのと考えられる。
本発明はOII系月Nip l−に第1中間層と第2中
間層を形成し、その−LにA(+を被覆したもので、こ
れ等の被覆は(成域的クラッド、蒸看、スパッタリンク
等によって製i3−することができる。しかしこれ等被
覆は電気メッキより形成することが最も紅汎的(゛ある
。即ち第1中間層、第2中間層及びAg層は順次7i法
にJ、り能率的に電気メッキすることができる。更に重
要なことは連続的に処理することが容易でかつ所定の厚
さ、特に第1中間層及び第2中間層の薄い均質な被覆が
ファラデイー則に準じて電気量を=1ン1〜[I−ルす
ることにより工業的に実現できることである。またCL
I系材料上に部分的、例えばス[・ライブ状又はスボッ
1〜状に被覆することも容易である。
間層を形成し、その−LにA(+を被覆したもので、こ
れ等の被覆は(成域的クラッド、蒸看、スパッタリンク
等によって製i3−することができる。しかしこれ等被
覆は電気メッキより形成することが最も紅汎的(゛ある
。即ち第1中間層、第2中間層及びAg層は順次7i法
にJ、り能率的に電気メッキすることができる。更に重
要なことは連続的に処理することが容易でかつ所定の厚
さ、特に第1中間層及び第2中間層の薄い均質な被覆が
ファラデイー則に準じて電気量を=1ン1〜[I−ルす
ることにより工業的に実現できることである。またCL
I系材料上に部分的、例えばス[・ライブ状又はスボッ
1〜状に被覆することも容易である。
1スト]!〕明を実h1’: 111 f、)い(iJ
i!明・Jる1゜)ど/+l!i Iシリ (1) ii’i仔’ −’ mmの(ユ11矛jijに八〇を
ン&)τ:lしくっjイA−トリー1・ti;jをツj
7 j;Ii シた1、り(A−1・11−1−季i、
! L+、 /\ツター加1.されたりし端81((こ
S1ブンゾイr ’l’ 1月1・14]I7、しかる
後月11.、144脂j” ’1−1ア34’L ;:
+ 1) ノ?−14く崇力λ中34i 0 ”Cの1
fnf Iα−(1j)分間加熱され、人−一中1、/
20Gの温1!■(−ε)11)間加デ:(1(\ね、
Qfii LJでの1(2丁!θj <i ’I’ I
II (Jり竹が要求され、持に八111)人にQ11
2Cノ1、晶半1(1浴(235℃) ニり 秒間i−
(ツ/L/ タ111’)) 丁Ill i:、t:れ
而fi1/JN 90%LスJ−とさ壮−cいる。
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Cu線を常法により電Fl’l’ IIJJ脂しCから
酸洗し、トム[1浴を用いC舶次第1中間層、ui2中
間層及びΔす4.メッキしC第1表にポリ−タイA−−
1−リード線を製jへした。
酸洗し、トム[1浴を用いC舶次第1中間層、ui2中
間層及びΔす4.メッキしC第1表にポリ−タイA−−
1−リード線を製jへした。
これ堝′ターrΔ−トリード線について、水素カス中3
50−(’、のi品度に15分間加熱し、次に人気中2
20”Cの’L:u’+亀に8詩間加熱した後、M I
I−t−/τに;Vじ(]し品31′田浴(235℃
)に5秒間ディップしてi′−11晶;れ面積を求めI
、:。
50−(’、のi品度に15分間加熱し、次に人気中2
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)に5秒間ディップしてi′−11晶;れ面積を求めI
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ての1・八(Pを第′1表(こ示刀1゜面く
’ 、/ycJ(、、’d。。8.。ヨエ、ツエ、ヨ<
1)Orメッキ浴 C1・03250g/、12 Hz S 04 2.5g/ 、
e浴 温
45℃電流密度 20A /
6m2(2)Cr−15%Feメッキ浴 Cr z (804) 3440g/J!Fe (
N+−14) z 80461−+20100o/J!
