JPS59186930A - 低級オレフインの製造法 - Google Patents
低級オレフインの製造法Info
- Publication number
- JPS59186930A JPS59186930A JP58060693A JP6069383A JPS59186930A JP S59186930 A JPS59186930 A JP S59186930A JP 58060693 A JP58060693 A JP 58060693A JP 6069383 A JP6069383 A JP 6069383A JP S59186930 A JPS59186930 A JP S59186930A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methanol
- dimethyl ether
- crystalline aluminosilicate
- reaction
- lower olefin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はメタノールおよび/または・ジメチルエーテル
からの低級オレフィンの製造法に関するものである。
゛ 返らに詳しくは、メタノールおよC)/またはジメチル
エーテルから低級オレフィンを製造する際に、触媒とし
て後記°表−1のX線回折ノぞターンを有する結晶性チ
ルi”゛ノシリケートを用いる事を特徴とする低級オレ
フ゛インの製造法に関するものである。
からの低級オレフィンの製造法に関するものである。
゛ 返らに詳しくは、メタノールおよC)/またはジメチル
エーテルから低級オレフィンを製造する際に、触媒とし
て後記°表−1のX線回折ノぞターンを有する結晶性チ
ルi”゛ノシリケートを用いる事を特徴とする低級オレ
フ゛インの製造法に関するものである。
炭素数4以下の低級オレフィンは、現在、天然ガスおよ
びナフサの熱分解法によって生産されている。しかし、
これらの石油系原料あ近年における価格高騰や入手難な
どのため、低級オレフィンの原料多様化が求められて区
る。゛近年、その−っの方法として、メタノールおよび
/またはジメチルエーテルから各種ゼオライト触媒を用
いて種々のオレフィン、パラフィンおよび芳香族化合物
を得る方法が開発さ゛れている。しかしながら、これら
の方法の殆んどは、主としてガソリン製造を目的とした
ものであり、低級オレフィンの製造に関しては満足のい
くものではなかった。又、特開昭53−58499号公
報によるZS、M−34と呼ばれるゼオライトはメタノ
ールからエチレンとプロピレンをほぼ定量的IC製造す
る触媒である事が示されているが、その活性の経時劣化
は非常に大きく、工業触媒としての水準には達していな
かった。
びナフサの熱分解法によって生産されている。しかし、
これらの石油系原料あ近年における価格高騰や入手難な
どのため、低級オレフィンの原料多様化が求められて区
る。゛近年、その−っの方法として、メタノールおよび
/またはジメチルエーテルから各種ゼオライト触媒を用
いて種々のオレフィン、パラフィンおよび芳香族化合物
を得る方法が開発さ゛れている。しかしながら、これら
の方法の殆んどは、主としてガソリン製造を目的とした
ものであり、低級オレフィンの製造に関しては満足のい
くものではなかった。又、特開昭53−58499号公
報によるZS、M−34と呼ばれるゼオライトはメタノ
ールからエチレンとプロピレンをほぼ定量的IC製造す
る触媒である事が示されているが、その活性の経時劣化
は非常に大きく、工業触媒としての水準には達していな
かった。
本発明者らは、これらの問題を解決すべく鋭意研究を重
ねた結平、下記表−1のX線回折、・ξターンを有する
結晶性アルミノシリケート(以後AZ−1と呼ぶ)を用
いる場合に、メタノールおよび/またはジメチルエーテ
ルから低級オレフィンが選択性良く得られる事を見い出
し、て本発明に至った。
ねた結平、下記表−1のX線回折、・ξターンを有する
結晶性アルミノシリケート(以後AZ−1と呼ぶ)を用
いる場合に、メタノールおよび/またはジメチルエーテ
ルから低級オレフィンが選択性良く得られる事を見い出
し、て本発明に至った。
すなわち、本発明は、メタノールおよび/′!)たけジ
メチルエーテルから低級オレフィンをf!2造する際に
、下記表−1のX線回折、eターンを有する結晶性アル
2ノシリテートを用いる低級オレフィ/の製造方法であ
る。
メチルエーテルから低級オレフィンをf!2造する際に
、下記表−1のX線回折、eターンを有する結晶性アル
