JPS59222596A - Ag被覆Cu系材料とその製造方法 - Google Patents

Ag被覆Cu系材料とその製造方法

Info

Publication number
JPS59222596A
JPS59222596A JP9849383A JP9849383A JPS59222596A JP S59222596 A JPS59222596 A JP S59222596A JP 9849383 A JP9849383 A JP 9849383A JP 9849383 A JP9849383 A JP 9849383A JP S59222596 A JPS59222596 A JP S59222596A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
intermediate layer
alloy
coated
bath
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9849383A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6153434B2 (ja
Inventor
Shoji Shiga
志賀 章二
Noriyoshi Kiso
木曽 徳義
Satoshi Suzuki
智 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP9849383A priority Critical patent/JPS59222596A/ja
Publication of JPS59222596A publication Critical patent/JPS59222596A/ja
Publication of JPS6153434B2 publication Critical patent/JPS6153434B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はへ〇被覆Cu系(A料とその製造方法に関する
もので、特に耐熱性を改善し、A(+被覆層の厚さを薄
くしても高度の特性を維持できるようにしたものである
八g又はへ〇合金、例えばA<1−8b 、Ag−CI
J 、Ag −Pd 、A(1−AU等の合金(以下こ
れ等を単に八〇と略記)は耐食性の1ぐれた良導体であ
り、これを卑金属からなる基材−ヒに被覆したものは、
電子、電気(幾器やその部品の電気接続材に用いられて
いる。基材には通常C1l 、 CLI合金又はE:e
合金の帯条材が用いられ、これに八〇を被覆した素材を
プレス成型して電気接続部材とづるか、又は前記帯条材
の一部又は全部をプレス成型した後AIJを被覆して電
気接続部材としている。Δり被覆はΔりがW% fll
ll %ため、必要部分にの1ノ限定し、例えばス1−
ライフ゛状又はスボッ1〜状にi、′l買1Jる場合か
多く、C,tt等△q被會電気接続部(Aは]ネクター
、リレー、スイッチ等の接点又はIC1l−81等のり
−1へフレームに用いられている。
Δ(1被覆電気接続部材はAイj固イ1の物In1的、
化学的特性、具体的には接触抵抗が小さい電気的接続性
と′、l’ )II (=J lJ性及びホンティング
性に漫れた機械的接続性を利用したもので、これ等の特
性は高温に耐えねばならないケースが多い。例えばA(
J被覆電気接続部(オの製造工程で:半田付IJ 、溶
接、t−ル1−1樹脂キュアー等が住なわれるばかりか
、+71?器や部品への実装過程におい、−(ちシリン
ド基板などに半If((J lブされ、更には接、絞部
材の品質、信頼性の試験A5高温条件が義務1=JCJ
られるケースも1.     少なくない。しかるにΔ
!l被覆電気接続部(Δは高湿条件において重大な欠陥
をまねくことが報告されている。これを改善づ−るため
、従来は基材とAaFI間にNi中17!i層を形成し
たものが用いられている。Niは銅食牲rA(]層のピ
ンホールを介 。
しての腐食を防ILすると共に卑金属層である基材と八
〇の拡散反応によるA !+の消耗や、卑金属のAg表
面への浸出を防止するとされている。しかしながらNi
中間層を形成したAg被覆電気接続部材が高温条件にお
いて、しばしば欠陥存生ずることが知らている。
本発明者等はSれに鑑み、欠陥発生条件とその原因を詳
細に究明した結果、AIJ被覆電気接続部材のAg層か
半[11例【)、機械的外力、変形等により剥離したり
、電気接触抵抗が異常に上昇するなど、欠陥の多くがA
QIM下の基材表面、例えばCu、Fe等の表面が高温
においてAolmを透過する外気中のOzにより酸化す
るためであることを知見した。即ち80℃以上の温度で
Agの酸化物は分解するため、この温度以上ではA(+
酸化物が 、安定に存在し得り゛、A(1層内をOzが
自由に透過することになり、ACI層下の基材である卑
金属表面を酸化する。これを防止するため基材とAu層
間にNi中間層を形成してもN1表面が酸化し、Aり層
どのl6性を低小して、へ〇府の剥離、電気接触抵抗の
1胃、半Lll (;Iり性の低下等の欠陥を起り。
本発明は」−記知見に基づき、更に実験伺究の結果、A
