JPS5919344A - ２視野光学装置 - Google Patents
２視野光学装置Info
- Publication number
- JPS5919344A JPS5919344A JP12754282A JP12754282A JPS5919344A JP S5919344 A JPS5919344 A JP S5919344A JP 12754282 A JP12754282 A JP 12754282A JP 12754282 A JP12754282 A JP 12754282A JP S5919344 A JPS5919344 A JP S5919344A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- field
- wide
- optical
- narrow
- mirror
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は狭視野、広視野の２種類の視野を有する２視野
光学装置に関するものである。
光学装置に関するものである。
半導体装置の組立工程、中でもペレットボンディング工
程やワイヤボンディング工程では、リードフレームやペ
レット等を撮像装置にて撮像してリードフレームやペレ
ットの位置、更にはり−ドフレームのボスト部やペレッ
トの電％ ハツトの各位置を認識し、これによりペレッ
トボンディングやワイヤボンディングの自動化ｖ行なっ
ている。
程やワイヤボンディング工程では、リードフレームやペ
レット等を撮像装置にて撮像してリードフレームやペレ
ットの位置、更にはり−ドフレームのボスト部やペレッ
トの電％ ハツトの各位置を認識し、これによりペレッ
トボンディングやワイヤボンディングの自動化ｖ行なっ
ている。
この場合、各部の位置認識を効率良く行なうためにリー
ドフレームやペレットの略全体な視野とする広視野光学
系と、ボスト部や電極パッドを部分的に視野として位Ｉ
Ｉｋ高精度に求めるための狭視野光学系とを撮像装置に
設け１両光学系の協働によって迅速かつ高精度に位置認
識な行なっている。
ドフレームやペレットの略全体な視野とする広視野光学
系と、ボスト部や電極パッドを部分的に視野として位Ｉ
Ｉｋ高精度に求めるための狭視野光学系とを撮像装置に
設け１両光学系の協働によって迅速かつ高精度に位置認
識な行なっている。
例えば、第１図はワイヤボンディング工程における認識
な説明するための図であり、広視野光学系はペレット１
およびリードフレーム２のインナーリード（ボスト部）
３を含む広視野域８Ｉを一度に視野とし、狭視野光学系
はその一部１図ではペレット１の一部の電極パッド４を
含むだけの狭視舒域８ｔ ｋ視野としている。そして、
これらの両光学系は夫々基準位置０な共通させてこの位
置０からの偏りを求めることにより、リードフレーム２
やペレット１の全体位ｌ１１ｔｊ！を求め、更にこれな
利用してボス）部３ＪＰ電極パッド４を高精度に求める
ようにしているのである、 ところで、従来のこの梱の装置では、第２図のように、
広視野の撮像器５と狭視野の撮像器６を並置させて対象
物７の撮像ないし位Ｉｆ認識を行なう構成が一般に用い
られている。しかしながら。
な説明するための図であり、広視野光学系はペレット１
およびリードフレーム２のインナーリード（ボスト部）
３を含む広視野域８Ｉを一度に視野とし、狭視野光学系
はその一部１図ではペレット１の一部の電極パッド４を
含むだけの狭視舒域８ｔ ｋ視野としている。そして、
これらの両光学系は夫々基準位置０な共通させてこの位
置０からの偏りを求めることにより、リードフレーム２
やペレット１の全体位ｌ１１ｔｊ！を求め、更にこれな
利用してボス）部３ＪＰ電極パッド４を高精度に求める
ようにしているのである、 ところで、従来のこの梱の装置では、第２図のように、
広視野の撮像器５と狭視野の撮像器６を並置させて対象
物７の撮像ないし位Ｉｆ認識を行なう構成が一般に用い
られている。しかしながら。
この構成では両撮像器５，６が距離りだけ離れているた
めに各視野域での基準位置が距離りだけずれることにな
り、このずれ値の補正が必要とされる等位置認識が面倒
になりかつ誤差が生じ易くなるという問題がある。
めに各視野域での基準位置が距離りだけずれることにな
り、このずれ値の補正が必要とされる等位置認識が面倒
になりかつ誤差が生じ易くなるという問題がある。
これに対し、第３図に示すように、Ｉ＼−フミラー８の
透過１反射な利用して広視野撮像＠５と狭視野撮像器６
な同軸関係になるように直交配置したものが提案されて
いる。この構成によれば、基準位置の共通化が可能で位
