JPS59196532A - 螢光面の形成方法 - Google Patents
螢光面の形成方法Info
- Publication number
- JPS59196532A JPS59196532A JP7028183A JP7028183A JPS59196532A JP S59196532 A JPS59196532 A JP S59196532A JP 7028183 A JP7028183 A JP 7028183A JP 7028183 A JP7028183 A JP 7028183A JP S59196532 A JPS59196532 A JP S59196532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- forming
- guard band
- frame
- phosphor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１（１ｗ（＜業上の利用分野
本発明はカラー陰極線管のパネル内面に螢光面をｒ、成
する方法Ｃ：ｌ−関する。
する方法Ｃ：ｌ−関する。
目 イｊ’ｌ二 来 技 術
ンヤドウマスク方式の陰極線管は、それに使用されるシ
ャドウマスクをフォトマスクとして使用し、三原色螢光
体をそれぞれ露光、現像して螢光面を形成しているが、
シャドウマスク方式以外の例えばビームインデックス方
式のカラープレビジ日ン受像機に使用される陰極線管に
おいては、フォトマスクを別に用意して螢光面を形成し
なければならない。
ャドウマスクをフォトマスクとして使用し、三原色螢光
体をそれぞれ露光、現像して螢光面を形成しているが、
シャドウマスク方式以外の例えばビームインデックス方
式のカラープレビジ日ン受像機に使用される陰極線管に
おいては、フォトマスクを別に用意して螢光面を形成し
なければならない。
第１図はビームインデックス方式のカラーテレビＩ、＞
ａン受像機に使用される陰極線１のパネル（１）を示し
ており、該パネル（１１内面にはカーボンからなるガー
トバンド（２）と該ガートバンド（２）を１夾む如く赤
（Ｒ１・緑ｉＧＩ・肯旧１の三原色螢光体が）１し成さ
れ。
ａン受像機に使用される陰極線１のパネル（１）を示し
ており、該パネル（１１内面にはカーボンからなるガー
トバンド（２）と該ガートバンド（２）を１夾む如く赤
（Ｒ１・緑ｉＧＩ・肯旧１の三原色螢光体が）１し成さ
れ。
その上ｇニアルミニウムのメタルバック膜（３）が形成
されるとともに更にそのメタルバック１ｘ（３１上に前
記三原色螢光体ＩＦｔＪ ＩＧ＋ １１３１と規制的関
連をもってインデックス螢光体（４）が形成されること
によって螢光面（５）が形成される。
されるとともに更にそのメタルバック１ｘ（３１上に前
記三原色螢光体ＩＦｔＪ ＩＧ＋ １１３１と規制的関
連をもってインデックス螢光体（４）が形成されること
によって螢光面（５）が形成される。
次直二−ヒ記螢光面（５）のフ１つ成方法を第２図及び
第３図１参照しつつ説明する。
第３図１参照しつつ説明する。
まず、ガートバンド形成工程として、パネル（１）内面
に感光剤にＰＶＡ（ポリビニルアルコール）を含むレジ
スト（６）を均一に塗布後、乾燥させ、これにその前方
から支持枠（７）Ｃ二支持せしめたガートバンド形成用
フォトマスク（９）を配して光源Ｑ■により感光〔矢印
Ａ〕する〔第６図ケ０と感光した部分（１１）は硬化す
る〔第６図１０１〕 これを水洗するとレジスト（６
）の硬化部分（１１）だけ残る〔第３図し刈〕。
に感光剤にＰＶＡ（ポリビニルアルコール）を含むレジ
スト（６）を均一に塗布後、乾燥させ、これにその前方
から支持枠（７）Ｃ二支持せしめたガートバンド形成用
フォトマスク（９）を配して光源Ｑ■により感光〔矢印
