JPS59208407A - マスク欠陥検査装置 - Google Patents
マスク欠陥検査装置Info
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- JPS59208407A JPS59208407A JP8360283A JP8360283A JPS59208407A JP S59208407 A JPS59208407 A JP S59208407A JP 8360283 A JP8360283 A JP 8360283A JP 8360283 A JP8360283 A JP 8360283A JP S59208407 A JPS59208407 A JP S59208407A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野１
本発明は、半導体集積回路の製作時に用いられるフォト
マスクの欠陥の有無及びパターンの正否を検査するマス
ク欠陥検査装置に関する。
マスクの欠陥の有無及びパターンの正否を検査するマス
ク欠陥検査装置に関する。
［発明の技術的背景とその問題点」
従来、フォトマスクに形成されたパターンの検査を行う
マスク欠陥検査装置においては、フォトマスクに形成さ
れた被検査パターンから得られる第１の走査信号と、フ
ォトマスクにパターンを形成される際に用いられる設計
データに基づいて発生される第２の走査信号とを比較照
合して欠陥の有無及びパターンの正否を判定している。
マスク欠陥検査装置においては、フォトマスクに形成さ
れた被検査パターンから得られる第１の走査信号と、フ
ォトマスクにパターンを形成される際に用いられる設計
データに基づいて発生される第２の走査信号とを比較照
合して欠陥の有無及びパターンの正否を判定している。
つまり、上記第１および第２の走査信号の比較により欠
陥パターンの大きさを認識してその大きさと許容欠陥最
大寸法との比較を行い、許容欠陥最大寸法より小さい欠
陥パターンに関しては）第１・マスクからウェーハにパ
ターンを転写されても悪影響を及ぼさない等の理由によ
り、欠陥と判定しないと云う検査を行っている。そして
、上記検査を行なっている際の第１の走査信号は常時パ
ターン表示部に表示されており、上記欠陥の有無及びパ
ターンの正否を判定する欠陥判定部にて欠陥が検出され
た場合にその欠陥パターンを示す信号をパターン表示部
に送出し、パターン表示部においては第１の走査信号で
表わされる被検査パターンと上記欠陥パターンとを輝度
を変えて表示することにより、５− フォトマスクの検査を行なっている過程における欠陥パ
ターンのモニターを行なっていた。
陥パターンの大きさを認識してその大きさと許容欠陥最
大寸法との比較を行い、許容欠陥最大寸法より小さい欠
陥パターンに関しては）第１・マスクからウェーハにパ
ターンを転写されても悪影響を及ぼさない等の理由によ
り、欠陥と判定しないと云う検査を行っている。そして
、上記検査を行なっている際の第１の走査信号は常時パ
ターン表示部に表示されており、上記欠陥の有無及びパ
ターンの正否を判定する欠陥判定部にて欠陥が検出され
た場合にその欠陥パターンを示す信号をパターン表示部
に送出し、パターン表示部においては第１の走査信号で
表わされる被検査パターンと上記欠陥パターンとを輝度
を変えて表示することにより、５− フォトマスクの検査を行なっている過程における欠陥パ
ターンのモニターを行なっていた。
しかしながら、この種の装置にあっては次のような問題
点があった。すなわち、検査の過程で得られるフォトマ
スクに形成された被検査パターンが常時表示されていて
、欠陥が検出された場合に瞬間的に輝度の違う欠陥パタ
ーンが表示されるので、欠陥パターンの確認が難しい、
欠陥判定部で検出された欠陥パターンが黒星欠陥若しく
は白糸欠陥であるかの確認ができないと云う欠点がある
また、被検査パターンの微細化に伴ない欠陥の検出もよ
り微細なものが請求されており、こうした状況において
欠陥パターンを輝度の違いで表現した場合欠陥パターン
の確認がより困難になる、さらにはオペレータが検査の
過程で検出される欠陥数を認識することが難しい等の問
題がある。上述のような理由から実質的にモニターとし
ての役割を果たさないのが現状であった。
点があった。すなわち、検査の過程で得られるフォトマ