置認識の向上には有効であるが、第２図のものと同様に
２台の撮像器が必要とされるため、装置全体が大型にな
りかつ婢造が複雑になると共にコスト高になるという問
題がある。
透過１反射な利用して広視野撮像＠５と狭視野撮像器６
な同軸関係になるように直交配置したものが提案されて
いる。この構成によれば、基準位置の共通化が可能で位
置認識の向上には有効であるが、第２図のものと同様に
２台の撮像器が必要とされるため、装置全体が大型にな
りかつ婢造が複雑になると共にコスト高になるという問
題がある。
１、ｔこが。て本発明の目的は基準位置の共通化な可能
にすることはもちろんのこと、一台の撮像器で広視野、
狭視野の認識を行なって装置の小型化および低コスト化
を達成することができる２視野光学装置を提供すること
にある。
にすることはもちろんのこと、一台の撮像器で広視野、
狭視野の認識を行なって装置の小型化および低コスト化
を達成することができる２視野光学装置を提供すること
にある。
この目的を達成するために本発明は一台の撮像器の光軸
路に広視野、狭視野の各光学系な並設すると共に、これ
ら両光学系の間に光路切換手段な設けるようにしたもの
である。
路に広視野、狭視野の各光学系な並設すると共に、これ
ら両光学系の間に光路切換手段な設けるようにしたもの
である。
以下、本発明な図示の実施例により説明する。
第４図は本発明の２視野光学装置の全体構成図であり、
図において１０はリードフレームやベレット等の対象物
、１１はこの対象物１０を撮像するために一台だけ設け
られた撮像器（カメラ）である。そして、この撮像器１
１の前方位置には前記対象物１０な撮像器１１に結像さ
せるための結像光学系を配設しているが１本発明にあっ
てはこの結像光学系として広視野光学系１２と狭視野光
学系１３とを並列に配置している。前記広視野光学系１
２は焦点距＃［！ ｆ Ｉが短くされ、対象物ＩＯの広
い範囲を視野として前記撮像器１１に結像できる。また
、狭視野光学系１３は焦点距離ｆｔが比較的長くされ、
対象物１０の一部な視野としてその拡大率を高めた状態
で前記撮像器１１に結像できる。更に、本実施例におい
ては前記撮像器１１の光軸Ｘ、上にＩＵ紀広視野光学系
１２を配置し。
図において１０はリードフレームやベレット等の対象物
、１１はこの対象物１０を撮像するために一台だけ設け
られた撮像器（カメラ）である。そして、この撮像器１
１の前方位置には前記対象物１０な撮像器１１に結像さ
せるための結像光学系を配設しているが１本発明にあっ
てはこの結像光学系として広視野光学系１２と狭視野光
学系１３とを並列に配置している。前記広視野光学系１
２は焦点距＃［！ ｆ Ｉが短くされ、対象物ＩＯの広
い範囲を視野として前記撮像器１１に結像できる。また
、狭視野光学系１３は焦点距離ｆｔが比較的長くされ、
対象物１０の一部な視野としてその拡大率を高めた状態
で前記撮像器１１に結像できる。更に、本実施例におい
ては前記撮像器１１の光軸Ｘ、上にＩＵ紀広視野光学系
１２を配置し。
これと隣り合一た位置に前記狭視野光学系１３を配置し
ている。また、前記光軸Ｘ、の対象物ＩＯよりの位置に
は光源１４に対向してハーフミラ−１５な設置し、光源
１４光な対象物１０に反射させてその照明な行なう一方
で対象物１０からの反射光を光軸Ｘ、に沿って撮像器１
１に透過させるようにしている。
ている。また、前記光軸Ｘ、の対象物ＩＯよりの位置に
は光源１４に対向してハーフミラ−１５な設置し、光源
１４光な対象物１０に反射させてその照明な行なう一方
で対象物１０からの反射光を光軸Ｘ、に沿って撮像器１
１に透過させるようにしている。
そして、このように構成した上で、前記広視野光学系Ｉ
２の前側の光軸Ｘ、上には光路切換手段としての可動反
射ミラー１６な配置し、かつ後側の光軸Ｘ、上にはハー
フミラ−１７な配置する。
２の前側の光軸Ｘ、上には光路切換手段としての可動反
射ミラー１６な配置し、かつ後側の光軸Ｘ、上にはハー
フミラ−１７な配置する。
更に、これら可動反射ミラー１６とハーフミラ−１７に
直角方向に対向する前記狭視野光学系１３の光軸ｘ２上
には夫々反射ミラー１８．１９に配置するっ前記可動ミ
ラー１６は図外の駆動機構により図示矢印へのように、
光軸に対して４５°の位置と０°の位置とに夫々回動位
置が選択的に変化できる。
直角方向に対向する前記狭視野光学系１３の光軸ｘ２上
には夫々反射ミラー１８．１９に配置するっ前記可動ミ
ラー１６は図外の駆動機構により図示矢印へのように、
光軸に対して４５°の位置と０°の位置とに夫々回動位
置が選択的に変化できる。
以上の構成によれば、可動ミラー１６な第５図（４）の
