JPS59183859A - キヤスト層を施す装置 - Google Patents
キヤスト層を施す装置Info
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- JPS59183859A JPS59183859A JP59049409A JP4940984A JPS59183859A JP S59183859 A JPS59183859 A JP S59183859A JP 59049409 A JP59049409 A JP 59049409A JP 4940984 A JP4940984 A JP 4940984A JP S59183859 A JPS59183859 A JP S59183859A
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0241—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to elongated work, e.g. wires, cables, tubes
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
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- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は基体上にフィルム形成液の一つまたはそｎ以上
の層のキャスティング（ｃａｓｔｉｎｇ ｓ流延）およ
びその目的のために使用さｆ１７）装置に関する。
の層のキャスティング（ｃａｓｔｉｎｇ ｓ流延）およ
びその目的のために使用さｆ１７）装置に関する。
先行技術においては、移動する基体上にフィルム形成液
全キャストするための装置がなかった。この型式の既知
のコーティング装置（米国特許第４，５５５，６７２号
明細書）においては、吸引装置が固定壁部、低圧室およ
び所定の設定さｎた容積を有する真空室を備えている。
全キャストするための装置がなかった。この型式の既知
のコーティング装置（米国特許第４，５５５，６７２号
明細書）においては、吸引装置が固定壁部、低圧室およ
び所定の設定さｎた容積を有する真空室を備えている。
こｎらの二つの室は吸引装置と基体との間の隙間を介し
て互いに連絡している。低圧室中の低圧はキャ艮ト材料
によシキャスティング用隙間の中に形成さｎるビードを
安定させる作用をする。低圧室の三つの側部が真空鼠に
より囲繞さｔているので、周囲の環境から流入する空気
により生ずる乱ｎｋ犬幅に回避することができる。その
結果、ビードが空気の乱流まｆＣは圧力の変動に起因す
るいかなる乱ｆ’Ｌ’ｅも受けないことが保証さ几るの
で、キャスト層を均一に適用することができる。しかし
ながら、低圧室の中の圧力変動に基づいて、キャスト層
の定期的な乱わが時折見らｒる。そのうえ、操作状態（
異なるシートの送シ速度、基体等の異なる厚さ等）の変
化のために最適の関保全再び設定することが必要である
場合、そして吸引装置と基体との間の隙間を変更するた
めに吸引装置が半径方向に調節さ扛る場合ですらもある
問題が生ずる。
て互いに連絡している。低圧室中の低圧はキャ艮ト材料
によシキャスティング用隙間の中に形成さｎるビードを
安定させる作用をする。低圧室の三つの側部が真空鼠に
より囲繞さｔているので、周囲の環境から流入する空気
により生ずる乱ｎｋ犬幅に回避することができる。その
結果、ビードが空気の乱流まｆＣは圧力の変動に起因す
るいかなる乱ｆ’Ｌ’ｅも受けないことが保証さ几るの
で、キャスト層を均一に適用することができる。しかし
ながら、低圧室の中の圧力変動に基づいて、キャスト層
の定期的な乱わが時折見らｒる。そのうえ、操作状態（
異なるシートの送シ速度、基体等の異なる厚さ等）の変
化のために最適の関保全再び設定することが必要である