N11sO4・ 7l−1z0 20g
/ぶ(N ト14 ) z S 04
100(+/ 、
(!水ガラス 1(+/ 1グ
リセリン 5g/(1) +1
1・0 浴 温
50℃電流密度 20Δ/(11
++2(3)Sメッキ浴 31130+ 100u/ IH
z 80令 50M fニカワ
5g/(β−ナフI〜−ル
5g/(浴 温
15eC電流密磨
1.5 A 、、’ (+1112(4)S
++−9%CIJ メ ・ン X 名1C’ CN
1 !i !l 、、’ 、QN
a z 811 03
100す7.′λN a CN
20u、’ nN a ON
iO!1.、=’ 12)谷 ;に晶
05G114
i、 S州2”△″dm2 (5)C1lメツ1−)谷 C’I ((’、 N ) z 3!
ij1.、、、’ 12N a CN
100t+、−’ pN a Ol−I
4(IHl、” +2浴 濡
30へC電流密度
2,5△、’ tI n+ 2
<6>7++メツキ浴 ハ(ON ) z 60g、/ jlN a
CN 50g/ iN a
OH60L’ Jl!浴 温
35℃電流密度
5 A / d m 2(7)Cu、−30
%Z11浴 Ct、+CN
30す/ (Zll (CN ) 2
9L’J!NaC1156Mf Na z CO330<+/Jl! 浴 )II晶
45′CN ?++j ’6Fi li
0 、5 A 、/ d l
112(8)(/II 叉ツ髪浴 CIJCN 2°(1/′ぶ
N a G N
30す、・ (Na 2 CO3
5Gu/’I P 14 1.5浴
温 20′C電
流密度 1.OA、、’dm2(
9)Il+メッキ浴 11+ (SO3N1−12 >3 100Q−7n/f Na 303 N N2 150g/
INac支 40(1/ Rノ
゛1ストリン 5す・″(トす1
り、/−ルアミン 1(I′ぶン谷
)八、i 2
0 ℃電流密度 !i A 、、
’ d m 2(IQ)ptlメツ1浴 P(1(P塩として)10す、・( N +−+4 S Oz N Hz
100す/′2QP I−1
1,5 ;谷 )掃
30°に電流密度
0.5 A y’ tJm2(11)Rリッツ
1浴 山中Cj金屈(株)製 ルーネックス 浴 渇
65℃電流密度 0.5Δ/’d
+n2(12) P(+−20%N+メッキ浴1」進化
成()j)、) jllll ・r r)Nr〕−3゜ 1) 1.1 8.
9浴 1品
3()℃電流密度 1△、’
d to 2(13)A++ス1〜ライクメッギ浴 A!JCN 3g、、’l!
K CN 30(+/ 、
e浴 温
20℃電流密度 5A、/d
m2(14)へりメッキ浴 A(ICN 30g/、eK
CN 45す、/λK
z C0310(1/ ぶ 浴 温
20°C電流密度 1.5A/d
m2(1!i)Aリ−1,2%31)メッキ浴A!IC
N 12M、eKCN
251J、/アS、II(酒石
酸カリアンモン> 4(1−8b、/J2浴
)晶 20℃
電流密度 0.5 A / (1
m2第1表から明らかなように従来被口線で90%以上
の半a1濡れ面積を得るためには、A(Iを17さ4.
51i以1−IIる必9〉があるのにス・1し、本発明
△り被覆材オ′31で【、↓厚ざ1.5μの△リメツキ
(909+’+以、1の一゛I′1月濡れ111が1i
iられることが判る、。
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N+−14) z 80461−+20100o/J!
N11sO4・ 7l−1z0 20g
/ぶ(N ト14 ) z S 04
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リセリン 5g/(1) +1
1・0 浴 温
50℃電流密度 20Δ/(11
++2(3)Sメッキ浴 31130+ 100u/ IH
z 80令 50M fニカワ
5g/(β−ナフI〜−ル
5g/(浴 温
15eC電流密磨
1.5 A 、、’ (+1112(4)S
++−9%CIJ メ ・ン X 名1C’ CN
1 !i !l 、、’ 、QN
a z 811 03
100す7.′λN a CN
20u、’ nN a ON
iO!1.、=’ 12)谷 ;に晶
05G114
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100t+、−’ pN a Ol−I
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35℃電流密度
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%Z11浴 Ct、+CN
30す/ (Zll (CN ) 2
9L’J!NaC1156Mf Na z CO330<+/Jl! 浴 )II晶
45′CN ?++j ’6Fi li
0 、5 A 、/ d l
112(8)(/II 叉ツ髪浴 CIJCN 2°(1/′ぶ
N a G N
30す、・ (Na 2 CO3
5Gu/’I P 14 1.5浴
温 20′C電
流密度 1.OA、、’dm2(
9)Il+メッキ浴 11+ (SO3N1−12 >3 100Q−7n/f Na 303 N N2 150g/
INac支 40(1/ Rノ
゛1ストリン 5す・″(トす1
り、/−ルアミン 1(I′ぶン谷
)八、i 2
0 ℃電流密度 !i A 、、
’ d m 2(IQ)ptlメツ1浴 P(1(P塩として)10す、・( N +−+4 S Oz N Hz
100す/′2QP I−1
1,5 ;谷 )掃
30°に電流密度
0.5 A y’ tJm2(11)Rリッツ
1浴 山中Cj金屈(株)製 ルーネックス 浴 渇
65℃電流密度 0.5Δ/’d
+n2(12) P(+−20%N+メッキ浴1」進化
成()j)、) jllll ・r r)Nr〕−3゜ 1) 1.1 8.
