JPH01239502A - 感光性樹脂膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明感光性樹脂膜形成方法を以下の項目に従って説明
する。

Ａ、産業上の利用分野 Ｂ９発明の概要 Ｃ１従来技術 り１発明が解決しようとする問題点［第４図］Ｅ１問題
点を解決するための手段 Ｆ、実施例 ａ、光ガイドファイバーパネル［第１図コｂ、ブラック
・マトリックスの形成方法［第２図］ ｃ、Ｒ，Ｇ、Ｂ蛍光面の形成方法［第３図］ ｄ、その他 Ｇ９発明の効果 （Ａ、産業上の利用分野） 本発明は感光性樹脂膜形成方法に関する。詳しくは、感
光性樹脂膜の形成基板に光ガイドファイバーパネルを用
い、感光性樹脂膜を形成する面とフォト・マスクの密着
及び露光を行なう面とを異ならしめることにより、高精
度に感光性樹脂膜を形成し、また、露光のための光源に
特別なものを必要としなくて済むようにした新規な感光
性樹脂膜形成方法を提供しようとするものである。

（Ｂ、発明の概要） 本発明感光性樹脂膜形成方法は、感光性樹脂膜の形成基
板に光ガイドファイバーパネルを用い、該光ガイドファ
イバーパネルの一方の面に感光性樹脂を塗布し、他方の
面にフォト・マスクを密着し、該フォト・マスクを密着
した面側から露光することにより、感光性樹脂の塗布面
にフォト・マスクを密着させる必要がないため、フォト
・マスクの密着・離脱によって感光性樹脂膜を傷つける
ことがなく、また、フォト・マスクと基板との密着性を
向上させることができ、漏光による感光性樹脂膜の形成
を防止することができ、更に、光ガイドファイバーパネ
ルを用いたのでフォト・マスクを通過した光が拡散する
ことはないので露光のための光源に特殊な光源、例えば
、線光源の高圧水銀灯を用いるなどする必要をなくすこ
とができるようにしたものである。

（Ｃ，従来技術） 例えば、テレビジョン受像機等の受像管として用いられ
る陰極線管（ＣＲＴ）の前面ガラス板の内面には赤色（
Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の三色の蛍光体がストラ
イブ状に形成されている。

第４図はＣＲＴのＲ，Ｇ、Ｂの蛍光体をストライブ状に
形成する方法を工程順に示す断面図である。

第４図（Ａ） ガラス板ａの一方の面に感光性樹脂であるＧ蛍光体すを
塗布する。

第４図（Ｂ） 塗布したＧ蛍光体すを充分にブレベークして、所定の間
隔で縦スリットが形成されたフォト・マスクＣをＧ蛍光
体す塗布面に密着させる。そして、その後、フォト・マ
スクＣ側から露光する。

第４図（Ｃ） 露光後、Ｇ蛍光体すを現像し、感光しなかったＧ蛍光体
すを洗い流すことにより、感光したＧ蛍光体すのみを残
し、これによってストライブ状のＧ蛍光面すをガラス板
ａ上に形成することができる。

第４図（Ｄ） ガラス板ａのＧ蛍光面す形成面にＢ蛍光体ｄを塗布し、
充分にブレベークする。

第４図（Ｅ） Ｇ蛍光面すを形成したときに用いた前記フォト・マスク
ＣをＧ蛍光面すの幅寸法と同一距離、右側にずらした位
置に、即ち、既にＧ蛍光面すが形成された部分とその左
隣りの非形成面の半分とをフォト・マスクＣにより覆う
ようにフォト・マスクＣをＢ蛍光体ｄの塗布面に密着さ
せる。そして、その後フォト・マスクＣ側から露光する
。

第４図（Ｆ） 露光後、Ｂ蛍光体ｄを現像し、感光しなかったＢ蛍光体
ｄを洗い流すことにより、感光したＢ蛍光体ｄ及び既に
形成されたＧ蛍光体すを残す。これによってＧ蛍光体す
とＢ蛍光体ｄと何も形成されていない部分とが同一幅の
ストライブ状にガラス板ａに形成させる。