2ノシリテートを用いる低級オレフィ/の製造方法であ
る。
以下余白
表−1
本発明に用いる結晶性アルミノシリケートとは、特許出
願昭和57年第228283号に示されるAZ−1と呼
ばれる特異な結晶構造を有する結晶性アルミノシリケー
トである。
願昭和57年第228283号に示されるAZ−1と呼
ばれる特異な結晶構造を有する結晶性アルミノシリケー
トである。
このゼオライトAZ−1は、一般に、シリカ源としてシ
リカゾル、アルξす源として、少量の硫酸アルミニウム
、硝酸アルミニウム等、アルカリ金属源として、少量の
水酸化ナトリウム、有機カチオン源として、l、8−ジ
アミノ−4−アミノメチルオクタンを用いて、150〜
180°の水熱合成条件で合成される高シリカのゼオラ
イトである。
リカゾル、アルξす源として、少量の硫酸アルミニウム
、硝酸アルミニウム等、アルカリ金属源として、少量の
水酸化ナトリウム、有機カチオン源として、l、8−ジ
アミノ−4−アミノメチルオクタンを用いて、150〜
180°の水熱合成条件で合成される高シリカのゼオラ
イトである。
このAZ−1の特徴は、結晶が非常に大きくかつ、細孔
性酸点が細孔内酸点にくらべて非常に少。
性酸点が細孔内酸点にくらべて非常に少。
ない事である。この事は本反応を行う上で非常に有利で
ある。なぜならば、本反応の選択性を低下させる芳香族
化反応は、細孔性酸点て起り易いからである。
ある。なぜならば、本反応の選択性を低下させる芳香族
化反応は、細孔性酸点て起り易いからである。
本発明において、原料物質であるメタノールおよび/ま
たはジメチルエーテルは、単独でも不活性なガスで希釈
しても用いる事ができる。
たはジメチルエーテルは、単独でも不活性なガスで希釈
しても用いる事ができる。
本発明における反応温度は、200〜SOO℃、好まし
くけ、300〜400℃であり、反応圧力は、減圧、常
圧、加圧いずれでもよい。
くけ、300〜400℃であり、反応圧力は、減圧、常
圧、加圧いずれでもよい。
本発明は、固定床、移動床、および流動床で行う事が好
ましい。
ましい。
以下、実施例によって本発明をさらに詳しく説明する。
参考例1
t、S−−、tアミノ−4−アミツメチルオクタン1o
ok、硫酸アルミニウム(kも(804)l・18馬O
) 5− 5y、水酸化ナトリウム5yを水150yにとかし、さ
らに、シリカゾル(30ヂ5iO2)200yを加えて
均質な溶液を得た。この溶液をかきまぜながら20係硫
酸30りを滴下して均質なゲルを得た。
ok、硫酸アルミニウム(kも(804)l・18馬O
) 5− 5y、水酸化ナトリウム5yを水150yにとかし、さ
らに、シリカゾル(30ヂ5iO2)200yを加えて
均質な溶液を得た。この溶液をかきまぜながら20係硫
酸30りを滴下して均質なゲルを得た。
さらに、このゲルをホモジナイザーに入れ、11000
0rpでlO分間混合した。このゲルをテフロンコーテ
ィングステンレス製耐圧溶器中で、180℃、48時間
静置して結晶化を行った。
0rpでlO分間混合した。このゲルをテフロンコーテ
ィングステンレス製耐圧溶器中で、180℃、48時間
静置して結晶化を行った。
得られた生成物を濾過し、イオン交換水で洗浄した後、
120℃で3時間乾燥してさらに500’Cで4時間焼
成したのち、X線回折分析を行った。その結果、この生
成物は、AZ−1であった。
120℃で3時間乾燥してさらに500’Cで4時間焼
成したのち、X線回折分析を行った。その結果、この生
成物は、AZ−1であった。
実施例1
参考例1で合成したAZ−1を用いて、原料をメタノー
ルで反応を行った。
ルで反応を行った。
反応条件はメタノール/ N* (モル比)=t/a。
反応温度=330℃、5V=3000hr−’、常圧で
行った。反応開始後、9〜10時間の結果は、メタノー
ル転化率=951.炭化水素選択率=95係であった。
行った。反応開始後、9〜10時間の結果は、メタノー
ル転化率=951.炭化水素選択率=95係であった。
得られた炭化水素中の生成物分布は、 6−
以下のとおりである。
実施例2
反応温度が380℃である事以外は、実施例1と同じ条
件で反応を行った。
件で反応を行った。
反応開始後、9〜10時間の結果は、メタノール転化率
toos、炭化水素選択率94優であった。
toos、炭化水素選択率94優であった。
又、炭化水素中の生成物分布は以下の通りであった。
7−
比較例
モービル特許(#!j公昭46−10064号公報)に
従い合成したZ S M −5をプロトン交換したもの
