JPS59202209A - 感電子線及び感ｘ線重合体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子線又はＸ線に暴露してレジスト像を形成
するのに適当な、写真学的にネが型の作用をする重会体
に関する。

集積回路（ＩＣ）の製作において、その最先端技術とし
て電子線７ジストがある。なぜなら、成子線レノスト全
使用しｆｃ揚合、光（−ｆ祝元腺）にのみ応答するレノ
ストの場合よシもさらに攻細な画像を形成することが可
能であるからである。このような１子線レノストは、そ
れに１５ｋｅＶの電子線に暴露した場せ、５Ｘ１０””
クーロン／ンよりも大きな感度を有し、そして現蹟液の
溶剤に原因する変形に対する耐性や引き続くガ日工工程
、例えばエツチング、イオン注入等に対する抵抗金有す
ることが望ましい。

従来技術 ネガ型の作用金する′電子線レノストは米国特許第４，
２８９．８４２号に記載されている。このレゾストは、
特定の悪４３欠において、゛ン′リルメタクリレートの
共和計体刀ｊらなる。このようなレゾストは。

と９わけ有用でりるというものの、完全に理肩されるに
至っていない理由のため、それが塗布される環視に対し
て厄々敏感であるということが立６１Ｅされている。さ
らに詳しく述べると、この種のレノストは、例えば環境
中の水分の蛍のようなもの金紙らす工程がとられていな
い場合、ひどい”エツジスケーリング″（端部剥Ｈ＃ｌ
、すなわち、１鱗片に似ており、現１度後の画像の端部
から突き出しておりかつ除去不可能であるＡ菌量の未露
光Ｍ合体）全ｍｌ々生じる傾向全ゼする。

発明の目的 本グＣ明の目的は、従来技術のレノストと同様に周囲条
件に１改感でないようなネガ型の作用をするレノスト全
調製するのに有用な重合体を提供することにある。

発明の構成 本発明の新規な重合体は、写真学的にネガ型の作用をす
るレスポンス性を有し、そして、１５ｋｅＶの電子線に
暴露した場合、５　Ｘ　Ｉ　Ｆ７クーロン／ｍ２よシも
大きな感度金星する。さらに、かかる重合体は、それぞ
れ上記の構造式により表わされる繰り返し単位Ａ及びＢ
： （Ａ）　　　　　　　　　　（Ｂ） （上式において、 Ｒ１は−Ｃｆ（−ＣＩ（２又は−〇＝Ｃｆ（であり、Ｒ
はメチル基又は水素であシ、 ２は、炭素及び酸累から選らばれた３〜６間の環原子を
有する複素環であシ、 ｍは０，１．２父は３であり、 ｎは１又は２でめシ、そして ｒはＯ又はｌである）を有し、 そして前記単位Ａは前記重合体の５０〜９５モル条でわ
りかつ前記単位Ｂは前記重合体の５〜５０モルチである
。

本う０明の重合体は、それらを支持体上に層の形で塗イ
１１する場合、電子線レノストとして有用である。本発
明の重訃体は、その也の形をした高エネルギー輻射線、
例えばＸ線に露光するためのレゾストとしてもまた・汀
用である〇 本発明の特定の重合体は顕著な４子線感度、そして神々
の周囲条件下におけるエツジスケーリングに対する抵抗
の両者全呈示することができる。

゛′エッノスクーリング″とは、それを不願明ａ書にお
いて用いた場合、レノスト像上に形成されるスケール（
：、Ａ片状９勿）を指す。例えば、特定の高湿度条件Ｆ
にゴ？いて、レノストでめるポリ（アリルメククリレー
ト−コーヒドロキシエチルメタクリ　レー　ト　）　（
＾Ｑ＝４２，０００）　は、　　５＝１０　μＩｎ間隔
のライン・′？ターンに露光し、そして溶剤：２−エト
キシエチルアセテート／イソゾロビルアルコール（容量
比１：１）で現像した後、ラインの端部から突き出たス
ケール様のレノスト部分全顕微説下に示すでろろう。こ
れらのスケール部分は。

溶剤によシ現像（除去）されなかったＶ了かシでなく、
また、常用のスカム除去法によっても除去されることの
ない、ンジスト這合体の未露光部分である。このような
スケールは、改索ノラズマによｐ拝謁に除去可能である
。屡々遭遇するところの少量のスカムから区別すること
ができる。スカムはもちろん紋理δれざるものでめる。