g被覆電気接続部材として品質、特性、特に耐熱+![
を改善し、Ag被覆層の厚さを薄くしでも高庶の特性を
維持づることがCきる省資源、かつ経済的なA(1被罠
CIJ系材料とそのシlj告方法を開発したしのである
即ち本発明+411は、八〇又はΔ(1合金を被覆した
CLI系材料においU、C’u系材料1−にCr又は0
1゛含金からなる第1中間層と、その十に3 n、Cr
l 、 Zn 、  In 、 Cu 、 P(+ 、
 Ru、5?はその合金からなる第2中間層を形成し、
イの1−にA +1又(,1へ〇合金を被覆したことを
特徴とづるbのて゛ある。
71に本発明Yi 込/J法は、Cti系シイ41II
にCr又はCr合金を電気メツ−Vして第′1中闇層を
形成し、その上に3++、(’;tl、7++、l++
、(El、Pct。
1又(1又はでの合金の少なくとも1種を電気メッキし
く第2中間層を形成し、そのトに八9又はΔす合金を電
気メッキすることを特徴とするものである。
本発明においてCO系材料上にCr又tまc r合金、
例えばCI’ −Fe 、 Cr −Fe −Mo 、
 Cr−Mo 、’ Or −N i 、Cr−’VV
、 Cr −1i等の合金からなる第1中間層を形成す
る。このようなり11中間層は、高融点であり、CU系
材料、第2中間層及びA(1層との相容性が乏しいので
、何れとも拡故反応し難く、Cu系材料への有害な作用
を遮断するものである。Qr又はCr合金は400゛C
の高温c Cu中に0.03wt%以下しか固溶せず、
CuはCr中により微堡しか溶けない。しかして第1中
間層の)1?さは実用上0605〜1μの範囲とするこ
とが望ましく、0.05μ未満では上記バリヤーの目的
を達成するのに不十分であり、1μを越えるとバ1月7
−効果は実用上゛飽和し、不経溜なばかりか、Cr又は
Cr合金のJ、うな硬質材をjワく被覆することは加二
[性を阻害する。
次に第1中間層上に、Sn 、Cd 、”’Zn 、l
 11、Gn 、l−)ぎ1.1くu ノ(,1、−ど
の0肴ン、1列えは511−7++  、S++  −
Cu  、III  −CIJ  、7+1−Ctl 
 、/n  −Ni  、  So  −Ni  、 
 S++  −に(1、III  −Cu  、 l1
1−3++  、 Zn  −8n  −Cd  、S
++  −1″b  、  ptl  −Ni  、P
d  −Co  、  pal  −Ni  −Go 
、p(1−ALJ 、RLI −N i等の合1ンから
なる第2中間層形成りる。第2中間11・41.1. 
A 1と第1中間層どの結合を強化し、Ag被苗CLI
系祠オ゛1の高調耐久1りを向上uしめるもO′cある
1、シかしで第2中間層の厚さは0 、01・−1μの
範囲とりることか望J、1]< 1.0.0+μ未満で
は実用上の効果がjil i!JCさり゛、Iμを越え
るとより人さな効果は(4スられず、小経済(−(ν)
す、場合にJ、っ−(はΔり層の表1rii I!L能
416i <>うこともある。特に第2中間層の内31
1.7n 、 Cd 、  I n 、 Cu又はその
合金はへ〇ニ易溶性で゛かつ02との親和力の茗しい元
素であり、02ゲツターとして第1中間層の表面に02
が到・τ 達して第1中間層の表面を酸化することを防止号−るし
のど考えられ、更にA41層中への適数の拡散は△り同
右の特性を改善し、表面の硬度を高め、r11?耗11
を向上し、硫化性ガスとの反応性や直流回路の短絡障害
(3i 1ver M igrajion)を低トりる
。また10(1−\:”v l’< u又はその合金は
耐酸化11の金属で高融点で八〇との拡散反応を起し難
く、A(3層を逍過りる07ハリX7−として第1中間
層を保J ”lるbのと考えられる。
本発明はOII系月Nip l−に第1中間層と第2中
間層を形成し、その−LにA(+を被覆したもので、こ
れ等の被覆は(成域的クラッド、蒸看、スパッタリンク
等によって製i3−することができる。しかしこれ等被
覆は電気メッキより形成することが最も紅汎的(゛ある
。即ち第1中間層、第2中間層及びAg層は順次7i法
にJ、り能率的に電気メッキすることができる。更に重
要なことは連続的に処理することが容易でかつ所定の厚
さ、特に第1中間層及び第2中間層の薄い均質な被覆が
ファラデイー則に準じて電気量を=1ン1〜[I−ルす
ることにより工業的に実現できることである。またCL
I系材料上に部分的、例えばス[・ライブ状又はスボッ
1〜状に被覆することも容易である。
1スト]!〕明を実h1’: 111 f、)い(iJ
i!明・Jる1゜)ど/+l!i Iシリ (1) ii’i仔’ −’ mmの(ユ11矛jijに八〇を
ン&)τ:lしくっjイA−トリー1・ti;jをツj
7 j;Ii シた1、り(A−1・11−1−季i、
! L+、 /\ツター加1.されたりし端81((こ
S1ブンゾイr ’l’ 1月1・14]I7、しかる
後月11.、144脂j” ’1−1ア34’L ;:
+ 1) ノ?−14く崇力λ中34i 0 ”Cの1
fnf Iα−(1j)分間加熱され、人−一中1、/
20Gの温1!■(−ε)11)間加デ:(1(\ね、
Qfii LJでの1(2丁!θj <i ’I’ I