Ａ〕する〔第６図ケ０と感光した部分（１１）は硬化す
る〔第６図１０１〕 これを水洗するとレジスト（６
）の硬化部分（１１）だけ残る〔第３図し刈〕。
次に再びパネル（１）内面全体にカーボン液（１ｚを均
一に塗布する〔第６図に））〕。カーボン液（１２が乾
燥した後、酸化液にその面を浸すと先に硬化したｐ、ｖ
ＡＩＩＭ（１１）が浸潤してパネル（１）内面から剥離
し、カーボンがガートバンド（１２として残る。
一に塗布する〔第６図に））〕。カーボン液（１２が乾
燥した後、酸化液にその面を浸すと先に硬化したｐ、ｖ
ＡＩＩＭ（１１）が浸潤してパネル（１）内面から剥離
し、カーボンがガートバンド（１２として残る。
以上でガートバンドの形成が終ｒする。
次Ｃ赤色螢光体に感光剤を混入した液０３１〔順序は猪
でも緑色螢光体でもかまわない〕を、前記パネル（１）
内面Ｃ二均−に塗布、乾燥させた後、赤色螢光体侭布部
分だけ開口したフォトマスクα４をこのパネル（１）内
面に予め形成さｎたガートバンドαｆの所定の谷間（１
４１に位置合わせし、露光〔矢印Ｂ〕すると〔第３図ト
）〕、露光された部分の赤色螢光体αイが感光して硬化
しし第６図１）＋ ３ 、その後水洗するとガートバン
ド（＋２１の所定の谷間が埋められる〔＃４３図１ｙ−
＋ ：］ 。
でも緑色螢光体でもかまわない〕を、前記パネル（１）
内面Ｃ二均−に塗布、乾燥させた後、赤色螢光体侭布部
分だけ開口したフォトマスクα４をこのパネル（１）内
面に予め形成さｎたガートバンドαｆの所定の谷間（１
４１に位置合わせし、露光〔矢印Ｂ〕すると〔第３図ト
）〕、露光された部分の赤色螢光体αイが感光して硬化
しし第６図１）＋ ３ 、その後水洗するとガートバン
ド（＋２１の所定の谷間が埋められる〔＃４３図１ｙ−
＋ ：］ 。
これをイ也の二Ａ＊知の螢光体についても同杵Ｃ二（形
成すべき残りの螢光体が緑色、青色なら緑色、青色螢光
体形成用フォトマスク（１５１（１６＋を用いて〕イ■
い、三原色螢光体がガートバンドの谷間を埋めつくずと
次工程としてその上にアルミニウム寺を２０００Ａ程度
の厚さで蒸着し、メタルバノノ／腺を形成する。
成すべき残りの螢光体が緑色、青色なら緑色、青色螢光
体形成用フォトマスク（１５１（１６＋を用いて〕イ■
い、三原色螢光体がガートバンドの谷間を埋めつくずと
次工程としてその上にアルミニウム寺を２０００Ａ程度
の厚さで蒸着し、メタルバノノ／腺を形成する。
しかる後、インデックスイー号を得るのに必要なインデ
ックス螢光体を上記三原色螢光イ本をノ多成した場合と
同様にしてインデックス自ｔ）し体形成用フォトマスク
０７）よって貞Ｈ己メタルバック１換のに１ニノし成し
、蛍光１ｍとして完成させる。
ックス螢光体を上記三原色螢光イ本をノ多成した場合と
同様にしてインデックス自ｔ）し体形成用フォトマスク
０７）よって貞Ｈ己メタルバック１換のに１ニノし成し
、蛍光１ｍとして完成させる。
以上がパネル内面への螢光面形成力法の概略説明である
が、最初のガートバンド月〉成用のフォトマスクで形成
されるカードバンドｆ二対１７、践る４種類のフォトマ
スクは正確に位置合せしないと完全な螢光面はできない
。ところが従来は何らこｎｌら４極類のフォトマスクの
位置合→ｔの為の手段が講じられておらず、フォトマス
クの位置合せが非常に困難であり、そのため螢光面形成
の作業性及び陰極線管の生産性の低下を招来していた。
が、最初のガートバンド月〉成用のフォトマスクで形成
されるカードバンドｆ二対１７、践る４種類のフォトマ
スクは正確に位置合せしないと完全な螢光面はできない
。ところが従来は何らこｎｌら４極類のフォトマスクの
位置合→ｔの為の手段が講じられておらず、フォトマス
クの位置合せが非常に困難であり、そのため螢光面形成
の作業性及び陰極線管の生産性の低下を招来していた。