なぜなら、スカムが生成した場合、基材のうち引き続く
エツチングから保５きれるべきではない領域上において
それらのスカムが保護レノストとして作用するからでる
る。

レノストは、上記した共屯合体を有する。先に述べたよ
うに１式中の２は１製Ａｉｊｉｌであり、そして、本願
明細書において使用した場合、″核糸還”なる語には置
換及び非置換９限素１呆、そして先に特定した必要条件
を満たす環原子をもった飽和及び不飽和の複素環の両者
が含まれる。このような癒換された凍上の置換基の好ま
しい例として、それぞれが１〜３個の炭素原子を有する
１個又は２個のアルキル基、例えばメチル基、エチル基
、グロビル基、イノノロビル基等；ハロダン、例えば塩
素、弗素弄；シアノ基、そして；１〜３個の炭素原子を
有するアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基及
びゾロボキシ基がある。特に好ましい複索環として、グ
リシツル基、フリル基、ピラニル基、そして２，２−ソ
メチルノオキサールアニル基がある。本発明に関して有
用な共重合体の特に好ましい例をあげると、次の通りで
ある：ポリ（アリルメタクリレート−コーグリシジルメ
タクリレート）、ポリ（アリルメタクリレートーコ−２
，２−ツメチル−４−ソオキサールアニルメチルメタク
リレート）、ポリ（ｆ口・９ルギルメタクリレートーコ
−２，２−ツメチル−４−ノオキサールアニルメチルメ
タクリレート）５ポリ〔アリルメタクリレートーコ−（
２１（−２−テトラヒドロビラニルオキン〕エチルメタ
クリレート〕５ポリ（アリルメタクリレート＝コー２−
フルフリルメタクリレート）５　ポリ（７’口・やルキ
゛ルメタクリレートーコーグリンゾルメタクリレート）
及びポリ（アリルメタクリレートーコ−２，２−ツメチ
ル−４−ジオキサ−ルアニルメチルアクリレート）。

本発明の重合体中の繰９返し単位を形成するため、その
池のコモノマーを使用することができる。

但し、それらのコモノマーが好ましいコモノマーとの相
溶性を有している場合（すなわち、それらのコモノマー
が重合体の架諧結合に影響を及トチさない場合）に限ら
れる。好ましくは５最犬の感度と耐エツチング性を保証
するため、前記繰り返し単位Ａ及びＢの和は重合体の最
低７０モル条である。その他のコモノマーが含ま１１Ｌ
ないのが好ましい。本発明の重合体は、良好な付＞１カ
ならびに旨感度及び良好な耐プラズマエッチ性を有する
ことが判明した。

本発明の重合体は、５Ｘ１０−″７クーロン／ｒｍ２　
を上履る１子線感度を有する。このような結果は、殆ん
どの場合に、１００，０００をＬ廻る重着平均分子量（
ここでは“％”　と記す）の時に達、収することができ
る。したがって、本発明の重合体を使用して弁材に高感
度のネガ型底子１祿記録レノスト全調製することができ
る。本願明細書に記載の電子線感度は、１七法に従って
、同じ塗膜全量を増大させた異なる。′重量に暴露し、
そして現イ娠後に露光域に残留せるレノストのｍ　’ｆ
：　、Ａｌ１定することによって決定した。この感度は
、初期の塗膜厚の５０φを保持するために岨ノＪｙ、物
を十分に一４橋結合させるのに必亥な線量で多る。線１
が少なければ少ないほどより少ない量のエネルギーが必
要でしり、そして、したがって、重合体がよυ高感度と
なる。

本発明の有用な重合体において５そ０らの１合体の分子
量は広く夏化する。かかる重合体は、その塗布を可能な
らしめるため、選らばｉｚた溶剤中に２いて七分に低い
粘度を有することが好ましい。

判明したとこ、うによると、有用な粘度は、２５℃のＮ
、Ｎ−ツメチルホルムアミド中で測定した場合、辿常０
．３もしくはそれ以下の固有粘度である。しかしながら
１重合体の分子量が非常に小さい・場合、その分子量に
より電子線感度が低下せしめられる傾向にある。好まし
くは、したがって、重合体のスチレン当量重量平均分子
量は５ダル透過クロマトグラフイー（Ｇｐｅ）分析によ
！ｌ決定した場合、１０．０００〜７０，０００である
。ざらに好ましくは、かかる重量平均分子量は、ノオキ
サールアニル共重合本に関して２５，０００〜４５，０
００、グリシゾル及びフルフリル共重合体に関して３０
，０００〜５０，０００、そしてテトラヒドロピラニル
オキシ共重合体に関して２５’、０００〜５５，０００
である。

