JPS59222223A - ロジウムオルガノゾルの製造方法 - Google Patents
ロジウムオルガノゾルの製造方法Info
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- JPS59222223A JPS59222223A JP9542583A JP9542583A JPS59222223A JP S59222223 A JPS59222223 A JP S59222223A JP 9542583 A JP9542583 A JP 9542583A JP 9542583 A JP9542583 A JP 9542583A JP S59222223 A JPS59222223 A JP S59222223A
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- Catalysts (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、界面活性剤を用いたロジウムヒドロシルから
ロジウムオルガノゾルを製造する方法に門するものであ
る。
ロジウムオルガノゾルを製造する方法に門するものであ
る。
極めて微細な貴金属粒子を液体中に均一に分散させると
強（着色した透明液体が得られ、これは貴金属ゾル（ま
たは貴金属コロイド溶液）と呼ばれる。水を分散媒とす
る貴金属ヒドロシルは、貴金属塩の水溶液に適当な保護
物質を加え、これを還元処理することにより容易に調製
できることが知られており、この方法は、低級アルコー
ルを分散媒とする貴金属アルコゾルの調製にも適用でき
る。
強（着色した透明液体が得られ、これは貴金属ゾル（ま
たは貴金属コロイド溶液）と呼ばれる。水を分散媒とす
る貴金属ヒドロシルは、貴金属塩の水溶液に適当な保護
物質を加え、これを還元処理することにより容易に調製
できることが知られており、この方法は、低級アルコー
ルを分散媒とする貴金属アルコゾルの調製にも適用でき
る。
しかし、この他の炭化水素却、エステル類といった有機
溶媒を分散１１νとする貴金属オルガノゾルについては
、これら溶媒に出発貴金属塩が溶解しないため、溶液中
での還元処理といった化学的方法が適用できず、この他
の特殊な方法が必要となる。
溶媒を分散１１νとする貴金属オルガノゾルについては
、これら溶媒に出発貴金属塩が溶解しないため、溶液中
での還元処理といった化学的方法が適用できず、この他
の特殊な方法が必要となる。
これまでに、アーク放電により蒸発させた貴金属を、有
機溶媒中に凝集させるプレディッヒの方法や、特殊な電
極を用いて貴金属水溶液を電気化学的に還元し、生成し
た貴金属微粒子を共存させた有機溶媒へ強制的に移動さ
せるナタンソンの方法などが考案されているが、いずれ
も特殊な装置を必要とするうえ、得られる貴金属１ｒｆ
子はかなり粗く、また、ネ１γ度分布も広くなりがちで
ある。
機溶媒中に凝集させるプレディッヒの方法や、特殊な電
極を用いて貴金属水溶液を電気化学的に還元し、生成し
た貴金属微粒子を共存させた有機溶媒へ強制的に移動さ
せるナタンソンの方法などが考案されているが、いずれ
も特殊な装置を必要とするうえ、得られる貴金属１ｒｆ
子はかなり粗く、また、ネ１γ度分布も広くなりがちで
ある。
貴金属のうちでロジウムは、不飽和化合物の水素化、ヒ
ドロホルミル化などの角中媒として特に活性が高く有用
であることから、本発明者らは、ロジウムオルガノゾル
を、特殊な装置を用いることなく調製できる、より簡単
な方法を求めて鋭意研究を重ねた結果、界面活性剤を保
護物質として含むロジウムヒドロシルを蒸発乾固または
凝集沈殿させたものが広い範囲の有機溶媒に再溶解して
、均一透明なロジウムオルガノゾルを与えることを見出
し本発明をなすに至ったものである。
ドロホルミル化などの角中媒として特に活性が高く有用
であることから、本発明者らは、ロジウムオルガノゾル
を、特殊な装置を用いることなく調製できる、より簡単
な方法を求めて鋭意研究を重ねた結果、界面活性剤を保
護物質として含むロジウムヒドロシルを蒸発乾固または
凝集沈殿させたものが広い範囲の有機溶媒に再溶解して
、均一透明なロジウムオルガノゾルを与えることを見出
し本発明をなすに至ったものである。
すなわち、本発明は、ロジウム塩の水溶液を界面活性剤
の存在下に還元処理して得られるロジウムヒドロシルか
ら、これを＆集沈殿または蒸発乾固して分散媒の水を除
去した後、有機溶媒を加えて再溶解することを特徴とす
るロジウムオルガノゾルの製造方法を提供するものであ
る。
の存在下に還元処理して得られるロジウムヒドロシルか
ら、これを＆集沈殿または蒸発乾固して分散媒の水を除
去した後、有機溶媒を加えて再溶解することを特徴とす
るロジウムオルガノゾルの製造方法を提供するものであ
る。
本発明においては、水溶性のロジウム塩、好ましくは塩