スクに形成された被検査パターンが常時表示されていて
、欠陥が検出された場合に瞬間的に輝度の違う欠陥パタ
ーンが表示されるので、欠陥パターンの確認が難しい、
欠陥判定部で検出された欠陥パターンが黒星欠陥若しく
は白糸欠陥であるかの確認ができないと云う欠点がある
また、被検査パターンの微細化に伴ない欠陥の検出もよ
り微細なものが請求されており、こうした状況において
欠陥パターンを輝度の違いで表現した場合欠陥パターン
の確認がより困難になる、さらにはオペレータが検査の
過程で検出される欠陥数を認識することが難しい等の問
題がある。上述のような理由から実質的にモニターとし
ての役割を果たさないのが現状であった。
［発明の目的］
本発明の目的は、欠陥パターンの確認を容易に６−
することができ、かつ検出された欠陥パターンが黒星欠
陥若しくは白系欠陥であるかを確認することかでき、モ
ニターとしての機能の向上をはかり得るマスク欠陥検査
装置を提供することにある。
陥若しくは白系欠陥であるかを確認することかでき、モ
ニターとしての機能の向上をはかり得るマスク欠陥検査
装置を提供することにある。
［発明の概要］
本発明の骨子は、フォトマスクに形成されている被検査
パターンの検査の過程において、欠陥パターンが検出さ
れた場合に次の欠陥パターンが検出されるまでこれを保
持し、かつ被検査パターンと熱系欠陥及び白系欠陥を各
々違う色によりパターン表示することにより、モニター
としての機能を著しく向上さぼることにある。
パターンの検査の過程において、欠陥パターンが検出さ
れた場合に次の欠陥パターンが検出されるまでこれを保
持し、かつ被検査パターンと熱系欠陥及び白系欠陥を各
々違う色によりパターン表示することにより、モニター
としての機能を著しく向上さぼることにある。
すなわら本発明は、半導体集積回路の製作に用いられる
フォトマスクに光を照射する光照射部と上記光の照射及
びフォトマスク上での光照射位置の移動により得られる
上記フォトマスクに形成された被検査パターンに応じた
第１の走査信号を得る信号検出部と、上記被検査パター
ンを形成する際の設計データを基に得られる第２の走査
信号を発生する基準信号発生部と、上記信号検出部から
送出される第１の走査信号と上記基準信号発生部から送
出される第２の走査信号とを比較照合して欠陥の有無を
判定し、欠陥有りと判定したときに第１の走査信号、第
２の走査信号、第１及び第２の走査信号から得られる欠
陥パターン部のみを示す第３の走査信号の少なくとも２
つを保持する欠陥判定部と、この欠陥判定部に保持され
た各走査信号に基づき被検査パターンの欠陥でないパタ
ーン部を第１の色で表示し、熱系欠陥を第２の色で表示
し、白系欠陥を第３の色で表示するパターン表示部とを
設・ノるようにしたものである。
フォトマスクに光を照射する光照射部と上記光の照射及
びフォトマスク上での光照射位置の移動により得られる
上記フォトマスクに形成された被検査パターンに応じた
第１の走査信号を得る信号検出部と、上記被検査パター
ンを形成する際の設計データを基に得られる第２の走査
信号を発生する基準信号発生部と、上記信号検出部から
送出される第１の走査信号と上記基準信号発生部から送
出される第２の走査信号とを比較照合して欠陥の有無を
判定し、欠陥有りと判定したときに第１の走査信号、第
２の走査信号、第１及び第２の走査信号から得られる欠
陥パターン部のみを示す第３の走査信号の少なくとも２
つを保持する欠陥判定部と、この欠陥判定部に保持され
た各走査信号に基づき被検査パターンの欠陥でないパタ
ーン部を第１の色で表示し、熱系欠陥を第２の色で表示
し、白系欠陥を第３の色で表示するパターン表示部とを
設・ノるようにしたものである。
［発明の効果］
本発明によれば、欠陥判定部で検出した欠陥パターンを
次の欠陥が検出されるまでパターン表示部において表示
すると共に、フォトマスクの被検査パターン部と欠陥パ
ターン部とを異なる色で表示しているので、検査の過程
での欠陥パターンの確認が容易になる。さらに、熱系欠
陥と白糸欠陥とを異なる色で表示しているので、検出さ
れた欠陥パターンが黒星欠陥或いは白糸欠陥であるかの
確認を随時性なうことができる。また、検出された欠陥
パターン部が微細になった場合においても確認が容易で
あり、オペレータが検査の過程で検出する欠陥数の認識