9浴 1品
3()℃電流密度 1△、’
d to 2(13)A++ス1〜ライクメッギ浴 A!JCN 3g、、’l!
K CN 30(+/ 、
e浴 温
20℃電流密度 5A、/d
m2(14)へりメッキ浴 A(ICN 30g/、eK
CN 45す、/λK
z C0310(1/ ぶ 浴 温
20°C電流密度 1.5A/d
m2(1!i)Aリ−1,2%31)メッキ浴A!IC
N 12M、eKCN
251J、/アS、II(酒石
酸カリアンモン> 4(1−8b、/J2浴
)晶 20℃
電流密度 0.5 A / (1
m2第1表から明らかなように従来被口線で90%以上
の半a1濡れ面積を得るためには、A(Iを17さ4.
51i以1−IIる必9〉があるのにス・1し、本発明
△り被覆材オ′31で【、↓厚ざ1.5μの△リメツキ
(909+’+以、1の一゛I′1月濡れ111が1i
iられることが判る、。
実/li!!l!II (2>
1−楡さ 0.3!)mm 、 IIJ 3.2
mm の CIJ Δ (C++ −2,4%[e
−0,F%P合金)条にA!Iメツ4:を行なつ(r
39 s本す−ドフレームを寧130しlご。リードフ
レームは中央のタブ部にSiの集積回路素子を半81
(=j(]し、素7十の電(−を)しノームのインナー
リート部に線(¥30μのA 1.1線C溶1gされる
。、”1′−1月(」(プは人気中400℃の温1f[
で5分間加熱され、溶接は人気中200℃の温度(゛1
5分間加熱される。
mm の CIJ Δ (C++ −2,4%[e
−0,F%P合金)条にA!Iメツ4:を行なつ(r
39 s本す−ドフレームを寧130しlご。リードフ
レームは中央のタブ部にSiの集積回路素子を半81
(=j(]し、素7十の電(−を)しノームのインナー
リート部に線(¥30μのA 1.1線C溶1gされる
。、”1′−1月(」(プは人気中400℃の温1f[
で5分間加熱され、溶接は人気中200℃の温度(゛1
5分間加熱される。
CI)Δ条を実施例(1)と)1)j様にして″7:旨
大tこより電解119脂してから酸洗し、実施例(1)
にJj4プる(Crメツ1浴、SI+メッキ浴、ptl
メツS−浴、Aリス1ヘライクメッキ浴及びへ〇メツ4
浴を用い℃各メツ1を?jない、第2表に示すリードフ
レ−11を製j^し、それぞれF配の試験を11なった
。くの結■2を(132表に承り、。
大tこより電解119脂してから酸洗し、実施例(1)
にJj4プる(Crメツ1浴、SI+メッキ浴、ptl
メツS−浴、Aリス1ヘライクメッキ浴及びへ〇メツ4
浴を用い℃各メツ1を?jない、第2表に示すリードフ
レ−11を製j^し、それぞれF配の試験を11なった
。くの結■2を(132表に承り、。
試験(1)
人気中400℃の)晶曵で5分間加熱した1す、95?
