JPH06341958A

JPH06341958A - シャドウマスク検査方法及び装置

Info

Publication number: JPH06341958A
Application number: JP5154452A
Authority: JP
Inventors: Toru Shibahara; 亨芝原; Kichiji Asai; 吉治浅井; Masayoshi Kobayashi; 正嘉小林
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1993-05-31
Filing date: 1993-05-31
Publication date: 1994-12-13
Also published as: KR940026536A

Abstract

(57)【要約】【目的】シャドウマスクに付着したゴミなどの異物の
影響を受けることなく、正確にシャドウマスクの欠陥を
検査することができるシャドウマスクの検査方法および
装置を提供する。【構成】透過照明光源２１からの透過照明光がシャド
ウマスク１０の大孔４側主面に照射され、その透過光が
撮像部２４で受光され、その光像に関連する画像データ
が第１画像データとして記憶される。また、透過照明光
源２１および明視野落射照明光源２２からの照明光が同
じシャドウマスク１０に照射され、そのシャドウマスク
１０からの光が撮像部２４に受光され、その光像に関連
する画像データが第２画像データとして記憶される。そ
して、第２画像データからシャドウマスク１０に付着し
たゴミ（異物）に関する情報が求められ、さらに、その
情報に基づき第１画像データが補正された後、補正画像
データに基づきシャドウマスク１０の検査が行われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、カラーＣＲＴ等に組
み込まれるシャドウマスクに暗欠点等の欠陥が含まれて
いるか否かを検査するシャドウマスクの検査方法および
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばカラーＣＲＴでは、３本の電子ビ
ームを放射する電子銃が設けられており、電子銃からの
各電子ビームが蛍光体に向けて照射されるように構成さ
れている。また、電子銃と蛍光体との間には、複数の透
孔が形成されたシャドウマスクが配置されており、電子
銃からの電子ビームのうち必要な方向の電子ビームだけ
が透孔を通過して蛍光体に入射される一方、不要な方向
の電子ビームはシャドウマスクによって遮断されるよう
になっている。

【０００３】図１３は、この発明の背景技術となるシャ
ドウマスクの一部を示す図である。シャドウマスク１０
は、同図に示すように、例えば厚さ０．１ｍｍ〜０．３
ｍｍの低炭素アルミキルド鋼からなるシャドウマスク材
１に複数の電子ビーム通過用の透孔２が規則的に形成さ
れたものであり、一方主面側（同図の上方側）に比較的
小さな径の孔（以下「小孔」という）３が形成されると
ともに、他方主面側（同図の下方側）に比較的大きな径
の孔（以下「大孔」という）４が形成されている。な
お、以下の説明の便宜から、小孔３および大孔４が形成
された主面側を、それぞれ「小孔側」，「大孔側」と称
する。

【０００４】ところで、シャドウマスク１０では、透孔
２が部分的に小さくなる、いわゆる暗欠点５（図１４）
が生じることがある。シャドウマスク１０に暗欠点が存
在すると、本来透光しなければならない電子ビームがそ
の暗欠点５により遮断してしまい、不都合が生じること
がある。

【０００５】そこで、従来より、図１４に示すように、
シャドウマスク１０の大孔４側から透過照明光Ｌを照射
するとともに、小孔３側でシャドウマスク１０の透過光
像を撮像し、さらにその透過光像から暗欠点５の有無を
検査する方法が提案されている。すなわち、暗欠点５の
全くないシャドウマスク１０の透過光像を撮像すると、
例えば図１５に示すように、その透過光像Ｉ1 には、シ
ャドウマスク材１に対応する暗部１１と透孔２に対応す
る明部１２とが含まれるが、暗欠点５が存在するシャド
ウマスク１０の透過光像を撮像すると、例えば図１５に
示すように、シャドウマスク材１に対応する暗部１１と
透孔２に対応する明部１２以外に、暗欠点５に対応する
暗部１５が含まれている。したがって、暗部１５の有無
を判別することで暗欠点５の存在を判別することができ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シャド
ウマスク１０の表面には、ほこりや鉄粉等のゴミ６（図
１６）が付着することが多く、ゴミ６が付着したシャド
ウマスク１０の透過光像を撮像すると、図１５とほぼ同
様な像が得られる。つまり、図１６に示すように、ゴミ
６が付着すると、そのゴミ６で照明光Ｌの一部が遮光さ
れ、その結果、そのゴミ６に対応する暗部が透過光像に
含まれてしまうからである。このため、従来のシャドウ
マスクの検査方法では、暗欠点を正確に検出するために
は、シャドウマスク１０からゴミ６を完全に除去する必
要があり、もし、ゴミ６が含まれていると、ゴミ６を暗
欠点と誤認してしまうことがあった。