が容易であり、その、結果一定数以上の欠陥が検出され
たフォトマスクについては途中で検査を中止することに
よりマシンのスルーブツトが向上する等、モニターとし
ての機能を著しく向上し得ると云う効果を奏する。
次の欠陥が検出されるまでパターン表示部において表示
すると共に、フォトマスクの被検査パターン部と欠陥パ
ターン部とを異なる色で表示しているので、検査の過程
での欠陥パターンの確認が容易になる。さらに、熱系欠
陥と白糸欠陥とを異なる色で表示しているので、検出さ
れた欠陥パターンが黒星欠陥或いは白糸欠陥であるかの
確認を随時性なうことができる。また、検出された欠陥
パターン部が微細になった場合においても確認が容易で
あり、オペレータが検査の過程で検出する欠陥数の認識
が容易であり、その、結果一定数以上の欠陥が検出され
たフォトマスクについては途中で検査を中止することに
よりマシンのスルーブツトが向上する等、モニターとし
ての機能を著しく向上し得ると云う効果を奏する。
［発明の実施例］
第１図は設計データに応じたパターンを示す平面図、第
２図は欠陥の存在する実際の被検査パターンを示す平面
図、第３図は被検査パターンの中の欠陥パターンだけを
示す平面図であり、図中１は正規パターン、２は白系欠
陥、３は熱系欠陥を示している。
２図は欠陥の存在する実際の被検査パターンを示す平面
図、第３図は被検査パターンの中の欠陥パターンだけを
示す平面図であり、図中１は正規パターン、２は白系欠
陥、３は熱系欠陥を示している。
第４図は本発明の一実施例に係わるマスク欠陥検査装置
の概略構成を示すブロック図である。図中１１はフォト
マスク１２を載置する試料台であり、この試料台１１は
計算機１３から指令を受けたステージ駆動制御部１４に
よりＸ方向（紙面左９− も方向）及びＹ方向く紙面表裏方向）に移動されるもの
となっている。そして、試料台１１の移動位置は、例え
ばレーザ干渉計からなるステージ位置測定部１５により
測定されるものとなっている。
の概略構成を示すブロック図である。図中１１はフォト
マスク１２を載置する試料台であり、この試料台１１は
計算機１３から指令を受けたステージ駆動制御部１４に
よりＸ方向（紙面左９− も方向）及びＹ方向く紙面表裏方向）に移動されるもの
となっている。そして、試料台１１の移動位置は、例え
ばレーザ干渉計からなるステージ位置測定部１５により
測定されるものとなっている。
一方、試料台１１の上方には、光源（光照射部）１６が
配置されている。光源１６からの光は、試料台１１上に
載置されるフォトマスク１２上にスポット照射され、そ
の透過光が信号検出部１７の受光面に照射される。ここ
で、上記光照射部と共に試料台１１を連続移動させるこ
とにより、信号検出部１７ではフォトマスク１２の被検
査パターンに対応した走査信号（第１の走査信号）が検
出される。そして、この検出走査信号は、基準信号発生
部１８により上記被検査パターンを形成する際の設計デ
ータに基づいて発生された走査信号（第２の走査信号）
と共に、欠陥判定部１９に供給されるものとなっている
。
配置されている。光源１６からの光は、試料台１１上に
載置されるフォトマスク１２上にスポット照射され、そ
の透過光が信号検出部１７の受光面に照射される。ここ
で、上記光照射部と共に試料台１１を連続移動させるこ
とにより、信号検出部１７ではフォトマスク１２の被検
査パターンに対応した走査信号（第１の走査信号）が検
出される。そして、この検出走査信号は、基準信号発生
部１８により上記被検査パターンを形成する際の設計デ
ータに基づいて発生された走査信号（第２の走査信号）
と共に、欠陥判定部１９に供給されるものとなっている
。
欠陥判定部１９は、第５図に示す如く設計データバッフ
ァ２１、検出データバッファ２２、欠陥判定回路２３、
検出パターンバッファ２４及び欠１０− 陥パターンバッファ２５から構成されている。すなわち
、前記信号検出部１７からの第１の走査信号は検出デー
タバッファ２２に登録され、欠陥判定回路２３に送られ
る。同様に、前記基準信号発生部１８からの第２の走査
信号は設ｈＩデータバッファ２１に登録され、欠陥判定
回路２３に送られる。欠陥判定回路２３は、上記入力し
た各走査信号をディジタル的に比較照合して第１の走査
信号と第２の走査信号とに違いがあるときに欠陥有りと