6pl+ −5%3 nの350℃の浴に3秒間デイツ
ゾし、&晶j11而h゛1を求めた。
6pl+ −5%3 nの350℃の浴に3秒間デイツ
ゾし、&晶j11而h゛1を求めた。
試験(2)
人気中400 ”Cの温以’f= 5分1111加熱し
、続いC200℃の温度で゛15分間加熱後、直径30
μのAU線をボンディング加重45!Jで超音波溶jシ
シ、2()水の平均引張強さを測定した。
、続いC200℃の温度で゛15分間加熱後、直径30
μのAU線をボンディング加重45!Jで超音波溶jシ
シ、2()水の平均引張強さを測定した。
試験(3)
リードフレームJ、す2本のリード部を切り出し試験(
2)ど間係の加熱処理を行なった後、2m〃1間隔C定
1!■濾紙上に固定し、温度6()℃、t’+i!麿9
5%て20Vの!t’l fR電j1を印加して24時
間nn買置た後極間抵抗を測定した1゜ V ・2 Zl、l:起言8冒刈 Mi2表から明らかなように従来被覆材°Cは優れた接
合性を得るためには少なくともAuを7μ以上の)9さ
に被覆りる必要があり、それでも尚両流回路の短絡障害
を起づことが判る、これに対し本発明前〒51月はAg
の被覆厚さが3.5μで接合性が1公れ、直流回路の短
絡障害の危険度も軽減リ−ることか(きる。
2)ど間係の加熱処理を行なった後、2m〃1間隔C定
1!■濾紙上に固定し、温度6()℃、t’+i!麿9
5%て20Vの!t’l fR電j1を印加して24時
間nn買置た後極間抵抗を測定した1゜ V ・2 Zl、l:起言8冒刈 Mi2表から明らかなように従来被覆材°Cは優れた接
合性を得るためには少なくともAuを7μ以上の)9さ
に被覆りる必要があり、それでも尚両流回路の短絡障害
を起づことが判る、これに対し本発明前〒51月はAg
の被覆厚さが3.5μで接合性が1公れ、直流回路の短
絡障害の危険度も軽減リ−ることか(きる。
このJ、うに4(発明によれは、電子、゛市気択器及O
その部品等に1史用されるAg被覆CIJ系祠料の品7
:(、M fi旨4改苫し、11にΔ!I被罠層の厚さ
を薄<1.て商葭の特性を維持り−ることができるもの
(、]1業士¥118な効果をう)りるものである。
その部品等に1史用されるAg被覆CIJ系祠料の品7
:(、M fi旨4改苫し、11にΔ!I被罠層の厚さ
を薄<1.て商葭の特性を維持り−ることができるもの
(、]1業士¥118な効果をう)りるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 <1)A!J又はΔg合金を被覆したCu系材料におい
て、Cu系材オ′1上にCr又(ユCr合金からなる第
1中間層と、その上に3++ 、 cd 、2口、In
、Cu、Pd、RU又はその合金からなる第2中間層を
形成し、そのL【こΔり又はへ〇合今を被覆したことを
特徴とづるA(〕被覆Qu系(11M 。 (2) it 1中間層を(1,05・へ1μのj・i
さに形成づる特許請求の範囲第1頂記載のΔ(1被覆C
U系(2石。 (3)第2中間層を0.01・〜・1μのj♀8に形成
りる特許請求の範囲第1項又は第2 sI′7記載のA
!J汲覆Cu系材料。 (4>CLI系材オ′31十にOr又はcr金合金電気
メッキして第1中間層を形成し、その上に3 +1、c
d 、’Zll 、ln 、Cu 、Pd 、RU又は
その合金の少なくとも1種を電気メッキして第2中間層
を形成し、その上にAg又はAU合金を電気メッキする
ことを特徴とJるAg被覆Cu系材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9849383A JPS59222596A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | Ag被覆Cu系材料とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9849383A JPS59222596A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | Ag被覆Cu系材料とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59222596A true JPS59222596A (ja) | 1984-12-14 |
JPS6153434B2 JPS6153434B2 (ja) | 1986-11-18 |
Family
ID=14221169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9849383A Granted JPS59222596A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | Ag被覆Cu系材料とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59222596A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0242753A (ja) * | 1988-03-28 | 1990-02-13 | Texas Instr Inc <Ti> | 耐食性リードフレーム |
JPH04115558A (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-16 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置用リードフレーム |
-
1983
- 1983-06-02 JP JP9849383A patent/JPS59222596A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0242753A (ja) * | 1988-03-28 | 1990-02-13 | Texas Instr Inc <Ti> | 耐食性リードフレーム |
JPH04115558A (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-16 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置用リードフレーム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6153434B2 (ja) | 1986-11-18 |
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