JPS59197806A - 距離測定装置 - Google Patents
距離測定装置Info
- Publication number
- JPS59197806A JPS59197806A JP7136583A JP7136583A JPS59197806A JP S59197806 A JPS59197806 A JP S59197806A JP 7136583 A JP7136583 A JP 7136583A JP 7136583 A JP7136583 A JP 7136583A JP S59197806 A JPS59197806 A JP S59197806A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- distance
- measured
- circuit
- light
- slit
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/026—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、被測定物と基＄面との微少距離を測定する距
離測定装置に関する。
離測定装置に関する。
半導体ウェー−やマスク等の試料（二敵細パターンを形
成する技術として光露ツＬ、電子ビーム露光。
成する技術として光露ツＬ、電子ビーム露光。
その他各種の露光方法が開発さｌしているが、このよう
な分野では試料（被測定物）と対物レンズ主面（基準面
）との距離を高精度（二定める必要がある。被測定物と
基準面との距離を測定し、被測定物と基準面とを一定距
離（二制御し、レンズの焦点合わせを行なう（二は従来
、被測定物（二斜めから光を当て、その反射光の位置を
２次元ＣＯＤ等で検出している。
な分野では試料（被測定物）と対物レンズ主面（基準面
）との距離を高精度（二定める必要がある。被測定物と
基準面との距離を測定し、被測定物と基準面とを一定距
離（二制御し、レンズの焦点合わせを行なう（二は従来
、被測定物（二斜めから光を当て、その反射光の位置を
２次元ＣＯＤ等で検出している。
しかしながらこの棟の手法（二は次のような問題があっ
た。−被測定物の表面はエツチング処理等により凹凸が
できる。この凹凸の端に元が当ると反射光の位置は被測
定物と基準面との距離を示さない。
た。−被測定物の表面はエツチング処理等により凹凸が
できる。この凹凸の端に元が当ると反射光の位置は被測
定物と基準面との距離を示さない。
本発明は、凹凸のある被測定物と基準面との距離を冒棺
匿（二測定する微小距離測定装置を提供することを目的
としている。
匿（二測定する微小距離測定装置を提供することを目的
としている。
本発明は、被測定物（−斜め（ニマルチスリットの光を
当て、その反射光を２次元イメージセンサ等で検出する
検出した複数のスリット像の位置と間隔を測定−づ−る
こと（−より被測定物の凹凸による誤差を補正するもの
である。
当て、その反射光を２次元イメージセンサ等で検出する
検出した複数のスリット像の位置と間隔を測定−づ−る
こと（−より被測定物の凹凸による誤差を補正するもの
である。
本発明（−よれば、仮測定物（−凹凸があっても複数の
スリット像の間隔１位置を測定することによシ、補正し
、被測定物と基準面との距離を高精度（二検出すること
ができる。
スリット像の間隔１位置を測定することによシ、補正し
、被測定物と基準面との距離を高精度（二検出すること
ができる。
〔発明の実施例〕
第１図は本発明の一実施例を示す概略構成図である。図
中１は光学鏡筒でこの鏡筒下面（基準−２（１は対物レ
ンズ３が取りつけである。光源４から発した元はスリッ
ト５ （スリット２本）を介して被測定物６に照射され
る。この光照射により被測定物６から反射した反射光は
２次元Ｃ０Ｄ７ｆ二検出される。２次元ＣＣＤ ７はＣ
ＣＩ］駆動回路８により駆動され、直列信号９を発生す
る。直列信号９は２値化回路（＝より２値信号１１（二
変換され、位置座標回路１２（二人力される。位置座標
回路１２はＣＯＤ駆動回路から同期信号１３を入力され
る。位置座標回路１２により２本のスリット像の座標が
与えられる。
中１は光学鏡筒でこの鏡筒下面（基準−２（１は対物レ
ンズ３が取りつけである。光源４から発した元はスリッ
ト５ （スリット２本）を介して被測定物６に照射され
る。この光照射により被測定物６から反射した反射光は
２次元Ｃ０Ｄ７ｆ二検出される。２次元ＣＣＤ ７はＣ
ＣＩ］駆動回路８により駆動され、直列信号９を発生す
る。直列信号９は２値化回路（＝より２値信号１１（二
変換され、位置座標回路１２（二人力される。位置座標
回路１２はＣＯＤ駆動回路から同期信号１３を入力され
る。位置座標回路１２により２本のスリット像の座標が
与えられる。
基準面２と被測定物６の距離りを２本のスリット像座標
から演算する回路が距離演算回路１４である。
から演算する回路が距離演算回路１４である。
第２図は２次元ＣＣＤ ７と被測定物６から反射した２
本のスリット像１５．１６の関係を示す。基準面２と被
測定物６との距離りが大きくなると第２図でスリット像
は下（二、距離りが小さくなるとスリット像は上（−移
動する。被測定物６（二四凸がなければ２本のスリット
像の間隔は一定である。
本のスリット像１５．１６の関係を示す。基準面２と被
測定物６との距離りが大きくなると第２図でスリット像
は下（二、距離りが小さくなるとスリット像は上（−移
動する。被測定物６（二四凸がなければ２本のスリット
像の間隔は一定である。
第３図は被測定物６（二凹凸がある場合の２次元ＣＣＤ
７上でのスリット像１５．１６で競る。
７上でのスリット像１５．１６で競る。
第３図のスリット像１５．１６が被御」魔物６の凹凸（
二よシネ連続（−なる場合はスリット像間の距離は一定
でなければならないという条件をつけてスリット像１ｂ
ｉの距離の異なるスリット像は無視し、スリンｉ・像間
距離が一定のスリット像の座標から被ωり魔物６と基準
面２との距離りを決定する。
二よシネ連続（−なる場合はスリット像間の距離は一定
でなければならないという条件をつけてスリット像１ｂ
ｉの距離の異なるスリット像は無視し、スリンｉ・像間
距離が一定のスリット像の座標から被ωり魔物６と基準
面２との距離りを決定する。
第１，２スリット像１５．１６の差りより太きい。