化ロジウム（１１７）が用いられる。さらに、ロジウム
ゾルの保護物質として界面活性剤が用いられるが、この
界面活性剤としては、例えばポリエチレングリコールモ
ノ−Ｐ−ノニルフェニルエーテルなどの非イオン性界面
活性剤、ドデシルピリジニウムクロライドなどの陽イオ
ン性界面活性剤をあげることができる。また、ロジウム
塩の還元処理にあたっては、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウムなどのアルカリ金属水素化ホウ素
塩を用いる公知の方法がとられる。
化ロジウム（１１７）が用いられる。さらに、ロジウム
ゾルの保護物質として界面活性剤が用いられるが、この
界面活性剤としては、例えばポリエチレングリコールモ
ノ−Ｐ−ノニルフェニルエーテルなどの非イオン性界面
活性剤、ドデシルピリジニウムクロライドなどの陽イオ
ン性界面活性剤をあげることができる。また、ロジウム
塩の還元処理にあたっては、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウムなどのアルカリ金属水素化ホウ素
塩を用いる公知の方法がとられる。
本発明方法を実施するには、ロジウム塩および界面活性
剤を水に溶解し、か（はん下に、０℃ないし１００°０
１通常は室温において、アルカリ金属水素化ホウ素塩の
水溶液を加える。こうして、ロジウムヒドロシルが、黒
かっ色透明液体として得られる。この際、原料となるロ
ジウム塩は、水溶液中での濃度が００１〜３０ ｍｍｏ
ｌハの範囲になるように用いられ、界面活性剤は、水溶
液中の濃度が０．０１〜１％の範囲になるように用いら
れる。また、アルカリ金属水素化ホウ素塩は、原料のロ
ジウム塩に対し、等モル以上、好ましくは３〜５培モル
用いられる。こうして得られるロジウムヒドロシルから
分散媒の水を除くため、次の二つの方法がとられる。ま
ず第一は、蒸発乾固による方法であり、常圧下または減
圧下にロジウムヒドロシルを加熱することにより行われ
る。第二は、凝集沈殿による方法であり、これはロジウ
ムヒドロシルが比較的不安定な場合、すなわち、界面活
性剤としてアルキルピリジニウム塩型界面活性剤を用い
る場合に限られる。この場合凝集速度は、ロジウム濃度
、界面活性剤濃度および温度により異なるが、凝集は、
通常、数時間から１日後には完了するので、次に無色の
上澄液をデカンテーションにより除き、さらに風乾する
。ロジウムヒドロシルから、以上の三方法のいずれかに
より水を除いて得られるほぼ黒色の固体に、次に、有機
溶媒を加えて溶解させる。この溶媒として用いられる物
質とじては、ヘキサン、ベンゼンといった炭化水素の他
に、クロロホルムなどの）１０ゲン置換炭化水素が適し
、いずれの場合にも黒かっ色透明なロジウムオルガノゾ
ルが得られる。非イオン性界面活性剤を用いたロジウム
ヒドロシルからの蒸発乾固物に対しては、さらに広い範
囲の非プロトン性溶媒が用いられ、酢酸エチルなどのエ
ステル類、アセトンなどのケトン類の他、ジオキサンな
ども１１匹）られる。
剤を水に溶解し、か（はん下に、０℃ないし１００°０
１通常は室温において、アルカリ金属水素化ホウ素塩の
水溶液を加える。こうして、ロジウムヒドロシルが、黒
かっ色透明液体として得られる。この際、原料となるロ
ジウム塩は、水溶液中での濃度が００１〜３０ ｍｍｏ
ｌハの範囲になるように用いられ、界面活性剤は、水溶
液中の濃度が０．０１〜１％の範囲になるように用いら
れる。また、アルカリ金属水素化ホウ素塩は、原料のロ
ジウム塩に対し、等モル以上、好ましくは３〜５培モル
用いられる。こうして得られるロジウムヒドロシルから
分散媒の水を除くため、次の二つの方法がとられる。ま
ず第一は、蒸発乾固による方法であり、常圧下または減
圧下にロジウムヒドロシルを加熱することにより行われ
る。第二は、凝集沈殿による方法であり、これはロジウ
ムヒドロシルが比較的不安定な場合、すなわち、界面活
性剤としてアルキルピリジニウム塩型界面活性剤を用い
る場合に限られる。この場合凝集速度は、ロジウム濃度
、界面活性剤濃度および温度により異なるが、凝集は、
通常、数時間から１日後には完了するので、次に無色の
上澄液をデカンテーションにより除き、さらに風乾する
。ロジウムヒドロシルから、以上の三方法のいずれかに
より水を除いて得られるほぼ黒色の固体に、次に、有機
溶媒を加えて溶解させる。この溶媒として用いられる物
質とじては、ヘキサン、ベンゼンといった炭化水素の他
に、クロロホルムなどの）１０ゲン置換炭化水素が適し
、いずれの場合にも黒かっ色透明なロジウムオルガノゾ
ルが得られる。非イオン性界面活性剤を用いたロジウム
ヒドロシルからの蒸発乾固物に対しては、さらに広い範
囲の非プロトン性溶媒が用いられ、酢酸エチルなどのエ
ステル類、アセトンなどのケトン類の他、ジオキサンな
ども１１匹）られる。
こうして得られるロジウムオルガノゾルは、いずれも澗