II (Jり竹が要求され、持に八111)人にQ11
2Cノ1、晶半1(1浴(235℃) ニり 秒間i−
(ツ/L/ タ111’)) 丁Ill i:、t:れ
而fi1/JN 90%LスJ−とさ壮−cいる。
Cu線を常法により電Fl’l’ IIJJ脂しCから
酸洗し、トム[1浴を用いC舶次第1中間層、ui2中
間層及びΔす4.メッキしC第1表にポリ−タイA−−
1−リード線を製jへした。
これ堝′ターrΔ−トリード線について、水素カス中3
50−(’、のi品度に15分間加熱し、次に人気中2
20”Cの’L:u’+亀に8詩間加熱した後、M I
 I−t−/τに;Vじ(]し品31′田浴(235℃
)に5秒間ディップしてi′−11晶;れ面積を求めI
、:。
ての1・八(Pを第′1表(こ示刀1゜面く ’ 、/ycJ(、、’d。。8.。ヨエ、ツエ、ヨ<
1)Orメッキ浴 C1・03250g/、12 Hz S 04           2.5g/ 、
e浴    温                  
 45℃電流密度           20A / 
6m2(2)Cr−15%Feメッキ浴 Cr z  (804) 3440g/J!Fe  (
N+−14) z 80461−+20100o/J!
N11sO4・ 7l−1z0        20g
/ぶ(N ト14   )  z   S  04  
                100(+/  、
(!水ガラス            1(+/ 1グ
リセリン           5g/(1)  +1
1・0 浴    温                   
50℃電流密度           20Δ/(11
++2(3)Sメッキ浴 31130+           100u/ IH
z 80令           50M fニカワ 
            5g/(β−ナフI〜−ル 
       5g/(浴    温        
           15eC電流密磨      
     1.5 A 、、’ (+1112(4)S
++−9%CIJ  メ ・ン X 名1C’ CN 
          1 !i !l 、、’ 、QN
a  z  811 03             
     100す7.′λN a CN      
     20u、’ nN a ON       
     iO!1.、=’ 12)谷    ;に晶
                   05G114
i、 S州2”△″dm2 (5)C1lメツ1−)谷 C’I ((’、 N ) z         3!
ij1.、、、’ 12N a CN        
   100t+、−’ pN a Ol−I    
       4(IHl、” +2浴    濡  
                 30へC電流密度
           2,5△、’ tI n+ 2
<6>7++メツキ浴 ハ(ON ) z     60g、/ jlN a 
CN           50g/ iN  a  
 OH60L’  Jl!浴    温       
            35℃電流密度      
     5 A / d m 2(7)Cu、−30
%Z11浴 Ct、+CN                   
       30す/ (Zll  (CN ) 2
          9L’J!NaC1156Mf Na z CO330<+/Jl! 浴    )II晶                
       45′CN ?++j ’6Fi li
            0 、5 A 、/ d l
112(8)(/II 叉ツ髪浴 CIJCN             2°(1/′ぶ
N a  G  N                
          30す、・ (Na 2 CO3
5Gu/’I P  14              1.5浴  
 温                  20′C電
流密度           1.OA、、’dm2(
9)Il+メッキ浴 11+  (SO3N1−12 >3 100Q−7n/f Na 303 N N2        150g/ 
INac支            40(1/ Rノ
゛1ストリン           5す・″(トす1
り、/−ルアミン      1(I′ぶン谷    
)八、i                    2
0 ℃電流密度           !i A 、、
’ d m 2(IQ)ptlメツ1浴 P(1(P塩として)10す、・( N  +−+4  S  Oz  N  Hz    
           100す/′2QP  I−1
1,5 ;谷     )掃                
          30°に電流密度       
    0.5 A y’ tJm2(11)Rリッツ
1浴 山中Cj金屈(株)製 ルーネックス 浴    渇                   
65℃電流密度           0.5Δ/’d
+n2(12) P(+−20%N+メッキ浴1」進化
成()j)、) jllll ・r r)Nr〕−3゜ 1)  1.1                8.