小さいスリットデータは無視した第１．第２スリット像
１５．１６をまとめた回帰直巌全ｙ＝ａｘ＋ｂ とする、。
１５．１６をまとめた回帰直巌全ｙ＝ａｘ＋ｂ とする、。
第４図のように被測定物６（二人射する光の入射角をｄ
と−ｆれば被測定物６が距離ｈ （７）時、上記の回帰
直＃！全ｙ ＝ ａｘ十ｂｈ被測定物６が距離ｈ＋△ｈ
の時上記の回帰直線をｙ＝ａｘ十ｂｈ＋Δｈとすれば、
ｂｈ −△１ｃｏｓθ −（ｂｈ＋△ｈ −ｂｈ）ｃｏｓ ａ となる。
と−ｆれば被測定物６が距離ｈ （７）時、上記の回帰
直＃！全ｙ ＝ ａｘ十ｂｈ被測定物６が距離ｈ＋△ｈ
の時上記の回帰直線をｙ＝ａｘ十ｂｈ＋Δｈとすれば、
ｂｈ −△１ｃｏｓθ −（ｂｈ＋△ｈ −ｂｈ）ｃｏｓ ａ となる。
上述した実施ｉ／１」てはスリットが２本であるが、複
数のスリットを用いることにより精度を向上させること
もできる。
数のスリットを用いることにより精度を向上させること
もできる。
第１図は本発明（二よる距離測定装置の一実施例を示す
構成図、第２図及び第３図は２次元ＣＣＤとスリット像
の関係を示す説明図、第４図は２次元ＣＣＤと反射光の
関係を示す説明図である。 １・・・光学鏡筒、 ２・・・基準面、 ３−・・対物レンズ、 ４・・・光源、 ５・・・スリット、 ６・・・被測定物、 ７・・・２次元ＣＣＤ、 ８・・・ＣＯＤ地動回路。 ９・・・直列信号、 １０・・・２値、化回路、 １１・・・２値化信号、 １２・・・位置座標回路、 １３・・・同期信号、 １４・・・距離演算回路。 （７３１７） 代理人 弁理士 Ｅｌｌｌ 近 憩
佑（ほか１名）第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ＦＩＩＪ
構成図、第２図及び第３図は２次元ＣＣＤとスリット像
の関係を示す説明図、第４図は２次元ＣＣＤと反射光の
関係を示す説明図である。 １・・・光学鏡筒、 ２・・・基準面、 ３−・・対物レンズ、 ４・・・光源、 ５・・・スリット、 ６・・・被測定物、 ７・・・２次元ＣＣＤ、 ８・・・ＣＯＤ地動回路。 ９・・・直列信号、 １０・・・２値、化回路、 １１・・・２値化信号、 １２・・・位置座標回路、 １３・・・同期信号、 １４・・・距離演算回路。 （７３１７） 代理人 弁理士 Ｅｌｌｌ 近 憩
佑（ほか１名）第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ＦＩＩＪ
Claims (2)
- （１） 被測定物と基準面との距離を測定する距離測
定装置において、上記被測定物に斜めから光を当てる光
照射手段と該光照射手段からの光を複数のスリット状の
光線にして上記被測定物（＝照射するスリット手段と、
前記基準面と一体的に移動するように設けられ、前記被
測定物からの複数のス゛１）ソト状の反射光（二対し、
わずかに傾むけられた２次元光検出手段と、該２次元光
検出手段の出力を各ヌリットごと（二水平、垂直座標に
座標化する手段と、該谷スリットの座標の差が一定値以
外の座標を除外してから前記被測定物と前記基準面との
距離を検出し、該被測定物と該基準面との距離を測定す
ること“と動機とする距離測定装置。 - （２） スリット手段をスポット手段としたことを特
徴とする特許６所求の範囲第１項（一記載した距離測定
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7136583A JPS59197806A (ja) | 1983-04-25 | 1983-04-25 | 距離測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7136583A JPS59197806A (ja) | 1983-04-25 | 1983-04-25 | 距離測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59197806A true JPS59197806A (ja) | 1984-11-09 |
Family
ID=13458397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7136583A Pending JPS59197806A (ja) | 1983-04-25 | 1983-04-25 | 距離測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59197806A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6332316A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-12 | ベブ・カ−ル・ツアイス・イエ−ナ | 精密水準測量器 |
| US7599076B2 (en) | 2005-11-11 | 2009-10-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for optically detecting height of a specimen and charged particle beam apparatus using the same |
-
1983
- 1983-04-25 JP JP7136583A patent/JPS59197806A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6332316A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-12 | ベブ・カ−ル・ツアイス・イエ−ナ | 精密水準測量器 |
| US7599076B2 (en) | 2005-11-11 | 2009-10-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method for optically detecting height of a specimen and charged particle beam apparatus using the same |
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