場合、そして吸引装置と基体との間の隙間を変更するた
めに吸引装置が半径方向に調節さ扛る場合ですらもある
問題が生ずる。
本発明の目的は操作状態が変更さｎた場合の低圧室中の
圧力の変動および乱流音さらに減少可能にする上記の型
式の装置を提供することである。本発明の第一実施態様
においては、この目的は円周方向における仕切板および
／または端壁部を調節することにより達成さｎ、る。
圧力の変動および乱流音さらに減少可能にする上記の型
式の装置を提供することである。本発明の第一実施態様
においては、この目的は円周方向における仕切板および
／または端壁部を調節することにより達成さｎ、る。
第一実施態様と同時に使用しうる本発明の第二実施態様
によｎば、この目的は低圧室と真空室と全バイパスによ
り接続することにより達成さｎる。
によｎば、この目的は低圧室と真空室と全バイパスによ
り接続することにより達成さｎる。
本発明は移動するシート状基体の上に少くとも一つのキ
ャスト層を適用するための装置であって、基体を案内す
る回転キャスティングロールと、液状コーティング組成
物のための少くとも１個の吐出スロットヲ有する注入容
器とを備え、前記注入容器は前記キャスティングロール
に隣接して配置さｎて前記キャスティングロールとの間
にキャスティング用隙間を保ち、さらに、前記キャステ
ィングロールおよび前記注入容器に隣接して配置さ几た
吸引装置全備え、さらに、（１）前記ｌ！Ｊ間から仕切
板まで円周方向に延びるハウジング中の低圧室と、（２
）前記仕切板から特に前記低圧室の前側部に沿って延び
る延長部全備えた端壁部まで延びる真空室とを有してい
る前記装置に関するものである。
ャスト層を適用するための装置であって、基体を案内す
る回転キャスティングロールと、液状コーティング組成
物のための少くとも１個の吐出スロットヲ有する注入容
器とを備え、前記注入容器は前記キャスティングロール
に隣接して配置さｎて前記キャスティングロールとの間
にキャスティング用隙間を保ち、さらに、前記キャステ
ィングロールおよび前記注入容器に隣接して配置さ几た
吸引装置全備え、さらに、（１）前記ｌ！Ｊ間から仕切
板まで円周方向に延びるハウジング中の低圧室と、（２
）前記仕切板から特に前記低圧室の前側部に沿って延び
る延長部全備えた端壁部まで延びる真空室とを有してい
る前記装置に関するものである。
本発明は添付図面にさらに評細に例示しである。
第１図について述べると、キャスティングロール１が車
軸２のまわりに矢印６で示した方向に回転するようにな
っている。シート形の基体４がキャスティングロール１
の上に導かｎる。
軸２のまわりに矢印６で示した方向に回転するようにな
っている。シート形の基体４がキャスティングロール１
の上に導かｎる。
符号５で示した押出しコーティング装置が液状の績Ｉ？
！６を基体４に移送する作用をする。基体４十ににフィ
ルム状のキャスト層７が形成さｎる。このフィルムの厚
さは基体４の送り速度が液状積層６の流速よりもかなり
高く、例えば１０倍であるので液状積層６の厚さよりも
はるかに薄い。
！６を基体４に移送する作用をする。基体４十ににフィ
ルム状のキャスト層７が形成さｎる。このフィルムの厚
さは基体４の送り速度が液状積層６の流速よりもかなり
高く、例えば１０倍であるので液状積層６の厚さよりも
はるかに薄い。
液状コーティング絹成戦ｊ、すなわちキャスティング材
料は加熱可能な注入容器８にポンプ９により供箱さ几る
。敵状コーティング組成物は室１０から吐出スロット１
１を経由して斜面１２に到達する。斜面１２上には、液
状コーティング組成物が敵状積層６として流下する。注
入容器８は吐出スロット１１と組み合わさ几た複数個の
室１０を備えることができ、そｎによりいくつかの液状
積層６を既知の態様で基体４上に互いに重なシ合うよう
に供給することができる。
料は加熱可能な注入容器８にポンプ９により供箱さ几る
。敵状コーティング組成物は室１０から吐出スロット１
１を経由して斜面１２に到達する。斜面１２上には、液