【０００７】ゴミ対策として、例えばシャドウマスク１
０を粘着ローラ間に通したり、圧縮空気をシャドウマス
ク１０の表面に吹き付けたりして、ゴミ６を排除する方
法が試行されているが、これらの方法によってもゴミ６
の除去を充分に行うことができなかった。そのため、ま
ず上記のようにしてシャドウマスク１０の透過光像Ｉ1
を撮像して暗欠点５あるいはゴミ６に対応した暗部（図
１５の１５）の有無を検査し、さらに光像Ｉ1 に暗部が
含まれると判別されたシャドウマスク１０については、
人の目視により、再検査を行うようにしていた。

【０００８】本発明は、上述のような問題に鑑みてなさ
れたものであって、シャドウマスクに付着したゴミなど
の異物の影響を受けることなく、正確にシャドウマスク
の欠陥を検査することができるシャドウマスクの検査方
法および装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の透孔が形成されたシャドウマスクを検査するシャドウ
マスク検査方法であって、上記目的を達成するため、前
記シャドウマスクの一方主面に透過照明光を照射すると
ともに、前記シャドウマスクの他方主面を明視野落射照
明する一方、前記シャドウマスクの前記他方主面側で、
前記シャドウマスクを透過した透過光および前記シャド
ウマスクの前記他方主面で反射された反射光を受光し、
前記シャドウマスクの光像を撮像して、前記シャドウマ
スクに付着した異物に関する情報を求める。

【００１０】請求項２の発明は、複数の透孔が形成され
たシャドウマスクを検査するシャドウマスク検査方法で
あって、上記目的を達成するため、前記シャドウマスク
の一方主面を暗視野落射照明する一方、前記シャドウマ
スクの前記一方主面側で、前記シャドウマスクからの散
乱光を受光し、前記シャドウマスクの暗視野光像を撮像
して、前記シャドウマスクに付着した異物に関する情報
を求める。

【００１１】請求項３の発明は、複数の透孔が形成され
たシャドウマスクを検査するシャドウマスク検査装置で
あって、上記目的を達成するため、前記シャドウマスク
の一方主面に透過照明光を照射する透過照明光源と、前
記シャドウマスクの他方主面を明視野落射照明する明視
野落射照明光源と、前記シャドウマスクの前記他方主面
側に配置され、前記シャドウマスクからの光を受光し
て、前記シャドウマスクの光像を撮像する撮像手段と、
を備えている。

【００１２】請求項４の発明は、複数の透孔が形成され
たシャドウマスクを検査するシャドウマスク検査装置で
あって、上記目的を達成するため、前記シャドウマスク
の一方主面を暗視野落射照明する暗視野落射照明光源
と、前記シャドウマスクの前記一方主面側に配置され、
前記シャドウマスクからの光を受光して、前記シャドウ
マスクの光像を撮像する撮像手段と、を備えている。

【００１３】

【作用】請求項１および３の発明によれば、透過照明光
源および明視野落射照明光源からの照明光がシャドウマ
スクに照射され、そのシャドウマスクからの光が撮像手
段に受光され、前記シャドウマスクに付着した異物に関
する情報が求められ、シャドウマスクの検査が行われ
る。

【００１４】請求項２および４の発明によれば、暗視野
落射照明光源からの照明光がシャドウマスクに照射さ
れ、撮像手段に受光され、シャドウマスクに付着した異
物に関する情報が求められ、シャドウマスクの検査が行
われる。