１／１１ 発明の目的
本発明は螢光面形成用のフォトマスクの位置合せを容易
Ｃ二し、陰極線管の生産性の向上を図った螢光面の形成
方法を提供することを目的とする。
Ｃ二し、陰極線管の生産性の向上を図った螢光面の形成
方法を提供することを目的とする。
四 発明の構成
本発明の螢光面の形成方法は第１の枠パターンが設けら
れたガートバンド形成用フォトマスクＩ：よってパネル
内面にガートバンドとともに位置決め用の透光、枠部を
形成し、螢光体の露光時において、螢光体形成用フォト
マスクＣ：設けられた第２の枠パターンを前記透梵枠部
内ｇ二位置させることＩ：より前記螢光体形成用フォト
マスクを所定の位置に配置するようにしている。
れたガートバンド形成用フォトマスクＩ：よってパネル
内面にガートバンドとともに位置決め用の透光、枠部を
形成し、螢光体の露光時において、螢光体形成用フォト
マスクＣ：設けられた第２の枠パターンを前記透梵枠部
内ｇ二位置させることＩ：より前記螢光体形成用フォト
マスクを所定の位置に配置するようにしている。
律１実施例
本発明の実施例を第４図乃至第６図を参照しつつ説明す
る。
る。
第４図旧は本発明で使用するガートバンド形成用フォト
マスク帥を示しており、該フォトマスク住εにはガート
バンド形成相パターンレ０）０１）（２ａ（２３１（財
）（ハ）の他に二第１の枠パターンｔ２６）（２７１１
２８１１２９１が設けられている。そして、このフォト
マスク（＋８１を用い、従来と同様の方法で第５因に示
す如くパネル０１内面にガートバンド（至）を形成する
と、これと同時（二前記枠パターン（ハ）〜Ｃ唱二よっ
て位置決め用の透光枠部ｃ１Ｄｃ＠Ｑ図が形成される。
マスク帥を示しており、該フォトマスク住εにはガート
バンド形成相パターンレ０）０１）（２ａ（２３１（財
）（ハ）の他に二第１の枠パターンｔ２６）（２７１１
２８１１２９１が設けられている。そして、このフォト
マスク（＋８１を用い、従来と同様の方法で第５因に示
す如くパネル０１内面にガートバンド（至）を形成する
と、これと同時（二前記枠パターン（ハ）〜Ｃ唱二よっ
て位置決め用の透光枠部ｃ１Ｄｃ＠Ｑ図が形成される。
第４図口ｌ、し載に）１、律１はそれぞれ本発明で使用
する赤色、緑色、青色、インデックス螢光体形成用フォ
トマスク（至）□□□（ト）（至）を示しており、これ
ら各フォトマスク（至）α９（２）−幻にはそれぞれ螢
光体形成用パターンｃＪＪ■−回功の他１ユ第２の枠パ
ターンーー■ｕＣシが設けられている。尚、上記各フォ
トマスク（１８１（至）（７）（ロ）（ハ）１：おいて
各パターンは透明ガラス基板Ｏηの上に不透明金属膜−
を施こすことによって形成される。
する赤色、緑色、青色、インデックス螢光体形成用フォ
トマスク（至）□□□（ト）（至）を示しており、これ
ら各フォトマスク（至）α９（２）−幻にはそれぞれ螢
光体形成用パターンｃＪＪ■−回功の他１ユ第２の枠パ
ターンーー■ｕＣシが設けられている。尚、上記各フォ
トマスク（１８１（至）（７）（ロ）（ハ）１：おいて
各パターンは透明ガラス基板Ｏηの上に不透明金属膜−
を施こすことによって形成される。
前記螢光体形成用フォトマスク（至）（至）０ｍ（至）
の第２の枠パターン卿−（ト）−の形成位置と、ガート
バンド形成用フォトマスクＯｌの第１の枠パターン（至
）ｃｌη（至）（ハ）とを対応させたとき、第４図に示
す通り赤色螢光体用フォトマスク（至）のパターン（至
）はガードバノド形成用フォトマスク（１８）のパター
ン（２０１（２３）≦二対応し、緑色螢光体用フォトマ
スク（７）のパターン（ト）はガートバンド形成用フォ
トマスク０＆のパターン（２ＤＣ２４）ｌ二対応し、青
色螢光体用フォトマスク（２）のパターンｆ４１１はノ
Ｊ−Ｆバンド形成用フォトマスクα砂のパターン（２２