本発明の重合体にはさらに別の利点もある。すなわち、
塗布した重合体の改良さｎたフィルム性。

例えばレノストが塗布σルるべき支持体に対する付着力
がそれである。これらの性質は、コモノマーのあるもの
が不存在である場合に得られる単独重合体（ホモポリマ
ー）の性質と比較した場合、予想外にすぐれている。例
えば、アリルメタクリレートの単独重合体は、５ＸＩＦ
７クーロン／、７７＋２よシも大きなΩ量に暴露した場
合、クロームクラッドガラスに対する不満足な−１”ｆ
　庸力を呈するにすぎない。同様に、グロパルギルメタ
クリレートの単独型合本は、過剰露光時、よシ小さい付
席カを呈する傾向にある。ポリ（ノオキサールアニルメ
タクリレ〜ト）もまた画像現１象の後に付着力の低下を
呈示する。それというのも、かかる重合体は上記したよ
うな線量の時に電子線に対する感度を有さす、したがっ
て、架橋結合して不溶性部分を形成しないであろうから
でおる。ポリ（グリシジルメタクリ／−ト）は、付着力
を有するというものの、貯蔵時に不安定でおる。

本発明の重合体は、常用の合成法によって調製すること
ができる。不所望な架橋結合を回避するため、希薄な反
応条件が有利である。以下の例１〜例４では本発明の重
合体の調製全説明する。

実施例 例１： ポリ（アリルメタクリレートーコ−２，２−ツメチル−
４−ノオキサールアニルメチルメタクリレート） ５ノの３首フラスコ中で、２゜５１のＬ２−ノクロロエ
タン（ＤＣｇ）を窒禁雰囲気下に温和な還流まで加熱し
た。また、下記のものを含有する単量体溶液を調製した
： １００ｇ　　　アリルメタクリレ−）（０，７９モル）
５６．６ｆ！２．２−ジメチル−４−ノオキサールアニ
ルメチルメタクリレート（０，２６モル）ｏ、ｓｒｇ　
　　２．２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル
）（ＡＩＢＮ　） ７５０ｎｌ　　　　ＤＣｇ この単量１本溶液を前記攪拌還流ＤＣｇに徐々に添加し
た（１時間以上をかけて）。添加が完了した後、還流全
２０時間にわたって保持した。この反応混合物を冷却し
、濾過し、そして回転蒸発器上でユＩｇまで減量した。

生成＊を１０ノのはげしく攪拌したヘゲタン中で沈殿さ
せた。沈殿をブ７ナー漏斗上で果め、新品のへブタンで
洗浄し、次いで窒素全光しながら真空下に２０℃で４８
時間にわたって転線した。収量：　１０２．４　ｇ（６
５％）。

（ここに記ｆ或のアリルメタクリレート４６体・主）戎
物において、前記した構造式に一致しない重合した環化
アリルメタクリレート単量体の若干量が存在した。） 四現　　、４π＝１８，４６９ ｖＩ７＝４２，６４１ 比（１６７Ｍ、；　）　＝　２．３１ 以下余白 元素分所 Ｎ優）　　　　Ｃ＜劫　　　Ｈ（支））理ａｌｌｌｉ直
　　　０　　　　　　　６４．３　　　　８．０実ｆｆ
１ｌＪ　ｉ直　　　＜：０．３　　　　６４．２　　　
　８．０例２：　　゛ ポリ（アリルメタクリレートーコーグリシソル磁気攪拌
機、ｉ、流冷却器、均圧部下６・―斗５室累装入管及び
加熱ソヤケットを長講した１２Ｊの丸底反応容器に４．
５１ＱＤＣＥを装填した。この系を子糸でノぐ一ノし、
そして還流を擢立した。この反応容器に、２００ｇのア
リルメタクリレート（１，５９モル）、７５＆のグリシ
ノルメタクリン−ト（０，５３モル）及び３ｇの２，２
′−アゾビス（２−メチルノロビオニトリル）　（Ａ１
１３Ｎ）（１，８Ｘ　１０−２モル）の１１　ＤＣＥ中
の靜液を一！一時間をかけて１滴ｒ′：）添加した。還
流を１５時間にわたって保狩した・浴剤の半分を回転蒸
発器上で商人し、そして残りの溶液に２　！ｌ？のはげ
しく攪拌したヘプタンに１滴ずつ添加してＡ６体を沈殿
させた。白色の固庫厘合体をフィルター漏斗上に果め、
５００ｍＡ’（１）ノｔ９羊へブタンで２回況浄し２そ
して刀口熱を伴なイノないで真空中で乾燥した。収量：
２１０ｇ（７６係）。％、＝３４．４５９　、　Ｍｎ　
＝１４．４０７　、　ＬＡ’；、／ＩＶＩ’、　＝　２
．３９　（グル透過りａ−ｑトゲラフイーによる）。