りの全くない透明液体である。
りの全くない透明液体である。
本発明方法により得られるロジウムオルガノゾルは、そ
の分散状態が極めて安定で、空気中で数ケ月以上の長期
間にわたって、沈殿を生じることなく均一透明な状態で
保存できる。さらに、分散媒に揮発性の有機溶媒を用い
たロジウムオルガノゾルについては、これを各種表面−
Ｌに塗布または含浸させた後に分散媒を蒸発させること
により、該表面上にロジウム微粒子を含む薄膜を形成さ
せることができる。また、ロジウムオルガノゾルに適当
なポリマーを溶解した後に分散媒を蒸発させて除けば、
ロジウム微粒子が内部に均質に分散したポリマ゛−が得
られる。この他、不溶性の多孔質または粉末状物質の共
存下に、ロジウムオルガノゾルから分散妨を徐々に蒸発
させて乾固すれば、担持型ロジウム触媒とすることがで
きる。これは、気相系または液相系の反応に用いられ、
特にオレフィンなどの不飽和化合物の水素化に対して有
効である。
の分散状態が極めて安定で、空気中で数ケ月以上の長期
間にわたって、沈殿を生じることなく均一透明な状態で
保存できる。さらに、分散媒に揮発性の有機溶媒を用い
たロジウムオルガノゾルについては、これを各種表面−
Ｌに塗布または含浸させた後に分散媒を蒸発させること
により、該表面上にロジウム微粒子を含む薄膜を形成さ
せることができる。また、ロジウムオルガノゾルに適当
なポリマーを溶解した後に分散媒を蒸発させて除けば、
ロジウム微粒子が内部に均質に分散したポリマ゛−が得
られる。この他、不溶性の多孔質または粉末状物質の共
存下に、ロジウムオルガノゾルから分散妨を徐々に蒸発
させて乾固すれば、担持型ロジウム触媒とすることがで
きる。これは、気相系または液相系の反応に用いられ、
特にオレフィンなどの不飽和化合物の水素化に対して有
効である。
次に、実施例により本発明をさらに詳しく説、明する。
実施例
塩化ロジウム（ＩＴＩ）２０μｍｏｌおよびポリエチレ
ングリコールモノ−Ｐ−ノニルフェニルエーテル（ポリ
エチレングリコール部分の重合度−１０）４ｒｌ１ｇを
純水８ｍｌに溶解し、激しくかくはんしながら、これに
水素化ポウ素す） リウム８０μｍｏｌの水溶液２ｍ１
を滴下すると、溶液の色が黒かっ色に急変し、均一透明
なロジウムヒドロシルが得られた。このロジウムヒドロ
シルを蒸発乾固した後、固体残香にクロロホルム４Ｑｍ
ｌを加えると、溶解して、クロロホルムを分散媒とする
黒かっ色透明なロジウムオルガノゾルが得られた。この
とき、極く少量の白色固体が不溶のまま残るが、これは
デカンテーションにより除いた。
ングリコールモノ−Ｐ−ノニルフェニルエーテル（ポリ
エチレングリコール部分の重合度−１０）４ｒｌ１ｇを
純水８ｍｌに溶解し、激しくかくはんしながら、これに
水素化ポウ素す） リウム８０μｍｏｌの水溶液２ｍ１
を滴下すると、溶液の色が黒かっ色に急変し、均一透明
なロジウムヒドロシルが得られた。このロジウムヒドロ
シルを蒸発乾固した後、固体残香にクロロホルム４Ｑｍ
ｌを加えると、溶解して、クロロホルムを分散媒とする
黒かっ色透明なロジウムオルガノゾルが得られた。この
とき、極く少量の白色固体が不溶のまま残るが、これは
デカンテーションにより除いた。
実施例２
界面活性剤として、ドデシルピリジニウムクロライド４
１ＴＩｇを用いて、実施例１と同様の操作により、わず
かに濁った黒かっ色のロジウムヒドロシルが得られ、さ
らに均一透明なロジウムオルガノゾルが得られた。
１ＴＩｇを用いて、実施例１と同様の操作により、わず
かに濁った黒かっ色のロジウムヒドロシルが得られ、さ
らに均一透明なロジウムオルガノゾルが得られた。
実施例３
界面活性剤として、ドデシルピリジニウムクロライド４
ｍｇを用いて、実施例１と同様の操作で得られるロジウ
ムヒドロシル］Ｑｍｌを室温で一夜放置してロジウムコ
ロイド成分を凝集沈殿させた後、無色の」―澄液をデカ
ンテーションにより除き、さらに風乾して残った少量の
水分を除いた。この固体残香にトルエン４Ｑｍｌを加え
て、これを溶解させることにより、トルエンを分散媒と
する黒かっ色透明なロジウムオルガノゾルが得られた。
ｍｇを用いて、実施例１と同様の操作で得られるロジウ
ムヒドロシル］Ｑｍｌを室温で一夜放置してロジウムコ
ロイド成分を凝集沈殿させた後、無色の」―澄液をデカ
ンテーションにより除き、さらに風乾して残った少量の
水分を除いた。この固体残香にトルエン４Ｑｍｌを加え
て、これを溶解させることにより、トルエンを分散媒と
する黒かっ色透明なロジウムオルガノゾルが得られた。
参考例
実施例１により得られたロジウムオルガノゾル１０ｍ１
に粉末状酸化アルミニウム５０ ｎｖを加え、減圧下で
分散媒のクロロホルムを蒸発させて乾固して、灰色粉末
状の担持型ロジウム触媒が得られた。この触媒１０ｍｇ
を３０００１気圧水素下においてエタノール２Ｑｍｌに