判定し、その時の被検査パターンを表わす第１の走査信
号（第２図に対応）を検出パターンバッファ２４へ登録
し、欠陥パターンを表わす第３の走査信号（第３図に対
応）を欠陥パターンバッファ２５へ登録するものである
。したがって、検出パターンバッファ２４には欠陥の存
在する被検査パターンが登録され、欠陥パターンバッフ
ァ２５には上記被検査パターンの欠陥パターンだ（プが
登録される。そして、各々登録されたデータはパターン
表示部２０へ供給されるものどなっている。
ァ２１、検出データバッファ２２、欠陥判定回路２３、
検出パターンバッファ２４及び欠１０− 陥パターンバッファ２５から構成されている。すなわち
、前記信号検出部１７からの第１の走査信号は検出デー
タバッファ２２に登録され、欠陥判定回路２３に送られ
る。同様に、前記基準信号発生部１８からの第２の走査
信号は設ｈＩデータバッファ２１に登録され、欠陥判定
回路２３に送られる。欠陥判定回路２３は、上記入力し
た各走査信号をディジタル的に比較照合して第１の走査
信号と第２の走査信号とに違いがあるときに欠陥有りと
判定し、その時の被検査パターンを表わす第１の走査信
号（第２図に対応）を検出パターンバッファ２４へ登録
し、欠陥パターンを表わす第３の走査信号（第３図に対
応）を欠陥パターンバッファ２５へ登録するものである
。したがって、検出パターンバッファ２４には欠陥の存
在する被検査パターンが登録され、欠陥パターンバッフ
ァ２５には上記被検査パターンの欠陥パターンだ（プが
登録される。そして、各々登録されたデータはパターン
表示部２０へ供給されるものどなっている。
パターン表示部２０は、第６図に示す如くパターン色指
定バッファ３１．欠陥色指定バッファ３２、表示パター
ン生成回路３３．パターン表示回路３４及びディスプレ
イ３５から構成されている。
定バッファ３１．欠陥色指定バッファ３２、表示パター
ン生成回路３３．パターン表示回路３４及びディスプレ
イ３５から構成されている。
１なわち、前記欠陥判定部１９からの欠陥の存在（る被
検査パターンに対応づる第１の走査信号及 □び欠
陥パターンに対応づる第３の走査信号が表示パターン（
１−成回路３３に送られる。表示パターン生成回路３３
は］、１トマスクの欠陥パターンの存在Ｊる検査パター
ンを、第７図に示す如く表示するためのパターン表示部
を生成覆るものである。
検査パターンに対応づる第１の走査信号及 □び欠
陥パターンに対応づる第３の走査信号が表示パターン（
１−成回路３３に送られる。表示パターン生成回路３３
は］、１トマスクの欠陥パターンの存在Ｊる検査パター
ンを、第７図に示す如く表示するためのパターン表示部
を生成覆るものである。
１なわち、表示パターン生成回路３３では−Ｆ記欠陥判
定部１９から送出された第１の走査信号ど第３の走査信
号との組み合わせにより、欠陥パターンでない被検査パ
ターン部４２についてパターン色指定バッファ３１に保
持される第１色データとし、欠陥パターンの中の黒糸欠
陥パターン部４３について欠陥色指定バッファ３２に保
持せられる第２色データどし、また、欠陥パターンの中
の白糸欠陥パターン部４４については上記第１色データ
と第２色データとを組み合わせた第３色データとする。
定部１９から送出された第１の走査信号ど第３の走査信
号との組み合わせにより、欠陥パターンでない被検査パ
ターン部４２についてパターン色指定バッファ３１に保
持される第１色データとし、欠陥パターンの中の黒糸欠
陥パターン部４３について欠陥色指定バッファ３２に保
持せられる第２色データどし、また、欠陥パターンの中
の白糸欠陥パターン部４４については上記第１色データ
と第２色データとを組み合わせた第３色データとする。
さらに、その他の被検査パターン４１については黒色デ
ータとした表示パターンデータを生成し、これらの各デ
ータをパターン表示回路３４へ送出する。これにより、
パターン表示回路３４がディスプレイ３５を駆動して第
７図に示す如くパターンが表示されるものとなっている
。
ータとした表示パターンデータを生成し、これらの各デ
ータをパターン表示回路３４へ送出する。これにより、
パターン表示回路３４がディスプレイ３５を駆動して第
７図に示す如くパターンが表示されるものとなっている
。
このような構成であれば、被検査パターンに欠陥が存在
