JPH0373451U - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0373451U
JPH0373451U JP12413490U JP12413490U JPH0373451U JP H0373451 U JPH0373451 U JP H0373451U JP 12413490 U JP12413490 U JP 12413490U JP 12413490 U JP12413490 U JP 12413490U JP H0373451 U JPH0373451 U JP H0373451U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
optical axis
optical
imaging
pixel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP12413490U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0537476Y2 (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JPH0373451U publication Critical patent/JPH0373451U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0537476Y2 publication Critical patent/JPH0537476Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の全体概略図、第2図は本考案
の一実施例の光学装置の概略図、第3図は本考案
の他の実施例の光学装置の概略図である。 52……ウエハ、40,100……第1の光路
、50,74……光源、42,102……第2の
光路、72……ビジコン管、65……シヤツタ、
54……フラツト部、104……第3光路、10
6……第4光路。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 同様なパターンのアレイが表面に設けられ
    ている目的物を整列させる自動整列装置であつて
    : 整列させるべき目的物を支持する可動のステー
    ジ手段にして、入力信号に応じてX,YおよびZ
    の方向ならびにθ軸の回りでの位置調節が可能な
    ステージ手段と; 前記目的物の表面を照射する照射手段と; 第1の予定の倍率を有し、照射された前記表面
    の第1部分の像を第1の光軸に沿つて結像面へと
    結像し得る第1の光学手段と; 前記第1の予定の倍率よりも相当に大きい第2
    の予定の倍率を有し、照射された前記表面の第2
    部分の像を第2の光軸に沿つて結像面へと結像し
    得る第2の光学手段と; 前記第1部分の像をまず選択して前記結像面へ
    結像させ、次ぎに前記第2部分の像を選択して前
    記結像面へ結像させる像選択手段と; 前記結像面に配置された光検出手段にして、前
    記第1部分の像を、先ずその各画素の像に関する
    内容を表す第1の目的物データへ変換し、次ぎに
    前記第2部分の像を、その各画素の像に関する内
    容を表す第2の目的物データへ変換する光検出手
    段と; 第1の基準像の各画素の内容に対応する第1の
    基準像データのセツトを発生し、第2の基準像の
    各画素の内容に対応する第2の基準像データのセ
    ツトを発生する手段と、 前記第1の目的物データを前記第1の基準像デ
    ータと比較してそれら相互間の差に比例した第1
    の整列修正信号を先ず発生し、次ぎに前記第2の
    目的物データを前記第2の基準像データと比較し
    てそれら相互間の差に比例した第2の整列修正信
    号を発生する比較手段と; 整列修正手段にして、前記第1の整列修正信号
    に応じて、X,Y,およびZの方向ならびにθ軸
    の回りで要求される前記ステージ手段の位置調節
    を先ず行つて、前記第1の目的物データと前記第
    1の基準像データとの一致が前記比較手段により
    示されるようにし、次ぎに前記第2の整列修正信
    号に応じて、X,YおよびZの方向ならびにθ軸
    の回りで要求される前記ステージ手段の位置調節
    を行つて、前記第2の目的物データと前記第2の
    基準像データとの一致が前記比較手段により示さ
    れるようにするための整列修正手段と を備えることを特徴とする自動整列装置。 (2) 実用新案登録請求の範囲第1項に記載の装
    置において、前記像選択手段は、前記第1および
    第2の光学手段と前記結像面との間に配置された
    可動のシヤツタを含み、そのシヤツタは、一方の
    位置にある時に前記第1の光軸に一致する第1の
    透孔と、他方の位置にある時に前記第2の光軸に
    一致する第2の透孔とを有していることを特徴と
    する自動整列装置。 (3) 実用新案登録請求の範囲第1項に記載の装
    置において、前記照射手段は、前記目的物の第1
    部分を照射する第1の照射源と、前記目的物の第
    2部分を照射する第2の照射源とを含むことを特
    徴とする自動整列装置。 (4) 実用新案登録請求の範囲第3項に記載の装
    置において、前記第1の光軸が前記目的物の表面
    に交差する点は、前記第2の光軸が前記目的物の
    表面に交差する点から離間していることを特徴と
    する自動整列装置。 (5) 実用新案登録請求の範囲第1項に記載の装
    置において、第1の予定の倍率を有し、照射され
    た前記表面の第1部分から離間した第3の部分の
    像を第3の光軸に沿つて前記結像面へと結像し得
    る第3の光学手段と、前記第2の予定の倍率を有
    し、照射された前記表面の第4の部分の像を第4
    の光軸に沿つて結像面へと結像し得る第4の光学
    手段とを含んでいることを特徴とする自動整列装
    置。 (6) 実用新案登録請求の範囲第1項に記載の装
    置において、前記光検出手段は、前記結像面へ結
    像される像の各画素の内容に対応するアナログ信
    号を発生するビデオカメラ手段と、各画素の内容
    を示すそのアナログ信号を、各画素の内容を示す
    デイジタル信号へ変換するアナログ・デイジタル
    変換手段とを含むことを特徴とする自動整列装置
JP1990124134U 1984-02-22 1990-11-26 Expired - Lifetime JPH0537476Y2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US58259084A 1984-02-22 1984-02-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0373451U true JPH0373451U (ja) 1991-07-24
JPH0537476Y2 JPH0537476Y2 (ja) 1993-09-22