懸濁させ、か（はんしながらシクロヘプテン０．２５
ｍｍｏｌを加えたところ、０．４９ｍｏｌ ／ｓｅｃ
＊ｇ −ａｔｏｍ Ｒ１１の初速度で水素化反応が始ま
り、約３０分後に反応が完了してシクロへブタンが得ら
れた。
に粉末状酸化アルミニウム５０ ｎｖを加え、減圧下で
分散媒のクロロホルムを蒸発させて乾固して、灰色粉末
状の担持型ロジウム触媒が得られた。この触媒１０ｍｇ
を３０００１気圧水素下においてエタノール２Ｑｍｌに
懸濁させ、か（はんしながらシクロヘプテン０．２５
ｍｍｏｌを加えたところ、０．４９ｍｏｌ ／ｓｅｃ
＊ｇ −ａｔｏｍ Ｒ１１の初速度で水素化反応が始ま
り、約３０分後に反応が完了してシクロへブタンが得ら
れた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １０ジウム塩の水溶液を界面活性剤の存在下に還元処理
してロジウムヒドロシルをｆｆ［させ、次いでこのヒド
ロシルを蒸発乾固した後、非プロトン性有機溶妓を加え
て溶解させることを特徴とするロジウムオルガノゾルの
製造方法。 ２ ロジウム塩の水溶液をアルキルピリジニウム塩型界
面活性剤の存在下に還元処理してロジウムヒドロシルを
形成させ、これを放置して得られる凝集沈殿物に非プロ
トン性有機溶媒を加えて溶解させることを特徴とするロ
ジウムオルガノゾルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9542583A JPS59222223A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | ロジウムオルガノゾルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9542583A JPS59222223A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | ロジウムオルガノゾルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59222223A true JPS59222223A (ja) | 1984-12-13 |
| JPS612413B2 JPS612413B2 (ja) | 1986-01-24 |
Family
ID=14137336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9542583A Granted JPS59222223A (ja) | 1983-05-30 | 1983-05-30 | ロジウムオルガノゾルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59222223A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03202153A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理用金属触媒の調製方法及び金属触媒 |
| US7122133B2 (en) * | 2000-09-08 | 2006-10-17 | Japan Science & Technology Agency | Finely particulate functional metal and finely particulate functional semiconductor each with dispersion stability and process for producing the same |
-
1983
- 1983-05-30 JP JP9542583A patent/JPS59222223A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03202153A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理用金属触媒の調製方法及び金属触媒 |
| US7122133B2 (en) * | 2000-09-08 | 2006-10-17 | Japan Science & Technology Agency | Finely particulate functional metal and finely particulate functional semiconductor each with dispersion stability and process for producing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS612413B2 (ja) | 1986-01-24 |
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