するとき、欠陥パターンでない被検査パターン部４２．
黒系欠陥パターン部４３及び白系欠陥パターン部４４を
第７図に示す如く異なる色で表示することができる。ざ
らに、この表示画像を次の欠陥が検出されるまで保持し
ておくことができる。このため、欠陥パターンの確認が
極めて容易となり、しかも、熱系欠陥か白糸欠陥である
かの確認も容易に行うことができる。
するとき、欠陥パターンでない被検査パターン部４２．
黒系欠陥パターン部４３及び白系欠陥パターン部４４を
第７図に示す如く異なる色で表示することができる。ざ
らに、この表示画像を次の欠陥が検出されるまで保持し
ておくことができる。このため、欠陥パターンの確認が
極めて容易となり、しかも、熱系欠陥か白糸欠陥である
かの確認も容易に行うことができる。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施する
ことができる。例えば、前記欠陥判定部で保持する走査
信号としては、第１及び第３の走査信号の代りに、第１
及び第２の走査信号１３− 或いは第２及び第３の走査信号を用いてもよい。
く、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施する
ことができる。例えば、前記欠陥判定部で保持する走査
信号としては、第１及び第３の走査信号の代りに、第１
及び第２の走査信号１３− 或いは第２及び第３の走査信号を用いてもよい。
つまり、第１乃至第３の走査信号の少なくとも２つを保
持すれば前記パターン表示部での色分けが可能となる。
持すれば前記パターン表示部での色分けが可能となる。
また、上記第１の走査信号を検出する手段として、前記
試料台を移動する代りに、前記光源を移動するＪ：うに
してもよい。さらに、フォトマスクの透過光を検出する
代りに、フォトマスクからの反射光を検出して第１の走
査信号を得ることも可能である。
試料台を移動する代りに、前記光源を移動するＪ：うに
してもよい。さらに、フォトマスクの透過光を検出する
代りに、フォトマスクからの反射光を検出して第１の走
査信号を得ることも可能である。
第１図は設計データに対応したパターンを示す平面図、
第２図はフォトマスク上の種々の欠陥の存在する被検査
パターンを示す平面図、第３図は上記被検査パターンの
欠陥パターンのみを示す平面図、第４図は本発明の一実
施例に係わるマスク欠陥検査装置の概略構成を示すブロ
ック図、第５図及び第６図は上記装置の要部構成を具体
化して示Ｊブロック図、第７図は上記装置により色分【
プして表示された欠陥を含む被検査パターンを示す平面
図である。 １４− １・・・正規のパターン、２・・・白系欠陥、３・・・
熱系欠陥、１１・・・試料台、１２・・・フォトマスク
、１３・・・ｈ１算機、１４・・・ステージ駆動制御部
、１５・・・ステージ位置測定部、１６・・・光源、１
７・・・信号検出部、１８・・・基準信号発生部、１９
・・・欠陥判定部、２０・・・パターン表示部、２１・
・・設計データバッファ、２２・・・検出データバッフ
ァ、２３・・・欠陥判定回路、２４・・・検出パターン
バッファ、２５・・・欠陥パターンバッファ、３１・・
・パターン色指定バッファ、３２・・・欠陥色指定バッ
ファ、３３・・・表示パターン生成回路、３４・・・パ
ターン表示回路、３５・・・ディスプレイ、４１・・・
非欠陥非パターン部、４２・・・非欠陥パターン部、４
３・・・黒光欠陥パターン部、４４・・・白糸欠陥パタ
ーン部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 １５− 第１図 第２図 第５図 第６９ ■ 第７ｗｉ
第２図はフォトマスク上の種々の欠陥の存在する被検査
パターンを示す平面図、第３図は上記被検査パターンの
欠陥パターンのみを示す平面図、第４図は本発明の一実
施例に係わるマスク欠陥検査装置の概略構成を示すブロ
ック図、第５図及び第６図は上記装置の要部構成を具体
化して示Ｊブロック図、第７図は上記装置により色分【
プして表示された欠陥を含む被検査パターンを示す平面
図である。 １４− １・・・正規のパターン、２・・・白系欠陥、３・・・
熱系欠陥、１１・・・試料台、１２・・・フォトマスク
、１３・・・ｈ１算機、１４・・・ステージ駆動制御部
、１５・・・ステージ位置測定部、１６・・・光源、１