＋（２ωに対応するようになっている。また、インデッ
クス螢光体用パターン□□□もパネルに形成される三原
色螢光体に対して所定位置に配されるように設けられて
いる。
の第２の枠パターン卿−（ト）−の形成位置と、ガート
バンド形成用フォトマスクＯｌの第１の枠パターン（至
）ｃｌη（至）（ハ）とを対応させたとき、第４図に示
す通り赤色螢光体用フォトマスク（至）のパターン（至
）はガードバノド形成用フォトマスク（１８）のパター
ン（２０１（２３）≦二対応し、緑色螢光体用フォトマ
スク（７）のパターン（ト）はガートバンド形成用フォ
トマスク０＆のパターン（２ＤＣ２４）ｌ二対応し、青
色螢光体用フォトマスク（２）のパターンｆ４１１はノ
Ｊ−Ｆバンド形成用フォトマスクα砂のパターン（２２
＋（２ωに対応するようになっている。また、インデッ
クス螢光体用パターン□□□もパネルに形成される三原
色螢光体に対して所定位置に配されるように設けられて
いる。
次Ｃ螢光体の形成方法を赤色螢光体を施す場合を例に二
採って説明する。
採って説明する。
第５図に示す如く支持枠−呪：支持された赤色螢光体用
形成用フォトマスク（至）≦二対してガートバンド彌が
形成されるとともＩ：赤色螢光体…を均−Ｃ二塗布した
パネルα９内面が対向するようｆ二鎖パネル（１９を配
置する。そして、赤色螢光体形成用フォトマスクｃｉ’
Ｎ ｌ二股けられた第２の枠パターン囮が第６図に示す
如くパネルα９Ｃ＝設けられた透光枠部４１Ｊ内に位置
するように前記パネル０傷を移動させる・尚、矢印Ｃは
露光光源からの光線を示す。このようにして透光枠部ａ
Ｄ内Ｃ二第２の枠パターン（勅が位置したとき、赤色螢
光体形成用フォトマスク（至）Ｉ：設けられた螢光体形
成用パターン（至）が所定位置の赤色螢光体を露光する
ようＣ二位置決めされる。同様にして、緑色、青色、イ
ンデックス螢光体露光時は透光枠部（９）（１３ｃＭＪ
内にフォトマスクに）（９）賭の第２の枠ハターン圓（
ト）□□□１をそれぞれ位置させれば容易にフォトマス
ク閃＠端の位置合せができる。
形成用フォトマスク（至）≦二対してガートバンド彌が
形成されるとともＩ：赤色螢光体…を均−Ｃ二塗布した
パネルα９内面が対向するようｆ二鎖パネル（１９を配
置する。そして、赤色螢光体形成用フォトマスクｃｉ’
Ｎ ｌ二股けられた第２の枠パターン囮が第６図に示す
如くパネルα９Ｃ＝設けられた透光枠部４１Ｊ内に位置
するように前記パネル０傷を移動させる・尚、矢印Ｃは
露光光源からの光線を示す。このようにして透光枠部ａ
Ｄ内Ｃ二第２の枠パターン（勅が位置したとき、赤色螢
光体形成用フォトマスク（至）Ｉ：設けられた螢光体形
成用パターン（至）が所定位置の赤色螢光体を露光する
ようＣ二位置決めされる。同様にして、緑色、青色、イ
ンデックス螢光体露光時は透光枠部（９）（１３ｃＭＪ
内にフォトマスクに）（９）賭の第２の枠ハターン圓（
ト）□□□１をそれぞれ位置させれば容易にフォトマス
ク閃＠端の位置合せができる。
尚、前記第１の枠パターンレｆｉ）（２７Ｊ ｔ２樽（
２４１）はガートバンド形成用フォトマスクの四隅のう
ち少なくとも２箇所、多くても６〜４箇所設け、これｌ
二対応するようＩ：各螢光体形成用フォトマスクの四隅
に第２の枠パターンを設ければよい。
２４１）はガートバンド形成用フォトマスクの四隅のう
ち少なくとも２箇所、多くても６〜４箇所設け、これｌ
二対応するようＩ：各螢光体形成用フォトマスクの四隅
に第２の枠パターンを設ければよい。
トＪ 発明の効果
本発明に依れば螢光体露光時におけるフォトマスクの位
置合せが容易Ｃ二できるので、螢光面形成の作業性が向
上し、陰極線管の生産性の向上が図れる。
置合せが容易Ｃ二できるので、螢光面形成の作業性が向
上し、陰極線管の生産性の向上が図れる。