例３： ポリ〔アリルメタクリＶ−）−コー２−（２Ｈ−２−テ
トラヒドロピラニルオキシ）エチルメタクリノート〕＊
（米国荷計第４，２８９．８４２号に１己載の通シ）出
発共瀘酋本を１８００．７ｉ７０Ｋｉ（水ビリシンに溶
解した。このＬ容赦を窒素下ＶＣ攪拌し、ヤして磁波ま
で〃１１温した。仄いで、ノヒドロビラン（２５，５９
，０ｏ３０モル）を添加し、そして還流を６時間にわた
って継続した。次いで、反応混合物を室温まで冷却し、
そして不溶性の電合体を除去するために沖過した。

重合体の浴液をアスピレータ−を辿して水中に沈殿させ
、そして冷水で数回にわた９−Ａ６全に洗浄した。重合
体を集め、そして窒素？流しながら真空下に２０℃で７
２時間にわたって乾燥した。収量：　９４．！９゜ 例４： ポリ（ノロ・ぞルギルメタクリレートーコーグリｃ＝ｏ
　　　　　　　　　　　ｃ＝。

Ｃ＝Ｑ　　　　　　　　　　　Ｃ＝０ １ ｏｃｔ−ｉ　ｃ＝ｃ１（ｏｃＨ２ｃ去〕ｄ２ＤＣｇ（２
，７１）を、窒素雰囲気下に攪拌しながら、静かな還流
まで加温した。単量不−開始バリ溶ｇ＠、　１１１．７
　ｇ　（０，９モル）のノロノぞルキ）Ｖメタクリレー
ト、４２．７．９（０，３モル）のグリ／ノルメタクリ
レート及び０．７７．９のＡＩ　ＢＮを７００ゴのｏｃ
ｇ　ＶＣｍ　Ｍすることによって調製した。この単量体
−開始剤１・容ＦＬを３０分間をかけて添加する間じゅ
う、還流を継続した。Ｒ死金１６時間にイノたって継続
し、そして次に反応容器１２０１：まで戻させた。

ｉ台体高液を回転蒸発器上で蒸元ざぜてその容量を約１
．５ｇまで減少させた。次いで、との減産溶液を１２Ａ
のはげしく攪拌したヘノタンに１滴ずつ添ガロした。粒
状の白色沈殿が得られた。この沈殿を漏斗上に果めるこ
とにより分離した。集めｆｃ重合体をへツタ／で２回に
ｏｊｃＤ仇浄し、そして窒累全流しながら真空下ＶＣ２
０℃で乾燥した。

５０．９　（３２条）の白色厘ピ本が得らｌした。Ｌ鮎
＝６８６７．１幅＝９　Ｇ　０９．　　ａｌ；７Ｍ；、
　＝　１．４　（ポリスチレ／当蛍ム童）。

元糸分析 理論直　　　６５．４　　６，７　　　２８．０実σ）
す１直　　　　　６５．３　　　　６，７　　　　　２
６．７本発明の１台体は、好ましくは、エツチングされ
るべき支持体上にレノストとして塗布さｌしる。

この塗膜（ｉ組成吻は５好筺しくは、白色光下の取９扱
いを町目ヒならしめるため、増感剤及び開始剤を含有し
ｌい。次いで、レジストを乾燥し、１象状露九し、そし
て現１メして未露光部分を除去する。任、はの適当な支
持体が有用である。支持体の特に好ましい例として、半
専体、例えばンリコ／クエノ蔦−、クロームクラ、トガ
ラス、そして金属、゛クリえばアルミニウム金つげるこ
とができる。

塗布上・俣及び現像工程の両者に週常の溶剤が有用であ
る。上記したどちらの工程にも／ば用な溶剤の好ましい
ρりとして、２−メ）−１１−ジエチルアセテ−４，２
−エト−（’シエテルア七テート、２−エトキンエタノ
ール、２−ブタノ／、／クロヘキサノン、ンクロ波／タ
ノン、４−プチロールアテトン。