【００１５】

【実施例】

Ａ．第１実施例

【００１６】図１は、この発明にかかるシャドウマスク
検査装置の第１実施例を示す図である。この検査装置で
は、シャドウマスク１０がホルダなどの保持機構（図示
省略）により、その大孔４側が下方に向くようにして所
定位置で保持・位置決めされている。また、そのシャド
ウマスク１０の大孔４側に、つまり同図の下方側に透過
照明光源２１が設けられており、シャドウマスク１０の
大孔４側の主面に向けて透過照明光を照射するようにな
っている。さらに、この検査装置では、明視野落射照明
光源２２およびハーフミラー２３がシャドウマスク１０
の小孔側、つまり同図の上方側に設けられており、明視
野落射照明光源２２からの照明光をハーフミラー２３を
介してシャドウマスク１０の小孔３側の主面に照射す
る、すなわち明視野落射照明系が構成されている。

【００１７】また、ハーフミラー２３の上方位置にＣＣ
Ｄカメラやフォトセンサなどからなる撮像部２４が設け
られており、シャドウマスク１０からの光を受光して、
シャドウマスク１０の光像を撮像するようになってい
る。例えば、透過照明光源２１のみを点灯させると、透
過照明光源２１からの透過照明光がシャドウマスク１０
の大孔側主面に照射され、撮像部２４によってシャドウ
マスク１０の透過光像Ｉ1 を撮像することができる。ま
た、両照明光源２１，２２を点灯させると、シャドウマ
スク１０の大孔側主面のみならず、小孔側主面も明視野
落射照明光源２２からの照明光が照射されるので、撮像
部２４にはシャドウマスク１０を透過した透過光と小孔
側主面で反射された反射光とが同時に入射され、シャド
ウマスク１０の光像Ｉ2 を撮像することができる。

【００１８】なお、こうしてシャドウマスク１０の光像
が撮像されると、撮像部２４から撮像されたシャドウマ
スク１０の光像に関連するアナログ画像信号がＡ／Ｄ変
換器２５に出力され、ディジタル画像信号に変換された
後、装置全体を制御する制御部２６に出力され、ＲＡＭ
２７に画像データとして記憶される。

【００１９】この制御部２６は、上記ＲＡＭ２７以外
に、図１に示すように、論理演算を実行する周知のＣＰ
Ｕ２８と、そのＣＰＵ２８を制御する種々のプログラム
等を予め記憶したＲＯＭ２９とを備えている。また、こ
れらＲＡＭ２７，ＣＰＵ２８，ＲＯＭ２９はそれぞれコ
モンバス３０によって相互に接続される一方、そのコモ
ンバス３０を介して入出力ポート３１とも接続されてい
る。そして、その入出力ポート３１により制御部２６は
外部との入出力、例えばコンソール３２やディスプレイ
などの表示部３３、さらには前記透過照明光源２１，明
視野落射照明光源２２およびＡ／Ｄ変換器２５との間で
信号の授受を行う。

【００２０】次に、上記シャドウマスク検査装置による
シャドウマスクの検査工程について図２を参照しつつ説
明する。まず、シャドウマスク１０を、その大孔４側が
下方に向くようにして所定位置で保持・位置決めする
（図１を参照）。そして、透過照明光源２１を点灯し
て、従来と同様に、シャドウマスク１０の透過光像Ｉ1
を撮像する（ステップＳ１）。すなわち、透過照明光源
２１によりシャドウマスク１０の大孔側主面を照明する
とともに、シャドウマスク１０を透過した光を撮像部２
４により受光して、シャドウマスク１０の透過光像Ｉ1
を撮像する。例えば、図１４に示すようにシャドウマス
ク１０に暗欠点５が存在する場合には、図１５と同様の
画像が撮像される。なお、シャドウマスク１０にゴミ６
が存在する場合（図１６）にも、上述したようにして同
様の画像（図１５）が撮像される。

【００２１】こうして撮像された光像Ｉ1 に関連する信
号については、Ａ／Ｄ変換器２５でディジタル画像信号
に変換した後、ＲＡＭ２７に第１画像データＩＤ1 とし
て記憶する。

【００２２】次に、ステップＳ２で、透過照明光源２１
と明視野落射照明光源２２とを同時に点灯させ、シャド
ウマスク１０の大孔側主面を透過照明するとともに、小
孔側主面を落射照明する。この場合、撮像部２４には、
シャドウマスク１０を透過した透過光とシャドウマスク
１０の小孔側主面で反射された正反射光とが入射され、
シャドウマスク１０の光像Ｉ2 が撮像される。