Family

ID=24329741

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60032947A Pending JPS60194537A (ja) 1984-02-22 1985-02-22 整列装置
JP1990124134U Expired - Lifetime JPH0537476Y2 (ja) 1984-02-22 1990-11-26

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60032947A Pending JPS60194537A (ja) 1984-02-22 1985-02-22 整列装置

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JPS60194537A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012064608A (ja) * 2010-09-14 2012-03-29 Hitachi High-Technologies Corp 検査装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6262538A (ja) * 1985-09-13 1987-03-19 Toshiba Corp 位置決め装置
JPH0625011Y2 (ja) * 1988-02-15 1994-06-29 株式会社東京精密 半導体チップの基準線検出装置
JP2015226043A (ja) * 2014-05-30 2015-12-14 株式会社ディスコ ウェーハid読み取り装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54159876A (en) * 1978-06-07 1979-12-18 Nec Corp Wafer position detection method and its unit
JPS56134741A (en) * 1980-03-25 1981-10-21 Toshiba Corp Position detecting device
JPS574134A (en) * 1980-06-10 1982-01-09 Fujitsu Ltd Recognizing device
JPS57167651A (en) * 1981-04-07 1982-10-15 Mitsubishi Electric Corp Inspecting device for surface of semiconductor wafer
JPS57169251A (en) * 1981-04-09 1982-10-18 Toshiba Corp Recognizing device for position
JPS57198641A (en) * 1981-05-30 1982-12-06 Toshiba Corp Pattern detection
JPS5919344A (ja) * 1982-07-23 1984-01-31 Hitachi Ltd 2視野光学装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57133428A (en) * 1981-02-12 1982-08-18 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Alignment optical system capable of variable magnification

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54159876A (en) * 1978-06-07 1979-12-18 Nec Corp Wafer position detection method and its unit
JPS56134741A (en) * 1980-03-25 1981-10-21 Toshiba Corp Position detecting device
JPS574134A (en) * 1980-06-10 1982-01-09 Fujitsu Ltd Recognizing device
JPS57167651A (en) * 1981-04-07 1982-10-15 Mitsubishi Electric Corp Inspecting device for surface of semiconductor wafer
JPS57169251A (en) * 1981-04-09 1982-10-18 Toshiba Corp Recognizing device for position
JPS57198641A (en) * 1981-05-30 1982-12-06 Toshiba Corp Pattern detection
JPS5919344A (ja) * 1982-07-23 1984-01-31 Hitachi Ltd 2視野光学装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012064608A (ja) * 2010-09-14 2012-03-29 Hitachi High-Technologies Corp 検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0537476Y2 (ja) 1993-09-22
JPS60194537A (ja) 1985-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05264221A (ja) 半導体露光装置用マーク位置検出装置及びこれを用いた半導体露光装置用位置合わせ装置
JPH04181935A (ja) 自動焦点検出手段を有した光学装置
JPS60115906A (ja) 光学器械の自動精密焦点法と自動精密焦点装置
US4686359A (en) Picture scanning and recording using a photoelectric focusing system
JPH0373451U (ja)
JPS59109805A (ja) 位置検出装置
JPH0135492B2 (ja)
JPH07302564A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH05296739A (ja) 輪郭形状測定装置
JPH0613282A (ja) オートフォーカス及びマスク・ウェーハ間ギャップ測定方法並びに装置
JPH04166709A (ja) 表面性状観測装置
JP2906745B2 (ja) 表面うねり検査装置
TWI688820B (zh) 光罩玻璃基板上之透光薄膜雜質去除組件
JPH05196420A (ja) 半導体露光装置用位置合わせ方法及び装置
JPH0388584A (ja) 多素子化光センサのアライメント調整方式
JPS58139107A (ja) 光学顕微鏡の焦点自動合わせ方法
JP2007078802A (ja) フォトマスク及びその歪み検出装置及び半導体集積回路の製造方法
JPH0564450B2 (ja)
JPH08335548A (ja) 露光装置、露光条件決定方法および収差測定方法
JPH0227811B2 (ja)
JPH04278555A (ja) 微少寸法測定装置
JPS609660B2 (ja) 電子線図形投影装置
JP2853312B2 (ja) 位置合わせ装置及びそれを用いた露光装置
JPH07122571B2 (ja) 折曲げ加工機用ワーク傾斜角度測定装置
JPS60216548A (ja) 露光用板状物