そしてこルらの浴剤と２−ｆ口・ぐノール又はエタノー
ルの７昆合１勿盆りげろことができる。

重合体を支持体に適用するため、常用の塗布方法が７ぼ
用でおる。好ましい方法は、回転又はスビ／コート法、
ブラシ塗亜法、ドクターブレード塗イＦ法又はホッパー
塗イ■法でめる。このような常用の方法のさらに詳ｉ＋
ａは、Ｐｒｏｄｕｃｔ　ＬｉｃｅｎｓｉｎｇＩｎｄｅｘ
　、　Ｖｏｌ、９２　、１９７１年１２月、Ｐｕｂｌｉ
ｃａｔｉｏｎＡ９２３２．１０９頁、に記載σれている
。

乾燥工程は、好ましくは、肌熱炉（オーブン）中で、任
意に冥仝中で５例えば９０℃で３０分間にわたってべ一
千７グすることによって達成される。

任意でめるけｎども、保護ざｎるべさ領域に対する最終
的なレノスト塗膜の付着力を高めるため、露光及び現像
の後でろってエツチングの前に常用のポストベークエイ
呈を刀■えてもよい。

下層としての支持体のエツチングは、支持体用の化学溶
剤を使用することによって、さもなければプラズマがス
を使用することによって（どちらも常法である）、達成
される。

発明の技術的効果 以下の例５〜例１３では本発明の重合体をレノストとし
て使用することについて説明する。

エッソスケーリングに対する耐性を立証するため、２−
エト千ジエチルアセテート中の下記ＪＩ表の重合体１ｓ
ｉｏ２被ｉ／ｌＪコンウエノ・−上に０．５ミクロンの
膜厚（谷側とも）で塗布した。このレジスト重合体を２
０　ｋｅＶのエネルギーの電子線に像状露光し、相対湿
度１００φで約１２時間にわたって貯蔵し、そして１：
１（容量比）２−エトキシエチルアセテート／イソノロ
パノール・Ｐで３０秒間にわたって現像した。その後、
サンプルをインノロパノールでスピンスプレーリンスし
た。エッノスケーリングに対する耐性を顕微鏡による１
況によって決定した（第１表全参照さｔたい）。

以下企白 第１表 エッジスグーリ 対照　　　ポリ（アリルメタクリレート　　　　　　Ｍ
−コーとドロキンエチルメタ クリノート）（３：ｉ）＊ ５　　　　ポリ（アリルメタクリレート　　　　　　無
−コーグリシノルメタクリＶ　　（エッノスケーリート
）（３：１）　　　　　　　　　　ング全言１ず）６　
　　　ポリ（アリルメタクリレート　　　　　　同上−
ゴー２，２′−ツメチル−４− ジオキ丈−ルアニルメチルメ タフリレート）（３：１） ７　　　ポリ（ノロペルギルメタクリ　　　　　　同上
レー１−コー２，２Ｌツメチル −４−ノオキサールアニノＶメ チルメタクリ７−）Ｘ３：１） ８　　　ポリ〔アリルメタクリｖ−５同上−コー２−（
２ｉ（−２−テト ラヒドロピラニルオキシ）エ チルメタクリレート（３：１） ９　　　　ポリ（アリルメタクリレート　　　　　　同
上−コー２−フルフ１ルレメタク リレート）（３：１） ＊上記第■表において、記載の比率はすべて重合体中に
混入れたコモノマー０モル比によって表わされている。