【００２３】例えば、シャドウマスク１０に暗欠点５が
存在する場合には、図３に示すように、その暗欠点５に
より透過照明光Ｌ1 の一部が反射され、撮像部２４に到
達しないが、その一方で、明視野照明光Ｌ2 の一部がそ
の暗欠点５で反射され、撮像部２４側に導かれる。その
ため、透過照明光源２１および明視野落射照明光源２２
を調整することによって、撮像部２４により撮像される
光像Ｉ2 に暗欠点５に相当する像が含まれないようにな
り（図４）、暗欠点５が存在する場合も存在しない場合
も、同一の光像Ｉ2 となる。

【００２４】これに対し、シャドウマスク１０にゴミ６
が存在する場合には、例えば図５に示すように、ゴミ６
によって明視野照明光Ｌ2 の一部が散乱され、また透過
照明光Ｌ1 の一部が反射されることがある。その結果、
撮像部２４により撮像される光像Ｉ2 にゴミ６に相当す
る暗部１６が含まれる（図６）。なお、ゴミは大孔径側
にあっても、ゴミに対応する暗部を得ることができる。

【００２５】このように、シャドウマスク１０の大孔側
主面に透過照明光Ｌ1 を、さらに小孔側主面に明視野落
射照明光Ｌ2 を照射することにより、暗欠点５の有無に
かかわらず、ゴミ６の有無によりシャドウマスク１０の
光像Ｉ2 が異なる。すなわち、ゴミ６が存在する場合に
のみ、光像Ｉ2 にゴミ６に対応する像、つまり暗部１６
が含まれる。

【００２６】こうして光像Ｉ2 が撮像されると、上記と
同様に、その光像Ｉ2 に関連する信号をＡ／Ｄ変換器２
５でディジタル画像信号に変換した後、ＲＡＭ２７に第
２画像データＩＤ2 として記憶する。

【００２７】これに続いて、ステップＳ３で、ＲＡＭ２
７から第１画像データＩＤ1 を読み出し、暗欠点５およ
びゴミ６の座標データを求める。このステップＳ３で
は、座標データを、従来より周知の画像処理方法を用い
て求めることは容易であるが、上述した理由から、光像
Ｉ1 からその求めた座標が暗欠点５に相当するものなの
かゴミ６に相当するものなのかを特定することはできな
い。なお、以下の説明の便宜から、このステップＳ３
で、ゴミ６に相当する２つの座標データ（Ｘ1 ，Ｙ1
），（Ｘ2 ，Ｙ2 ）と、暗欠点５に相当する座標デー
タ（Ｘ3 ，Ｙ3 ）とが求められたものと仮定する。

【００２８】次に、ステップＳ４で、ＲＡＭ２７から第
２画像データＩＤ2 を読み出し、ゴミ６の座標データを
求める。上記のように光像Ｉ2 にはゴミ６に対応する暗
部１６のみが存在し、暗欠点５がシャドウマスク１０に
存在したとしても光像Ｉ2 には反映されないため、第２
画像データＩＤ2 からゴミ６の座標データ（Ｘ’1 ，
Ｙ’1 ），（Ｘ’2 ，Ｙ’2 ）のみを正確に求めること
ができる。

【００２９】そして、ステップＳ５で、ステップＳ４で
求めた座標データ（Ｘ’1 ，Ｙ’1），（Ｘ’2 ，Ｙ’2
）に基づき第１画像データＩＤ1 を補正する、つまり
第１画像データＩＤ1 からゴミ６に関するデータを選択
的に排除する。図７は、このデータ補正処理を示すフロ
ーチャートである。以下、図７を参照しつつデータ補正
処理について説明する。なお、ここでは、上記のように
して求められたステップＳ３で求められた座標データを
（Ｘi ，Ｙi ）（ただし、i=0,1,2,... である）で表現
し、ステップＳ４で求められた座標データを（Ｘj ，Ｙ
j ）（ただし、j=0,1,2,... である）で表現する。