第４図（Ｇ） ガラス板ａのＧ蛍光面す及びＢ蛍光面ｄの形成面にＲ蛍
光体ｅを塗布し、充分にブレベークする。

第４図（Ｈ） Ｇ蛍光面す及びＢ蛍光面ｄを形成したときに用いた前記
フォト・マスクＣをＧ蛍光面すの幅寸法と同一距離、右
側にずらした位置に、即ち、フォト・マスクＣのスリッ
トがＧ、Ｂ蛍光面す、ｄを形成していない部分に合うよ
うにしてＲ蛍光体ｅの塗布面に密着する。そして、その
後、フォト・マスクＣ側から露光する。

第４図（１） 露光後、Ｒ蛍光体ｅを現像し、感光しなかったＲ蛍光体
ｅ（Ｇ蛍光体す及びＢ蛍光体ｄとの上に塗布されたＲ蛍
光体ｅ）を洗い流すことにより、感光したＲ蛍光体ｅと
既に形成されたＧ蛍光体す及びＢ蛍光体ｄとを残し、Ｇ
蛍光体ｂ、Ｂ蛍光体ｄ及びＲ蛍光体ｅとを同一幅のスト
ライプ状にガラス板ａに形成する。

（Ｄ、発明が解決しようとする問題点）［第４図］ ところが、前記した蛍光面の形成方法（感光性樹脂膜形
成方法）にあっては、膜形成基板にガラス板ａを用い、
感光性樹脂（蛍光体す、ｄ、ｅ）を塗布した側をフォト
・マスクＣで遮蔽し、露光するため、Ｇ、Ｂ、Ｒ蛍光面
す、ｄ、ｅを傷つけやすく、また、高精度に形成するこ
とができず、更には、露光のための光源に特殊なものを
使用しなければならない。

即ち、感光性樹脂は紫外線により感光し、硬化すること
により、基板に付与されるものであるため、フォト・マ
スクは感光性樹脂に密着させて露光しなければならず、
フォト・マスクと感光性樹脂塗布面との間にすき間があ
ると、そのすき間から紫外線が漏れてしまい所望した寸
法の感光性樹脂膜を形成することはで籾ない。ところが
、感光性樹脂膜とフォト・マスクを密着させると、露光
後、フォト・マスクを剥す際に感光性樹脂面を傷つけて
しまう慣れがある。

そのため、このような感光性樹脂膜形成方法にあっては
感光性樹脂膜を高精度に形成することができず、また、
多少の傷は余儀なくされてしまうという問題があった。

また、感光性樹脂膜の表面（基板との反接触面（背面）
側）−は直接露光のため充分に硬化するが、両者の接触
面は直接露光できないため、両者の接着が弱いという問
題もあった。

更にまた、このような感光性樹脂膜形成方法の露光に用
いられる光源は、その光線が感光性樹脂の塗布面に対し
て直角に入射しなければならないため、線光源である必
要がある。また、その光線の平行性を担保するため、通
常シュミットレンズが用いられ、さらには、中心と周辺
との光度を均一にするためのフィルターを用いなければ
ならず、従って、上記した感光性樹脂膜形成方法にあっ
ては特殊な光源を用いなければならないという問題があ
った。

（Ｅ、問題点を解決するための手段） そこで、本発明感光性樹脂膜形成方法は、上記した問題
点を解決するために、感光性樹脂膜の形成基板に光ガイ
ドファイバーパネルを用い、該光ガイドファイバーパネ
ルの一方の面に感光性樹脂、　を塗布し、他方の面にフ
ォト・マスクを密着させ、該フォト・マスク側から露光
するようにしたものである。

従って、本発明感光性樹脂膜形成方法によれば、感光性
樹脂の塗布面にフォト・マスクを密着する必要がないの
で、感光性樹脂膜からフォト・マスクを剥離する必要が
なく、感光性樹脂膜を傷つけることはない。また、基板
とフォト・マスクを密着することができるため、高精度
な感光性樹脂膜を形成することができる。

また、露光は光ガイドファイバーパネルを介して行なう
ため、光の拡散がなく、かつ、感光性樹脂膜とパネル面
との接触面を直接露光することができるため、感光性樹
脂膜に対して直角に光を入射させることができ、かつ、
感光性樹脂膜とパネル面との接着をより強固にすること
ができる。