例５〜例９を反復し、そしてこれらを塗布したウェハに
１５　ｋｅＶで露光を施してそれらの感度を決定した。

感度曲線をプロットし、そして５０％ｊ摸厚点における
感Ｉｆ曲線の傾きとしてコントラスト全求めた。比蚊ｆ
ｉｌＪは例５の手法によシ実施した。

但し、この例の場合、Ｍ壽が３０，７００であるポリ（
アリルメタクリレート−ヨー４−メチル−２ｉ（−２−
ピラノン−６−イルメチルメタクリレ−ドラ重合体とし
て使用した（英国特許公報第１，４４６，９８１号を参
照されたい）。得られた結果は次の第■表に記載の通シ
でめる： 第■表 ５　　ポリ（アリルメタクリレ−３４，５００３，４Ｘ
１０　　　　　１．１トーコーグリ／〉クレメタク リレート） ６　　ポυ（アリルメタクリレ−３８，４００３，５Ｘ
ＩＦ７　　１．２トーコー２．２−ジメチル −４−２シ、Ｍ−シトールりど一ニルメチルメタクリレ
ート ７　　　　！’Ｉ）（ｆｏ−９レキクレｌｆｉり　　１
０，４００　　　２．２Ｘ１０−７　　　１．０す７−
トーコー２，２ー ジメチル−４−レジ；ｒ犬− ノンアとフレメプツレメタクリレ ート） ８　　ポリ〔アリルメタクリレ−　４２，ｔＪＯｏ　　
　２Ｘ１ｔｌ−７　　　０．９４トーコー２−（２Ｈ−
２− テトラヒドロくグ叩しｔキ シ）ユリプレメタクリレート〕 ９　　　ポリ（アリルメタクリレ−　　６２．４００　
　　５．Ｏｘ１０　　　　　　０．８５トーコー２−ン
タレ７リルメ タフリレート 比較　　・・・・・・・・・・・・・・・　　　・・・
・・・・・・　６．ＯＸｌｏ　　　１．１例 比較例の感度は６．ＯＸｌｏ−７クーロン／，蒲２であ
る（この数が大きいことにより示されるように多量の露
ブｔが必要であったことが原因）。かかる感度は本発明
の重合体によシ与えられる≦５×１０−７の直と同感度
ではなく５そして許容不可と考祭さ九た。

例１０〜例１２： 前記例５，例６及び例８を例１０〜例１２として反復し
、そして、現像後、９１．５％ＣＦ４及び８、５％０２
　のプラズマエッチ（１００ｗ、０．７トルの圧力で適
用）によりサンノルをエツチングした。対照として、ポ
リ（メチルメタクリレート）、そしてＫＴＩ　Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌｓ　＋　Ｉｎｃ．　、社から”ＫＴＩ／ＭｇＡ
Ｄ　ＣＯＰ　”なる開襟で入手可能なグリ／ゾルメタク
リレート及びエチルアクリレートの市販の共Ａ【合体の
２つの独立した層を同様に塗布し、露丸し、現像し、そ
して工．ツチングした。例１０〜例１２において、２つ
の対照よりも大きな耐エツチング性が立証された。

例１３： 直行体中に介在させたコモノマーのモル比が３：１であ
るポリ（アリルメタクリ７−トーコー２、２−ツメチル
−４−ノオキサール゛アニルメチルアクリレート）をク
ロームクラッドガラス上に塗布し、１　５　ｋｅＶの１
４工子７謔に露光し、そして２−エトキシエテルアセテ
ート及びエタノールの１：１混合物で１分間にわたって
現塚した。、バ反及びコ特肝出願人 イーストマフ　コダック　力７ノ９ニー特許出願代理人 弁理士　　青　木　　　朗 弁理士　　西　舘　和　之 弁理士　　内　１）卒　男 弁理士　　山　口　昭　之 弁理士　西山雅也 手続補正書（方式） 昭和５９年６月９日 特許庁長官　若　杉和　夫　殿 １、事件の表示 昭和５９年　特許願　　第２５３１５号２、発明の名称 感電子線及び感Ｘ線重合体 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 名称イーストマン　コダック　カンパニー４、代理人 ６、補正の対象 明細書 ７、補正の内容 明細書の浄４（内容に変更なし） ８、添附書類の目録 浄書明細書　　　　　　１通

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、１５ｋｅＶの電子線Ｋ　’）ｈ　ｇ　Ｌ　タｊＪ　
   合Ｋ　５Ｘ１０”クーロン／７よシも大きな感度を呈し
   、それぞれ下記の構、青式により表わされる繰シ返し単
   位Ａ及びＢ： （Ａ）　　　　　　　　　　　（Ｂ） （上式において、 Ｒは−ＣＨ−ＣＨ２又は−Ｃ＝ＣＩ（であシ。 Ｒはメチル基又は水素であシ、 ２は、炭素及び酸素から選らシＩれた３〜６個の環原子
   を有する俵累環であり、 ｍば０，１，２又は３でおシ、 ｎは１又は２であり、そして ｒは０又は１である）を有し、 そして前記単位Ａは厘合体の５０〜９５モルチでめシか
   つ前記単位Ｂは電会体の５〜５０モルチである、写真学
   的にネガ屋の作用をするｊｆＮｌｌｔ体。