【００３０】まず、ステップＳ５１でカウント値ｉを、
またステップＳ５２でカウント値ｊをそれぞれリセット
する。そして、ステップＳ５３で、

【００３１】

【数１】

【００３２】

【数２】

【００３３】にしたがって、ＸおよびＹ座標値の差分Δ
Ｘi ，ΔＹi を求める。

【００３４】そして、ステップＳ５４で、Ｘ座標値の差
分ΔＸi が十分に小さく（ΔＸi ＜ε）、しかもＹ座標
値の差分ΔＹi も十分に小さい（ΔＹi ＜ε）かどうか
を判別する。このことは、第１画像データＩＤ1 の座標
（Ｘi ，Ｙi ）での画像データがゴミ６に対応するデー
タであるか否かを判別することにほかならない。このス
テップＳ５４で”ＹＥＳ”と判別すると、ステップＳ５
５に進み、座標（Ｘi，Ｙi ）を中心として周辺の画像
データを正常レベルの画像データに置換する。「正常レ
ベル」とは、ゴミ６を除いたときの明るさレベルをい
い、また「置換する範囲」としては、例えばε四方程度
に設定すればよい。こうして、第１画像データＩＤ1 か
らゴミ６に関連するデータが除かれる。

【００３５】そして、ステップＳ５５での画像データの
置換が完了すると、カウント値ｊが最終値ｊ（ＥＮＤ）
と一致するかどうかを判別し（ステップＳ５６）、”Ｎ
Ｏ”と判別すると、カウント値ｊをインクリメントし
（ステップＳ５７）、ステップＳ５３に戻る。なお、ス
テップＳ５４で”ＮＯ”と判別した場合も同様である。

【００３６】一方、ステップＳ５６で、”ＹＥＳ”と判
別すると、さらにステップＳ５８で、カウント値ｉが最
終値ｉ（ＥＮＤ）と一致するかどうかを判別する。そし
て、このステップＳ５８で”ＮＯ”と判別すると、カウ
ント値ｉをインクリメントし（ステップＳ５９）、ステ
ップＳ５２に戻る。また、ステップＳ５８で”ＹＥＳ”
と判別すると、データ補正処理を終了する。

【００３７】以上のようにして、第１画像データＩＤ1
の補正が完了すると、その補正画像データを用いて暗欠
点５を評価し（ステップＳ６）、さらにステップＳ７で
シャドウマスク１０の良否判定を行う。

【００３８】このように、この実施例では、ゴミ６に関
連するデータが取り除かれた補正画像データに基づきシ
ャドウマスク１０を評価するようにしているので、ゴミ
の影響を受けず、正確にシャドウマスクの欠陥を検査す
ることができる。

【００３９】Ｂ．第２実施例

【００４０】図８は、この発明にかかるシャドウマスク
検査装置の第２実施例を示す図である。図１との比較か
らわかるように、第２実施例のシャドウマスク検査装置
が第１実施例のそれと相違する点は、明視野落射照明光
源２２の代わりに暗視野落射照明光源２２´が設けられ
ており、暗視野落射照明光源２２´からの照明光を直接
シャドウマスク１０の小孔側主面に照射し、シャドウマ
スク１０で散乱された光のみが撮像部２４によって受光
される、すなわち暗視野落射照明系が構成されている点
である。なお、その他の構成は、第１実施例と同一であ
るため、同一符号を付して、その説明を省略する。

【００４１】次に、図９を参照しつつ、第２実施例のシ
ャドウマスク検査装置によるシャドウマスク検査手順に
ついて説明する。まず、ステップＳ１で、上記第１実施
例と同様にして、透過照明光のみによりシャドウマスク
１０の透過光像Ｉ1 を撮像し、第１画像データＩＤ1 を
ＲＡＭ２７に記憶する。

【００４２】そして、次のステップＳ２で、暗視野落射
照明光源２２´のみを点灯させる。このとき、暗視野落
射照明光源２２´からの照明光は、図８に示すように、
所定の入射角（＞０°）でシャドウマスク１０の小孔側
に入射されるため、シャドウマスク１０の小孔側主面で
散乱された光のみが撮像部２４側に導かれる。このた
め、暗視野落射照明光源２２´の照明光によるシャドウ
マスク１０の光像Ｉ3 にはゴミ６に対応する明部１６´
のみが存在し、暗欠点５がシャドウマスク１０に存在し
たとしても光像Ｉ3 には反映されないため、第２画像デ
ータＩＤ2 からゴミ６の座標データのみを正確に求める
ことができる。その理由について、図１０に基づき説明
する。