（Ｆ、実施例） 以下に、本発明感光性樹脂膜形成方法の詳細を添附図面
に示した実施例に従って説明する。

尚、図面に示した実施例は、本発明感光性樹脂膜形成方
法をビームインデックス方式のＣＲＴのブラック・マト
リックス及びＲ，Ｇ、Ｂ蛍光面の形成に適用したもので
ある。

（ａ、光ガイドファイバーパネル）［第１図］１は光ガ
イドファイバーパネルであり、該光ガイドファイバーパ
ネル１は既知の光ガイドファイバーパネルであり、例え
ば、−辺が１３μの六角柱体からなるファイバー２を複
数束ね、その束ねたファイバー２．２、・・・群の外周
を溶着し、保護層を形成し、これを板状にスライスした
如く構成されている。

尚、このような光ガイドファイバーパネル１は各ファイ
バー２の断面形状は六角形に限らず、四角形あるいは円
形であってもよく、その各断面積は略均−であることが
好ましい。

そして、このような光ガイドファイバーパネル１の一方
の面にブラック・マトリックス及びＲｌＧ、Ｂ蛍光面を
以下のようにして形成し、ＣＲＴの前面パネル板として
利用される。

（ｂ、ブラック・マトリックスの形成方法）［第２図］ 第２図はＣＲＴの光ガイドファイバーパネル１の一方の
面１ａにストライブ状のブラック・マトリックス３．３
、・・・を形成する方法を工程順に示し断面図である。

第２図（Ａ） 光ガイドファイバーパネル１の一方の面１ａにフォト・
レジスト４、例えば、重クロム酸カリウムを塗布する。

第２図（Ｂ） 塗布したフォト・レジスト４を充分にブレベークして、
一定の間隔で複数の縦スリット５ａ、５ａ、　　・・・
が形成されたフォト・マスク５を光ガイドファイバーパ
ネル１の他方の面ｌｂ（フォト・レジスト４の塗布面と
反対側の面）に密着させる。尚、フォト・マスク５の各
スリット５ａの幅は一定であり、また、非スリット部分
５ｂの幅の２倍に形成されている。

その後、フォト・マスク５側から光ガイドファイバーパ
ネル１のフォト・レジスト４を露光する。

このとき、光源（図示しない。）からの光線Ｌ％　Ｌｌ
　・・・はフォト・マスク５のスリット５ａ、５ａ、　
　・・・に対応する光ガイドファイバーパネル１のファ
イバー２．２、・・・内に入光し、通過して凡人光側、
即ち、フォト・レジスト４を塗布した側に達し、フォト
・レジスト４を感、光させる。

尚、ファイバー２．２、・・・内を通過する光線り、Ｌ
、・・・は互いに平行な光になるため、光拡散がなく、
フォト・レジスト４の塗布面に対して直角に入射するこ
とができ、そのため、前記光源は平行光線になるような
線光源である必要はない。

第２図（Ｃ） 露光後、フォト・レジスト４を現像する。

フォト・レジスト４は光線りによって感光した部分、即
ち、フォト・マスク５のスリット５ａ、５ａ、　　・・
・に対応した部分のみを残し、感光しなかった部分は洗
い流されることとなり、光ガイドファイバーパネル１の
一方の面１ａにストライプ状のフォト・レジスト帯４ａ
、４ａ、　　・・・が形成されることとなる。

第２図（Ｄ） 光ガイドファイバーパネル１のフォト・レジスト帯４ａ
、４ａ、　　・・・形成面１ａにカーボン６を塗布する
。

カーボン６は光ガイドファイバーパネル１に形成された
フォト・レジスト帯４ａ、４ａ、　　・・・の各すき間
（非フォト・レジスト部）を含み、フォト・レジスト帯
４ａ、４ａ、　　・・・の上にも塗布される。

第２図（Ｅ） フォト・レジスト帯４ａ、４ａ、・・・及びカーボン６
が形成又は塗布された光ガイドファイバーパネルを過酸
化水素（）１２０２）で洗浄する。

フォト・レジスト帯４ａ、４ａ、・・・が重クロム酸カ
リウムなので、過酸化水素（Ｈ２Ｏ。）に反応し、溶解
され、洗い流される。このとき、フォト・レジスト帯４
ａ、４ａ、・・・上に塗布されたカーボン６も一緒に洗
い流され、光ガイドファイバーパネル１に直接塗布され
たカーボン６のみが残り、ブラック・マトリックス３．
３、・・・が形成される。