9浴    1品                 
  3()℃電流密度           1△、’
 d to 2(13)A++ス1〜ライクメッギ浴 A!JCN             3g、、’l!
K CN              30(+/ 、
e浴    温                  
 20℃電流密度            5A、/d
m2(14)へりメッキ浴 A(ICN             30g/、eK
 CN              45す、/λK 
 z   C0310(1/ ぶ 浴    温                   
20°C電流密度           1.5A/d
m2(1!i)Aリ−1,2%31)メッキ浴A!IC
N             12M、eKCN   
           251J、/アS、II(酒石
酸カリアンモン>   4(1−8b、/J2浴   
 )晶                   20℃
電流密度           0.5 A / (1
m2第1表から明らかなように従来被口線で90%以上
の半a1濡れ面積を得るためには、A(Iを17さ4.
51i以1−IIる必9〉があるのにス・1し、本発明
△り被覆材オ′31で【、↓厚ざ1.5μの△リメツキ
(909+’+以、1の一゛I′1月濡れ111が1i
iられることが判る、。
実/li!!l!II (2> 1−楡さ 0.3!)mm  、 IIJ 3.2  
mm の CIJ  Δ (C++  −2,4%[e
−0,F%P合金)条にA!Iメツ4:を行なつ(r 
39 s本す−ドフレームを寧130しlご。リードフ
レームは中央のタブ部にSiの集積回路素子を半81 
(=j(]し、素7十の電(−を)しノームのインナー
リート部に線(¥30μのA 1.1線C溶1gされる
。、”1′−1月(」(プは人気中400℃の温1f[
で5分間加熱され、溶接は人気中200℃の温度(゛1
5分間加熱される。
CI)Δ条を実施例(1)と)1)j様にして″7:旨
大tこより電解119脂してから酸洗し、実施例(1)
にJj4プる(Crメツ1浴、SI+メッキ浴、ptl
メツS−浴、Aリス1ヘライクメッキ浴及びへ〇メツ4
浴を用い℃各メツ1を?jない、第2表に示すリードフ
レ−11を製j^し、それぞれF配の試験を11なった
。くの結■2を(132表に承り、。
試験(1) 人気中400℃の)晶曵で5分間加熱した1す、95?