【００４３】シャドウマスク１０にゴミ６が存在する場
合には、同図に示すように、暗視野照明光Ｌ3 のほとん
どはシャドウマスク１０の主面で反射されるが、ゴミ６
に入射された光は散乱され、その一部の散乱光Ｌ4 とし
て撮像部２４側（同図の上方側）に導かれる。その結
果、撮像部２４で撮像されるシャドウマスク１０の光像
Ｉ3 には、ゴミ６に対応する明部１６´が含まれる（図
１１）。なお、ゴミは大孔径側にあっても、暗視野照明
光Ｌ3 の角度を適当に選ぶことによって、このゴミに対
応する明部を得ることができる。また、大孔径側に暗視
野照明を付加してもよい。これに対し、シャドウマスク
１０にゴミ６が全く付着していない場合には、暗欠点５
が存在する場合もしない場合も、暗視野照明光Ｌ3 の散
乱はないため、シャドウマスク１０の光像Ｉ3 には、明
部が全く含まれないものとなる。その結果、光像Ｉ3 に
対応する画像データＩＤ2 から、暗欠点５の有無にかか
わらず、ゴミ６の存在を判別することができる。

【００４４】上記のようにして、第１および第２画像デ
ータＩＤ1 ，ＩＤ2 を求めた後、上記第１実施例と同様
に、ステップＳ３〜Ｓ７を実行して、シャドウマスク１
０の良否判定を行う。なお、その手順については、第１
実施例とほぼ同様であるため、ここでは説明を省略す
る。

【００４５】以上のように、第２実施例によれば、暗視
野照明によって撮像したシャドウマスク１０の光像Ｉ3
に関連する第２画像データＩＤ2 により第１画像データ
ＩＤ1 からゴミ６に関連するデータを取り除いた補正画
像データを求め、さらに、その補正画像データに基づき
シャドウマスク１０の評価するようにしているので、第
１実施例と同様の効果が得られる、つまりゴミの影響を
受けず、正確にシャドウマスクの欠陥を検査することが
できる。

【００４６】Ｃ．その他

【００４７】上記第１および第２実施例では、検査対象
たるシャドウマスク１０を同一場所に位置決め・保持
し、照明を切り換えて第１および第２画像データＩＤ1
，ＩＤ2 を求めるようにしているが、第１および第２
画像データＩＤ1 ，ＩＤ2 をそれぞれ異なる場所で求め
るようにしてもよい。すなわち、ある場所で従来と同様
にしてシャドウマスク１０の透過光像Ｉ1 を撮像して第
１画像データＩＤ1 を求めた後、シャドウマスク１０を
別の場所に移動させ、さらに透過照明と明視野落射照明
とを同時に行う、あるいは照明光を切り換えて、第２画
像データＩＤ2 を求めるようにしてもよい。この場合、
シャドウマスク１０を連続的に搬送しながら検査を行う
ことができ、上記第１および第２実施例の効果に加え、
検査に要するタクトタイムを短縮することができるとい
う効果がさらに得られる。

【００４８】なお、上記実施例では、透過照明光がシャ
ドウマスク１０の大孔側主面に照射されるように、シャ
ドウマスク１０を位置決めしているが、以下の場合を除
いて、逆に配置してシャドウマスク１０の検査を行って
もよい。

【００４９】シャドウマスク１０の配置が制限されるの
は、第１実施例の態様で検査し、しかも小孔３の径Ｗ3
と大孔４の径Ｗ4 が大きく異なる場合である。というの
も、図１２に示すように、透過照明が小孔３側に照射す
る一方、明視野落射照明光が大孔４側に照射されるよう
にシャドウマスク１０を位置決めした場合、上方より明
視野落射照明すると、その照明光Ｌ2 が透孔２内部で反
射され、その一部が撮像部２４側に戻らず、光像Ｉ2 に
暗部が形成されてしまうことがあるためである。

【００５０】また、上記実施例では、まず第１画像デー
タＩＤ1 を求めた後、第２画像データＩＤ2 を求めてい
るが、この順序が逆転してもよいということは言うまで
もない。

【００５１】

【発明の効果】請求項１および３の発明によれば、透過
照明光源および明視野落射照明光源からの照明光をシャ
ドウマスクに照射することによりシャドウマスクに付着
した異物に関する情報を求めて、シャドウマスクを検査
するようにしているので、シャドウマスクに付着したゴ
ミなどの異物の影響を受けることなく、正確にシャドウ
マスクの欠陥を検査することができる。