以上のようにして、光ガイドファイバーパネル１の一方
の面にブラック・マトリックス３．３、・・・を形成す
る。

次にＲ，Ｇ、Ｂ蛍光面の形成について説明する。

（ｃ、Ｒ，Ｇ、Ｂ蛍光面の形成方法）［第３図］ 第３図（Ａ）〜（１）はＣＲＴの光ガイドファイバーパ
ネル１の一方の面１ａ（既にブラック・マトリックス３
．３、・・・が形成された面）にブラック・マトリック
ス３．３、・・・の各すき間にそれぞれＲ，Ｇ、Ｂの蛍
光面を形成する方法を工程順に示す断面図である。

第３図（Ａ） 光ガイドファイバーパネル１のブラック・マトリックス
３．３、・・・形成面１ａにＧ蛍光体７を塗布する。

第３図（Ｂ） 塗布したＧ蛍光体７を充分にプレベークして、一定の間
隔で複数の縦スリット８ａ。

８ａ、・・・が形成されたフォト・マスク８を各スリッ
ト８ａ、８ａ、・・・がブラック・マトリックス３．３
、・・・の非形成部分（すき間部）に対応するように光
ガイドファイバーパネル１の他方の面ｉｂ（ブラック・
マトリックス３．３、・・・形成面と反対側の面）に密
着する。

尚、フォト・マスク８の各スリット８ａの幅は一定であ
り、かつ、ブラック・マトリックス３．３、・・・のそ
れぞれのすき間の幅と同一゛であり、また、非スリット
部分８ｂの幅はスリット８ａの幅の３．５倍もしくは３
．５倍より稍小さな大きさに形成されている。従って、
各スリット８ａ、８ａ、・・・はブラック・マトリック
ス３．３、・・・のすき間のうち２つおきのものに対応
することとなる。

その後、フォト・マスク８側から光ガイドファイバーパ
ネル１のＧ蛍光体７を露光する。

この露光も前述したフォト・レジスト４の露光と同様に
行なわれ、所定の部分のＧ蛍光体７のみが感光される。

即ち、光源からの光線りはフォト・マスク８のスリット
８ａ、８ａ、　　・・・に対応する光ガイドファイバー
パネル１のファイバー２．２、・・・内に入光し、通過
して、凡人光側、即ち、Ｇ蛍光体７を塗布した側に達し
、Ｇ蛍光体７を感光させる。

尚、光源は前記フォト・レジスト４の露光に使用したも
のと同じものを用いる。

第３図（Ｃ） 露光後、Ｇ蛍光体７を現像する。

Ｇ蛍光体７は光線りによって感光した部分、即ち、フォ
ト・マスク８のスリット８ａ、８ａ、・・・に対応した
部分のみを残し、感光しなかった部分は洗い流され、光
ガイドファイバーパネル１の一方の面１ａにブラック・
マトリックス３．３、・・・の２つおきのすき間にＧ蛍
光体７によるストライブ状のＧ蛍光面７ａ、７ａ、　　
・・・が形成される。

第３図（Ｄ） 光ガイドファイバーパネル１の一方の゛面ｌａ（ブラッ
ク・マトリックス３．３、・・・及びＧ蛍光面７ａ、７
ａ、　　・・・の形成面）にＢ蛍光体９を塗布する。

Ｂ蛍光体９は光ガイドファイバーパネル１の一方の面１
ａのブラック・マトリックス３．３、・・・及びＧ蛍光
面７ａ、７ａ、　　・・・が形成されていない部分（ブ
ラック・マトリックス３．３、・・・のすき間部分）に
塗布されるとともに、ブラック・マトリックス３．３、
・・・及びＧ蛍光面７ａ、７ａ、　　・・・の上にも塗
布される。

第３図（Ｅ） 塗布したＢ蛍光体９を充分にブレベークして、前記フォ
ト・マスク８をその各スリット８ａ、８ａ、　　・・・
がブラック・マトリックス３．３、・・・及びＧ蛍光面
７ａ１７ａ１　・・・の非形成部分に対応するように光
ガイドファイバーパネルｌの他方の面１ｂに密着させる
。