状コーティング組成物が敵状積層６として流下する。注
入容器８は吐出スロット１１と組み合わさ几た複数個の
室１０を備えることができ、そｎによりいくつかの液状
積層６を既知の態様で基体４上に互いに重なシ合うよう
に供給することができる。
特定の実施態様においては、この液体は感光性エマルジ
ョンであるので、コーティングさｎた基体４は写真記録
用材料として使用することができる。注入容器８と基体
４との間にキャスティング用隙間１６が形成さｎる。こ
の隙間１５は基体４により完全に満たさ扛ない範囲に液
状積層６のビード１４により架橋さ几る。キャスティン
グ用隙間１６は注入容器８を半径方向構成部分により調
節することにより変更することができる。注入容器８は
また操作中に遵守しなけｎばならない多くの要素、例え
ばエマルジョンおよび被覆溶液の物質特性、基体上の液
状積層の厚さ、キャスティング速度範囲等を考慮するた
めにランダムなその他の方向に調節することができる。
ョンであるので、コーティングさｎた基体４は写真記録
用材料として使用することができる。注入容器８と基体
４との間にキャスティング用隙間１６が形成さｎる。こ
の隙間１５は基体４により完全に満たさ扛ない範囲に液
状積層６のビード１４により架橋さ几る。キャスティン
グ用隙間１６は注入容器８を半径方向構成部分により調
節することにより変更することができる。注入容器８は
また操作中に遵守しなけｎばならない多くの要素、例え
ばエマルジョンおよび被覆溶液の物質特性、基体上の液
状積層の厚さ、キャスティング速度範囲等を考慮するた
めにランダムなその他の方向に調節することができる。
吸引装置は低圧室１６および真空室１７を備えたハウジ
ング１５を有している。真空室１７はブロワ１８、例え
ば、真空ポンプに接続さｎている。ビード１４の安定性
は低圧室１６の中の低圧により増大さｎる。従って、低
圧室１６は赦状積層６の幅方向にわたって延びている。
ング１５を有している。真空室１７はブロワ１８、例え
ば、真空ポンプに接続さｎている。ビード１４の安定性
は低圧室１６の中の低圧により増大さｎる。従って、低
圧室１６は赦状積層６の幅方向にわたって延びている。
真空室は二つの延長部１９および２０（第６図）’ｔＭ
している。延長部１９および２０は車軸２に垂直な平面
中で低圧室１６の両側に沿ってキャスティング用隙間１
６まで延びている。ハウジング１５は基体４の幅の如伺
によシこの基体４またはキャスティングロール１と共に
隙間全形成する側壁部２１および２２を有しており、そ
して周囲の大気からに空室１７の中に到達する空気の量
はこの隙間の幅により左右さ几る。
している。延長部１９および２０は車軸２に垂直な平面
中で低圧室１６の両側に沿ってキャスティング用隙間１
６まで延びている。ハウジング１５は基体４の幅の如伺
によシこの基体４またはキャスティングロール１と共に
隙間全形成する側壁部２１および２２を有しており、そ
して周囲の大気からに空室１７の中に到達する空気の量
はこの隙間の幅により左右さ几る。
ハウジング１５はさらに側壁部２３および２４ヲ有して
おシ、そして仕切板２５がこｎらの側壁部２６および２
４の間に延びている。側壁部２１および２２の間に、端
壁部２６が延びている。仕切板２５および端壁部２６は
キャスティングロール１の円周方向に調節可能である。
おシ、そして仕切板２５がこｎらの側壁部２６および２
４の間に延びている。側壁部２１および２２の間に、端
壁部２６が延びている。仕切板２５および端壁部２６は
キャスティングロール１の円周方向に調節可能である。
吸引装置のハウジング１５はその底部としてキャスティ
ングロールＩＫ同心状の部分的に円筒形の皿形部材２７
を有しておシ、そしてこの皿形部材２７の頂部は案内面
２８を形成している。この案内面２８上で仕切板２５お
よび端壁部２６を脚筒することができる。仕切板２５は
側部に円周セグメント２９および６ｏを備えたプレート