７・・・信号検出部、１８・・・基準信号発生部、１９
・・・欠陥判定部、２０・・・パターン表示部、２１・
・・設計データバッファ、２２・・・検出データバッフ
ァ、２３・・・欠陥判定回路、２４・・・検出パターン
バッファ、２５・・・欠陥パターンバッファ、３１・・
・パターン色指定バッファ、３２・・・欠陥色指定バッ
ファ、３３・・・表示パターン生成回路、３４・・・パ
ターン表示回路、３５・・・ディスプレイ、４１・・・
非欠陥非パターン部、４２・・・非欠陥パターン部、４
３・・・黒光欠陥パターン部、４４・・・白糸欠陥パタ
ーン部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 １５− 第１図 第２図 第５図 第６９ ■ 第７ｗｉ
Claims (4)
- （１）半導体集積回路の製作に用いられるフォトマスク
ｔこ光を照射１“る光照躬部と、上記光の照射及びフォ
トマスク上での光照）１位置の移動にＪ：り得られる上
記フォトマスクに形成された被検査パターンに対応する
第１の走査信号を検出づる信号検出部と、上記被検査パ
ターンを形成する際の設計データを基に得られる第２の
走査信号を発生する基準信号発生部と、前記信号検出部
から送出される第１の走査信号と−Ｆ記基準信号発生部
から送出される第２の走査信号とを比較照合して欠陥の
有無を判定し、欠陥有りと判定したとぎに第１の走査信
号、第２の走査信号、第１及び第２の走査信号から得ら
れる欠陥パターン部のみを示す第３の走査信号の少なく
とも２つを保持する欠陥判定部と、この欠陥判定部に保
持された各走査信号に基づき被検査パターンの欠陥でな
いパターン部を第１の色で表示し、黒星欠陥を第２の色
で表示し、かつ白糸欠陥を第３の色で表示１“るパター
ン表示部とを具備してなることを特徴どするマスク欠陥
検査装置。 - （２）前記欠陥判定部は欠陥有りと判定したどぎに前記
第１の走査信号を保持づるど共に、欠陥パターン部のみ
を示す第３の走査信号を保持づるものであり、前記パタ
ーン表示部（ま」−記欠陥判定部で得られた欠陥パター
ン部以外のフォトマスクに形成された被検査パターン部
の色データ及び第３の走査信号で表される欠陥パターン
部の色データが設定され、上記第１及び第３の走査信号
の論理演締を行い、）Ａ１〜マスクの検査を行っている
過程で欠陥を検出した場合に、フｔ ｌ−マスクの欠陥
でないパターン部、黒星の欠陥パターン部及び白系の欠
陥パターン部をそれぞれ前記３種の色で表示するもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のマス
ク欠陥検査装置。 - （３）前記欠陥判定部は、前記信号検出部で得られる第
１の走査信号を保持する検出データバッフア、前記基準
信号発生部で得られる第２の走査信号を保持する設計デ
ータバッファ、上記第１及び第２の走査信号を比較照合
して各々のデジタル信号が異なるとき欠陥有りと判定し
てそのパターンデータ及び欠陥パターンデータを送出す
る欠陥判定回路、この欠陥判定回路で検出された欠陥部
を含む第１の走査信号を保持する検出パターンバッファ
、及び上記欠陥判定回路で検出された欠陥部のみを表わ
す第３の走査信号を保持する欠陥パターンバッハ７から
なるものであることを特徴とする特許請求の範囲第２項
記載のマスク欠陥検査装置。 - （４）前記パターン表示部は、前記被検査マスクの被検
査パターン部をパターン表示する際の色を表す色データ
を保持するパターン色指定バッファ。 前記欠陥判定部で得られる欠陥部をパターン表示する際
の色を表わす色データを保持する欠陥色指定バッファ、
前記欠陥判定部の欠陥パターンバッファに保持された第
１の走査信号と検出パターンバッファに保持された第３
の走査信号とにより前記被検査マスクの被検査パターン
部を上記色指定バッファに保持された第１の色データで
表示し。 前記被検査マスクの被検査パター２部以外の欠陥パター
ン部を欠陥色指定バッファに保持された第２の色データ
で表示し、かつ前配被検査マスクの被検査パターン部の
欠陥パターン部を上記第１の色データと第２の色データ
とを組み合わせた第３の色データで表示Ｊるパターンデ
ータを生成して送出する表示パターン生成回路、及びこ
の表示パターン生成回路で生成された表示パターンをモ