その後、フォト・マスク８側から光ガイドファイバーパ
ネル１のＢ蛍光体９を露光する。

そして、光源からの光線りはフォト・マスク８のスリッ
ト８ａ、８ａ、　　・・・に対応する光ガイドファイバ
ーパネル１のファイバー２．２、・・・内に入光し、通
過して、成人光側、即ち、Ｂ蛍光体９を塗布した側に達
し、Ｂ蛍光体９を感光させる。

第３図（Ｆ） 露光後、Ｂ蛍光体９を現像する。

Ｂ蛍光体９は光線りによって感光した部分、即ち、フォ
ト・マスク８のスリット８ａ。

８ａ、・・・に対応した部分のみを残し、感光しなかっ
た部分は洗い流され、光ガイドファイバーパネル１の一
方の面１ａに前記Ｇ蛍光体面７ａ、７ａ、　　・・・の
ブラック・マトリックス３．３、・・・を介して右又は
左隣りにＢ蛍光体９によるストライプ状のＢ蛍光面９ａ
、９ａ、　　・・・が形成される。

第３図（Ｇ）〜（Ｉ） 次に、Ｒ蛍光面１０ａ、１０ａ１　・・・を上述のＧ蛍
光面７ａ、７ａ、・・・及びＢ蛍光面９ａ、９ａ、・・
・と同様にして形成する。

即ち、先ず、Ｒ蛍光体１０を光ガイドファイバーパネル
１の一方の面１ａに塗布する（Ｇ）図。

次に、前記フォト・マスク８をそのスリット８ａ、８ａ
、　　・・・がブラック・マトリックス３．３、・・・
、Ｇ蛍光面７ａ、？ａ、・・・及びＢ蛍光面９ａ、９ａ
、　　・・・が形成されていない部分に対応するように
、光ガイドファイバーパネル１の他方の面１ｂに密着さ
せ、フォト・マスク８側から露光する（Ｈ）図。

そして、露光後、Ｒ蛍光体１０を現像し、感光しなかっ
たＲ蛍光体１０を洗い流し、ブラック・マトリックス３
．３、・・・の各すき間にＧ蛍光面７ａ、Ｂ蛍光面９ａ
及びＲ蛍光面１０ａを形成する（１）図。

以上のようにして、光ガイドファイバーパネル１上にＲ
，Ｇ、ＢＱ蛍光面１０ａ、７ａ、９ａ。

・・・をブラック・マトリックス３・　３・　°°。

間にそれぞれ形成することができる。

（ｄ、その他） そして、このような光ガイドファイバーパネル１はブラ
ック・マトリックス３．３、・・・及び各蛍光面７ａ、
９ａ、１０ａ、　　・・の形成面にアルミ蒸着膜が施さ
れ、更にアルミ蒸着膜上に所定の間隔でインデックス用
蛍光体が形成されて、ビームインデックス方式のＣＲＴ
の前面パネル板として製造される。

尚、本発明感光性樹脂膜形成方法はビームインデックス
式ＣＲＴのブラック・マトリックス、Ｒ，Ｇ、Ｂ蛍光面
の形成に限られることはなく、通常のＣＲＴのブラック
・マトリックス％Ｒ％Ｇ、Ｂ蛍光面の形成方法に適用し
て良く、また、ＣＲＴの蛍光面等の形成方法に限られる
こともなく、ＣＣＤのカラー・フィルタ・アレイにおけ
る赤、緑、青の各色の形成、撮像管における光導電膜の
形成、Ｔ　Ｆ　Ｔ　（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓ
ｉｓｔｏｒ）における半導体薄膜の形成等、透明基板に
感光性樹脂膜を形成する方法に適用することができる。

（Ｇ、発明の効果） 以上に記載したところから明らかなように、本発明感光
性樹脂膜形成方法は、光ガイドファイバーパネルの一方
の面に感光性樹脂を塗布し、光ガイドファイバーパネル
の他方の面に所定の透孔を形成したフォト・マスクを密
着させ、該フォト・マスクを密着した面側から感光性樹
脂を露光し、その後、現像したことを特徴とする。