ように光軸Ｘ、と平行（Ｏｏ ）の位置に回動させると
、対象物１０からの反射光はそのまま直進して広視野光
学系１２に進入し、・・−フミラー１７を透過して撮像
器１１に到達される。したがって、この状態では広視野
の撮像が行われる。
ように光軸Ｘ、と平行（Ｏｏ ）の位置に回動させると
、対象物１０からの反射光はそのまま直進して広視野光
学系１２に進入し、・・−フミラー１７を透過して撮像
器１１に到達される。したがって、この状態では広視野
の撮像が行われる。
一方、可動ミラー１６を同図（Ｂ）のように光軸Ｘ１と
４５°の回動位置にすると、対象物ｌＯの反射光は可動
ミラー１６にて反射された上で反射ミラー１８により反
射されて狭視野光学系１３に導かれ、これを通った後は
反射きシー１９．ハーフミラ−１７にて夫々反射されて
撮像器１１に到達される。したがって、この状態では狭
視野の撮像が行なわれることになる。
４５°の回動位置にすると、対象物ｌＯの反射光は可動
ミラー１６にて反射された上で反射ミラー１８により反
射されて狭視野光学系１３に導かれ、これを通った後は
反射きシー１９．ハーフミラ−１７にて夫々反射されて
撮像器１１に到達される。したがって、この状態では狭
視野の撮像が行なわれることになる。
この結果、本装置では可動ミラー１６の回動位置を変化
させるだけで広、狭の視野を任意に得ることができ、し
かも撮像器は一台でその光軸も−定しているので１両視
野において光軸は一致してその基準位置を共通にし、こ
れにより高精度の位ｒＩｔＦＦｇ識を迅速に行なうこと
ができると共に、撮像器は一台で済むので構造の簡易化
、小型化な図りかつ低コスト化な達成できる。
させるだけで広、狭の視野を任意に得ることができ、し
かも撮像器は一台でその光軸も−定しているので１両視
野において光軸は一致してその基準位置を共通にし、こ
れにより高精度の位ｒＩｔＦＦｇ識を迅速に行なうこと
ができると共に、撮像器は一台で済むので構造の簡易化
、小型化な図りかつ低コスト化な達成できる。
なお２広、狭の各光学系１２．１３の配置に際してはそ
の焦点距離に応じて第４図の距離、ｅｌｌ、ｅ。
の焦点距離に応じて第４図の距離、ｅｌｌ、ｅ。
を適宜に設定すればよい。
ここで、光路切換手段はハーフミラ−１７を可動反射ミ
ラー構造にしてもよく、この場合には前記可動反射ミラ
ー１６なハーフミラ−構造とする。
ラー構造にしてもよく、この場合には前記可動反射ミラ
ー１６なハーフミラ−構造とする。
もっとも、ミラー１６．１７の両方な可動反射ミラー構
造にしてもよい。また、ミラー１８，１９なハーフミラ
−にした状態で反射ミラー１８．１９の少なくとも一方
な可動構造にしてもよいのである。
造にしてもよい。また、ミラー１８，１９なハーフミラ
−にした状態で反射ミラー１８．１９の少なくとも一方
な可動構造にしてもよいのである。
第６図囚〜（Ｃｔに示すものは、可動反射ミラー（光路
切換手段）１６な種々の態様に可動可能とした本発明の
各実施例な示すものである。
切換手段）１６な種々の態様に可動可能とした本発明の
各実施例な示すものである。
以上のように本発明の２視野光学装置は広、狭の各視野
光学系を一台の撮像器に対して並列的に配置し、その上
で光路切換手段にて対象物から撮像器に到る光路な切換
えるようにしているので。
光学系を一台の撮像器に対して並列的に配置し、その上
で光路切換手段にて対象物から撮像器に到る光路な切換
えるようにしているので。
一台の撮像器でしかも同一光軸位置で広、狭両方の視野
を得ることができ、これにより基準位置の共通化な図−
で高精度の認識な可能にする一方で。
を得ることができ、これにより基準位置の共通化な図−
で高精度の認識な可能にする一方で。
装置の構造の簡易化、小型化および低コスト化な達成す
ることができるという効果な奏する。
ることができるという効果な奏する。
第１図はワイヤボンディング時における広、狭視野の説
明図。 第２図および第３図は夫々異なる従来装置の構成図。 第４図は本発明装置の構成図。 第５図囚、（Ｂ）は作用な説明するための第４図と同様
の図。 第６図囚〜ｔｅｌは本発明の他の実施例を示す図である
。 １０・・・対象物、１１・・・撮像器、１２・・・広視
野光学系、１３・・・狭視野光学系、１４・・・光源、
１６・・・可動反射ミラー（光路切換手段）、１７・・
・／・−フミラー、１８．１９・・・反射ミラー１第
１ 図
明図。 第２図および第３図は夫々異なる従来装置の構成図。 第４図は本発明装置の構成図。 第５図囚、（Ｂ）は作用な説明するための第４図と同様
の図。 第６図囚〜ｔｅｌは本発明の他の実施例を示す図である
。 １０・・・対象物、１１・・・撮像器、１２・・・広視