ニタに表示するパターン表示回路からなるものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のマスク欠陥
検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8360283A JPS59208407A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | マスク欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8360283A JPS59208407A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | マスク欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59208407A true JPS59208407A (ja) | 1984-11-26 |
Family
ID=13807028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8360283A Pending JPS59208407A (ja) | 1983-05-13 | 1983-05-13 | マスク欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59208407A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013190357A (ja) * | 2012-03-14 | 2013-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | ムラ情報生成装置、ムラ情報生成プログラム及びムラ情報生成方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5324780A (en) * | 1976-08-20 | 1978-03-07 | Hitachi Ltd | Lead frame |
| JPS5333029A (en) * | 1976-09-09 | 1978-03-28 | Nec Corp | Cut-off frequency variable filter |
| JPS54113262A (en) * | 1978-02-24 | 1979-09-04 | Hitachi Ltd | Mask inspection unit |
| JPS57211678A (en) * | 1981-06-23 | 1982-12-25 | Fujitsu Ltd | Picture collating system |
-
1983
- 1983-05-13 JP JP8360283A patent/JPS59208407A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5324780A (en) * | 1976-08-20 | 1978-03-07 | Hitachi Ltd | Lead frame |
| JPS5333029A (en) * | 1976-09-09 | 1978-03-28 | Nec Corp | Cut-off frequency variable filter |
| JPS54113262A (en) * | 1978-02-24 | 1979-09-04 | Hitachi Ltd | Mask inspection unit |
| JPS57211678A (en) * | 1981-06-23 | 1982-12-25 | Fujitsu Ltd | Picture collating system |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013190357A (ja) * | 2012-03-14 | 2013-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | ムラ情報生成装置、ムラ情報生成プログラム及びムラ情報生成方法 |
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