従って、本発明感光性樹脂膜形成方法によれば、感光性
樹脂の塗布面にフォト・マスクを密着する必要がないの
で、感光性樹脂膜からフォト・マスクを剥離する必要が
なく、感光性樹脂膜を傷つけることはない。また、基板
とフォト・マスクを密着することができるため、高精度
な感光性樹脂膜を形成することができる。

また、露光は光ガイドファイバーパネルを介して行なう
ため、光の拡散がなく、かつ、感光性樹脂膜とパネル面
との接触面を直接露光することができるため、感光性樹
脂膜に対して直角に光を入射させることができ、かつ、
感光性樹脂膜とパネル面との接着をより強固にすること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は本発明感光性樹脂膜形成方法をＣＲ
Ｔの前面パネル板の作成に適用した実施の一例を示すも
ので、第１図は本発明感光性樹脂膜形成方法の実施に用
いられる光ガイドファイバーパネルの拡大一部切欠斜視
図、第２図（Ａ）乃至（Ｅ）は光ガイドファイバーパネ
ルにブラック・マトリックスを形成する方法を工程順に
示す断面図、第３図（Ａ）乃至（１）は光ガイドファイ
バーパネルにＲ％Ｇ％Ｂ蛍光面を形成する方法を工程順
に示す断面図、第４図（Ａ）乃至（Ｉ）は従来の感光性
樹脂膜形成方法によりＣＲＴの前面ガラス板にＲ，Ｇ、
Ｂ蛍光面を形成する方法を工程順に示す断面図である。 符号の説明 １・・・光ガイドファイバーパネル、 １ａ・・・一方の面、　　１ｂ・・・他方の面、４・・
・感光性樹脂、 ５・・・フォト・マスク、　　５ａ・・・透孔、７・・
・感光性樹脂、 ７ａ・・・感光性樹脂膜、 ８・・・フォト・マスク、　　８ａ・・・透孔、９・・
・感光性樹脂、 ９ａ・・・感光性樹脂膜、 １０・・・感光性樹脂、 １０ａ・・・感光性樹脂膜 出　願　人　ソニー株式会社 １　　　ｔガイドフフイハ゛−ハ９ネル光ガイドフフイ
バーパネル の拡大一部切欠斜視図 第１図 １　・・光がイドフフイバーハ１ネル １ｂ　・・他方の面 アラ０．．フ・マトリックスＯ 形成方法を示す断面図 第２図 −ノ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（）ｐ　
　　や 方広夜示１！断面図（従来例） 第４図 手続補正書（自船 昭和６３年４月３０日 特許庁長官　小　川　邦　夫　殿 １、事件の表示　　　　　　　　　　ト。 昭和６３年　特　許　願　第６７５９４号住所　東京部
品用区北品用６丁目７番３５号名称（２１８）ソニー株
式会社 ４、代理人 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１）明細書第４頁１３行目、「ブレベーク」を「乾燥
」に訂正する。 （２）明細書第５頁６行目、「ブレベーク」を「乾燥」
に訂正する。 （３）明細書第６頁５行目、「プレベーク」を「乾燥」
に訂正する。 （４）明細書第１１頁１７行目から次行にかけである１
重クロム酸カリウム」を「ポリビニールアルコール（Ｐ
ＶＡ）と重クロム酸アンモニウムの溶液」に訂正する。 （５）明細書第１２頁１行目から次行にかけである「プ
レベーク」を「乾燥」に訂正する。 （６）明細書第１４頁８行目、「過酸化水素」を「過酸
化水素水」に訂正する。 （７）明細書第１４頁１１行目、「カリウム」を「アン
モニウム」に訂正する。 （８）明細書第１５頁１６行目、「プレベーク」を「乾
燥」に訂正する。 （９）明細書第１８頁１３行目、「ブレベーク」を「乾
燥」に訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 光ガイドファイバーパネルの一方の面に感光性樹脂を塗
   布し、 光ガイドファイバーパネルの他方の面に所定の透孔を形
   成したフォト・マスクを密着させ、該フォト・マスクを
   密着した面側から感光性樹脂を露光し、その後、現像し
   た ことを特徴とする感光性樹脂膜形成方法