を触媒として用いて、実施例1と同じ条件で反応を行っ
た。
従い合成したZ S M −5をプロトン交換したもの
を触媒として用いて、実施例1と同じ条件で反応を行っ
た。
反応開始後、9〜IO時間の結果は、メタノール転化率
lo o S、炭化水素選択率95係であった。
lo o S、炭化水素選択率95係であった。
又、炭化水素中の生成物分布は以下の通りであった・
(以下余9)−ロ
− 実施例3 参考例1で合成したAZ−1を用いて、原料をジメチル
エーテルにして反応を行った。
(以下余9)−ロ
− 実施例3 参考例1で合成したAZ−1を用いて、原料をジメチル
エーテルにして反応を行った。
反応条件は、ジメチルエーテル/ Nz (モル比)=
1/3反応温度330℃、SV3500 hrづ常圧で
行った。
1/3反応温度330℃、SV3500 hrづ常圧で
行った。
反応開始後、4〜5時間の結果は、ジメチルエーテル転
化率95優であった。得られた炭化水素中の生成物分布
は以下の通りである。
化率95優であった。得られた炭化水素中の生成物分布
は以下の通りである。
(以下余色)
= 9−
10−
手続補正帯(自発)
昭和j9年グ月に日
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
1、事件の表示 昭和j♂年特許願第 60493
号2 発明の名称 低級オレフィンの製造法 a 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番6号明細書の「特許
請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」の欄よ 補正の
内容 (1)明細書第1頁の「特許請求の範囲」を、別紙の如
く訂正する。
号2 発明の名称 低級オレフィンの製造法 a 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番6号明細書の「特許
請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」の欄よ 補正の
内容 (1)明細書第1頁の「特許請求の範囲」を、別紙の如
く訂正する。
(2) 同第グ頁の「表−7」を、添付の「表−/」
に訂正する。
に訂正する。
以上
表−/
特許請求の範囲
メタノールおよび/またはジメチルエーテルから低級オ
レフィンを製造するに際し、X線回折図において下記の
回折角および相対強度を有する結晶性アルミノシリケー
トを用いる事を特徴とする低級オンフィンの製造法
レフィンを製造するに際し、X線回折図において下記の
回折角および相対強度を有する結晶性アルミノシリケー
トを用いる事を特徴とする低級オンフィンの製造法
Claims (1)
- メタノールおよび/またはジメチルエーテルから低級オ
レフィンを製造するに際し、Xi!11回折図において
下記の回折角および相対強度を有する結晶性アルミノシ
リテートを用いる事を特徴とする低級オレフィンの製造
法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58060693A JPS59186930A (ja) | 1983-04-08 | 1983-04-08 | 低級オレフインの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58060693A JPS59186930A (ja) | 1983-04-08 | 1983-04-08 | 低級オレフインの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59186930A true JPS59186930A (ja) | 1984-10-23 |
Family
ID=13149628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58060693A Pending JPS59186930A (ja) | 1983-04-08 | 1983-04-08 | 低級オレフインの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59186930A (ja) |
-
1983
- 1983-04-08 JP JP58060693A patent/JPS59186930A/ja active Pending
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