6pl+ −5%3 nの350℃の浴に3秒間デイツ
ゾし、&晶j11而h゛1を求めた。
試験(2) 人気中400 ”Cの温以’f= 5分1111加熱し
、続いC200℃の温度で゛15分間加熱後、直径30
μのAU線をボンディング加重45!Jで超音波溶jシ
シ、2()水の平均引張強さを測定した。
試験(3) リードフレームJ、す2本のリード部を切り出し試験(
2)ど間係の加熱処理を行なった後、2m〃1間隔C定
1!■濾紙上に固定し、温度6()℃、t’+i!麿9
5%て20Vの!t’l fR電j1を印加して24時
間nn買置た後極間抵抗を測定した1゜ V ・2 Zl、l:起言8冒刈 Mi2表から明らかなように従来被覆材°Cは優れた接
合性を得るためには少なくともAuを7μ以上の)9さ
に被覆りる必要があり、それでも尚両流回路の短絡障害
を起づことが判る、これに対し本発明前〒51月はAg
の被覆厚さが3.5μで接合性が1公れ、直流回路の短
絡障害の危険度も軽減リ−ることか(きる。
このJ、うに4(発明によれは、電子、゛市気択器及O
その部品等に1史用されるAg被覆CIJ系祠料の品7
:(、M fi旨4改苫し、11にΔ!I被罠層の厚さ
を薄<1.て商葭の特性を維持り−ることができるもの
(、]1業士¥118な効果をう)りるものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 <1)A!J又はΔg合金を被覆したCu系材料におい
    て、Cu系材オ′1上にCr又(ユCr合金からなる第
    1中間層と、その上に3++ 、 cd 、2口、In
    、Cu、Pd、RU又はその合金からなる第2中間層を
    形成し、そのL【こΔり又はへ〇合今を被覆したことを
    特徴とづるA(〕被覆Qu系(11M 。 (2) it 1中間層を(1,05・へ1μのj・i
    さに形成づる特許請求の範囲第1頂記載のΔ(1被覆C
    U系(2石。 (3)第2中間層を0.01・〜・1μのj♀8に形成
    りる特許請求の範囲第1項又は第2 sI′7記載のA
    !J汲覆Cu系材料。 (4>CLI系材オ′31十にOr又はcr金合金電気
    メッキして第1中間層を形成し、その上に3 +1、c
    d 、’Zll 、ln 、Cu 、Pd 、RU又は
    その合金の少なくとも1種を電気メッキして第2中間層
    を形成し、その上にAg又はAU合金を電気メッキする
    ことを特徴とJるAg被覆Cu系材料の製造方法。
JP9849383A 1983-06-02 1983-06-02 Ag被覆Cu系材料とその製造方法 Granted JPS59222596A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9849383A JPS59222596A (ja) 1983-06-02 1983-06-02 Ag被覆Cu系材料とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9849383A JPS59222596A (ja) 1983-06-02 1983-06-02 Ag被覆Cu系材料とその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59222596A true JPS59222596A (ja) 1984-12-14
JPS6153434B2 JPS6153434B2 (ja) 1986-11-18

Family

ID=14221169

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9849383A Granted JPS59222596A (ja) 1983-06-02 1983-06-02 Ag被覆Cu系材料とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59222596A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0242753A (ja) * 1988-03-28 1990-02-13 Texas Instr Inc <Ti> 耐食性リードフレーム
JPH04115558A (ja) * 1990-09-05 1992-04-16 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置用リードフレーム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0242753A (ja) * 1988-03-28 1990-02-13 Texas Instr Inc <Ti> 耐食性リードフレーム
JPH04115558A (ja) * 1990-09-05 1992-04-16 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置用リードフレーム

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6153434B2 (ja) 1986-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3727069B2 (ja) 錫被覆電気コネクタ
CN101146920A (zh) 电子材料用铜合金
WO2007004645A1 (ja) 電子機器用銅合金及びその製造方法
US5322575A (en) Process for production of copper base alloys and terminals using the same
JP2007519261A (ja) 電子部品のスズ表面における半田付け性の保存及びウイスカ成長の阻止
JP4427487B2 (ja) 錫被覆電気コネクタ
JPS59222596A (ja) Ag被覆Cu系材料とその製造方法
JPH0578889A (ja) 端子用アルミニウム合金板
JP2009293091A (ja) 電気・電子部品用銅合金の製造方法
JPH07157893A (ja) 電気接点用Snめっき線とその製造方法
JPS607157A (ja) Ic用リ−ドフレ−ム
JP3247517B2 (ja) チタン材料のめっき方法
JPS59219945A (ja) Ic用リ−ドフレ−ム
JPH02190431A (ja) 接続機器用銅合金
JPS607161A (ja) ニツケル・鉄合金のic用リ−ドフレ−ムに半田性およびボンデイング性を付与する方法
JP2001032028A (ja) 電子部品用銅合金及びその製造方法
JP2000273561A (ja) 端子用銅基合金及びその製造方法
JP2000273560A (ja) ワイアーボンディング性およびダイボンディング性に優れた銅及び銅基合金とその製造方法
JP3716391B2 (ja) バンプ形成用パラジウム被覆ワイヤ
JP2009076473A (ja) 錫被覆電気コネクタ
JPS59153893A (ja) 銀被覆導体とその製造方法
JPH0368788A (ja) リードフレーム用銅条の製造方法
JPH0288797A (ja) 耐食性,半田性,めっき性にすぐれた高性能リードフレーム用表面処理鋼板
TW315530B (ja)
JPS59140338A (ja) リ−ドフレ−ム用銅合金