【００５２】また、請求項２および４の発明によれば、
暗視野落射照明光源からの照明光をシャドウマスクに照
射することによりシャドウマスクに付着した異物に関す
る情報を求めて、シャドウマスクを検査するようにして
いるので、上記と同様の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明にかかるシャドウマスク検査装置の第
１実施例を示す図である。

【図２】図１のシャドウマスク検査装置によるシャドウ
マスクの検査工程を示すフローチャートである。

【図３】暗欠点が存在するシャドウマスクに透過照明光
と明視野落射照明光とを同時に照射したときの光の進む
様子を示す模式図である。

【図４】暗欠点がシャドウマスクに透過照明光と明視野
落射照明光とを同時に照射した場合の光像を示す図であ
る。

【図５】ゴミが存在するシャドウマスクに透過照明光と
明視野落射照明光とを同時に照射したときの光の進む様
子を示す模式図である。

【図６】ゴミがシャドウマスクに透過照明光と明視野落
射照明光とを同時に照射した場合の光像を示す図であ
る。

【図７】データ補正処理を示すフローチャートである。

【図８】この発明にかかるシャドウマスク検査装置の第
２実施例を示す図である。

【図９】図８のシャドウマスク検査装置によるシャドウ
マスクの検査工程を示すフローチャートである。

【図１０】ゴミが存在するシャドウマスクに暗視野落射
照明光を照射したときの光の進む様子を示す模式図であ
る。

【図１１】ゴミがシャドウマスクに暗視野落射照明光を
照射した場合の光像を示す図である。

【図１２】シャドウマスクに大孔側主面を明視野落射照
明した場合の透孔内部での光反射の様子を模式的に示し
た図である。

【図１３】この発明の背景技術となるシャドウマスクを
示す図である。

【図１４】暗欠点が存在するシャドウマスクに透過照明
光を照射したときの光の進む様子を示す模式図である。

【図１５】暗欠点あるいはゴミが存在するシャドウマス
クに透過照明光を照射した場合の光像を示す図である。

【図１６】ゴミが存在するシャドウマスクに透過照明光
を照射したときの光の進む様子を示す模式図である。

【符号の説明】

２透孔３小孔４大孔１０シャドウマスク２１透過照明光源２２明視野落射照明光源２２´ 暗視野落射照明光源２４撮像部２６制御部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小林正嘉京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の透孔が形成されたシャドウマスク
を検査するシャドウマスク検査方法において、前記シャドウマスクの一方主面に透過照明光を照射する
とともに、前記シャドウマスクの他方主面を明視野落射
照明する一方、前記シャドウマスクの前記他方主面側
で、前記シャドウマスクを透過した透過光および前記シ
ャドウマスクの前記他方主面で反射された反射光を受光
し、前記シャドウマスクの光像を撮像して、前記シャドウマスクに付着した異物に関する情報を求め
ることを特徴とするシャドウマスク検査方法。
【請求項２】複数の透孔が形成されたシャドウマスク
を検査するシャドウマスク検査方法において、前記シャドウマスクの一方主面を暗視野落射照明する一
方、前記シャドウマスクの前記一方主面側で、前記シャ
ドウマスクからの散乱光を受光し、前記シャドウマスク
の暗視野光像を撮像して、前記シャドウマスクに付着した異物に関する情報を求め
ることを特徴とするシャドウマスク検査方法。
【請求項３】複数の透孔が形成されたシャドウマスク
を検査するシャドウマスク検査装置において、前記シャドウマスクの一方主面に透過照明光を照射する
透過照明光源と、前記シャドウマスクの他方主面を明視野落射照明する明
視野落射照明光源と、前記シャドウマスクの前記他方主面側に配置され、前記
シャドウマスクからの光を受光して、前記シャドウマス
クの光像を撮像する撮像手段と、を備えたことを特徴と
するシャドウマスク検査装置。
【請求項４】複数の透孔が形成されたシャドウマスク
を検査するシャドウマスク検査装置において、前記シャドウマスクの一方主面を暗視野落射照明する暗
視野落射照明光源と、前記シャドウマスクの前記一方主面側に配置され、前記
シャドウマスクからの光を受光して、前記シャドウマス
クの光像を撮像する撮像手段と、を備えたことを特徴と
するシャドウマスク検査装置。