第１図はビームインデックス方式のカラーテレビジ、ン
受像機５二使用される陰極線管のパネルの要部断面図、
第２図は露光時に使用される物品の斜視図、第６図は螢
光面の形成方法を示す図、第４図は本発明で使用するフ
ォトマスクの要部断面図、第５図は本発明の螢光面の形
成方法を説明するための図、第６図はフォトマスクの位
置合せの方法を示す図である。 （１，８１・・・ガートバンド形成用フォトマスク、
（２６）（２７）（２１１１（２１−・・第１の枠パ
ターン、 （至）・・・ガートバンド、Ｃ１１ｌ ｃｏ
峙（至）・・・透光枠部、 （至）・・・赤色螢光体
形成用フォトマスク、 （７）・・・緑色螢光体形成用
フォトマスク、 面・・・青色螢光体形歳月フォトマス
ク、 （至）・・・インデックス螢光体形成用フォトマ
スク、 旧−一姻・・・第２の枠パターン。 第６図 論 季 ２０１− 第６図
受像機５二使用される陰極線管のパネルの要部断面図、
第２図は露光時に使用される物品の斜視図、第６図は螢
光面の形成方法を示す図、第４図は本発明で使用するフ
ォトマスクの要部断面図、第５図は本発明の螢光面の形
成方法を説明するための図、第６図はフォトマスクの位
置合せの方法を示す図である。 （１，８１・・・ガートバンド形成用フォトマスク、
（２６）（２７）（２１１１（２１−・・第１の枠パ
ターン、 （至）・・・ガートバンド、Ｃ１１ｌ ｃｏ
峙（至）・・・透光枠部、 （至）・・・赤色螢光体
形成用フォトマスク、 （７）・・・緑色螢光体形成用
フォトマスク、 面・・・青色螢光体形歳月フォトマス
ク、 （至）・・・インデックス螢光体形成用フォトマ
スク、 旧−一姻・・・第２の枠パターン。 第６図 論 季 ２０１− 第６図
Claims (1)
- （１） 第１の枠パターンが設けら几たガートバンド
形成相フォトマスクｆ二よってパネル内面Ｃニガードバ
ンドとともｆ二位置決め用の透光枠部を形成し、螢光体
の露光時において、螢光体形成用フォトマスクに設けら
れた第２の枠パターンを前記透光枠部内に位置させるこ
とにより前記螢光体形成用フォトマスクを所定の位置に
配置するようｆ二したことを特徴と−「る螢光面の形成
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7028183A JPS59196532A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 螢光面の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7028183A JPS59196532A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 螢光面の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59196532A true JPS59196532A (ja) | 1984-11-07 |
Family
ID=13426945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7028183A Pending JPS59196532A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | 螢光面の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59196532A (ja) |
-
1983
- 1983-04-20 JP JP7028183A patent/JPS59196532A/ja active Pending
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