野光学系、１３・・・狭視野光学系、１４・・・光源、
１６・・・可動反射ミラー（光路切換手段）、１７・・
・／・−フミラー、１８．１９・・・反射ミラー１第
１ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、対象物を撮像するための一台の撮像器の光軸路に沿
って広視野光学系と狭視野光学系を並設すると共に、こ
れら両光学系の間に光路切換手段を設け、前記対象物か
らの光を前記両光学系のいずれか一方を通して前記撮像
器に導くように構成したことを特徴とする２視野光学装
置つ ２、光路切換手段はその回動位置の変化により前記両光
学系に向い或いは通過されてきた光の光路を切換える可
動反射ミラーである特許請求の範囲第１項記載の２視野
光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12754282A JPS5919344A (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | ２視野光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12754282A JPS5919344A (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | ２視野光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5919344A true JPS5919344A (ja) | 1984-01-31 |
Family
ID=14962581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12754282A Pending JPS5919344A (ja) | 1982-07-23 | 1982-07-23 | ２視野光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5919344A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373451U (ja) * | 1984-02-22 | 1991-07-24 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4841753A (ja) * | 1971-09-23 | 1973-06-18 | ||
| JPS5530203A (en) * | 1978-08-24 | 1980-03-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | Control system for hardware with control data generator |
| JPS57167651A (en) * | 1981-04-07 | 1982-10-15 | Mitsubishi Electric Corp | Inspecting device for surface of semiconductor wafer |
-
1982
- 1982-07-23 JP JP12754282A patent/JPS5919344A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4841753A (ja) * | 1971-09-23 | 1973-06-18 | ||
| JPS5530203A (en) * | 1978-08-24 | 1980-03-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | Control system for hardware with control data generator |
| JPS57167651A (en) * | 1981-04-07 | 1982-10-15 | Mitsubishi Electric Corp | Inspecting device for surface of semiconductor wafer |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373451U (ja) * | 1984-02-22 | 1991-07-24 | ||
| JPH0537476Y2 (ja) * | 1984-02-22 | 1993-09-22 |
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