からなっている。端壁部２６は側部に円周セグメント６
１および６２を備えたプレートからなっている。こｎら
の円周セグメント２９．６０．６１．５２は側壁部２６
および２４、側壁部２１および２２によシそｎぞ几支え
らｎている。円周セグメン） ２９，３０．３１．３２
の下側部３３．３４は仕切板２５および端壁部２６を確
実に案内することができる。仕切板２５および端壁部２
６は給付装置３５および３６、特に締付ねじにより所定
位置に確実に保持することができる。
ングロールＩＫ同心状の部分的に円筒形の皿形部材２７
を有しておシ、そしてこの皿形部材２７の頂部は案内面
２８を形成している。この案内面２８上で仕切板２５お
よび端壁部２６を脚筒することができる。仕切板２５は
側部に円周セグメント２９および６ｏを備えたプレート
からなっている。端壁部２６は側部に円周セグメント６
１および６２を備えたプレートからなっている。こｎら
の円周セグメント２９．６０．６１．５２は側壁部２６
および２４、側壁部２１および２２によシそｎぞ几支え
らｎている。円周セグメン） ２９，３０．３１．３２
の下側部３３．３４は仕切板２５および端壁部２６を確
実に案内することができる。仕切板２５および端壁部２
６は給付装置３５および３６、特に締付ねじにより所定
位置に確実に保持することができる。
そのうえに、部分的に円筒形の皿形部材２７會円筒形接
触面６９で補強する２個の支持部材５７および３８がハ
ウジング１５の構成部分になっている。この接触面６９
はサポート４１の部分的に円筒形の案内面４０上に載っ
ている。
触面６９で補強する２個の支持部材５７および３８がハ
ウジング１５の構成部分になっている。この接触面６９
はサポート４１の部分的に円筒形の案内面４０上に載っ
ている。
（第２図に示した）隙間６０の＠を必１節するために固
定さ几たフレーム台４４およびキャスティングロール１
に対するサポート４１の読さを作勧桿４２および４６に
より調節することができる。
定さ几たフレーム台４４およびキャスティングロール１
に対するサポート４１の読さを作勧桿４２および４６に
より調節することができる。
低圧室１６の中には堰４５が配置さ几てコーティング材
料のための収集用スは−ス４６全形成している。流出開
口部４７がこの収集用スペース４６から外部に至ってい
る。仕切板２５はこのようにして流出開口部４７を遮蔽
しないで注入容器８の方向に比較的に遠くまで押しこむ
ことができる。
料のための収集用スは−ス４６全形成している。流出開
口部４７がこの収集用スペース４６から外部に至ってい
る。仕切板２５はこのようにして流出開口部４７を遮蔽
しないで注入容器８の方向に比較的に遠くまで押しこむ
ことができる。
注入容器８とノ・ウジング１５との間には、シール４８
が弾性索、弾性封止剤またはベローズとして設けられて
いる。注入容器８および吸引装置はこのようにして互い
に独立して調節することができる。低圧室１６はそｎに
もかかわらず外側部に対して密封さ几る。仕切板２５は
シール４９を有している。端壁部２６はシール５０を有
している。
が弾性索、弾性封止剤またはベローズとして設けられて
いる。注入容器８および吸引装置はこのようにして互い
に独立して調節することができる。低圧室１６はそｎに
もかかわらず外側部に対して密封さ几る。仕切板２５は
シール４９を有している。端壁部２６はシール５０を有
している。
仕切板２５には、バイパス５１が配置さｎている。この
バイパス５１は仕切板の切欠部、すなわち複数個のスロ
ットおよびそ几らとＩｉＪ様なものから構成することが
できる。第２図にょ几ば、バイパス５１は仕切板２５の
旨さの一部分およびその幅にわたって分布させた多数の
小穴５２を有している。小穴５２の真空室１７に面する
側は絞りフィルタ層５６によって遊蔽さ几テイル。絞シ
フィルタ層５３け交換可能ｆｘホルダ５４、例えば取外
し可能なフレームにより所定位置に保持さ几ている。こ
の絞りフィルタ層５６は異なる絞り作用が所望でｎる場
合にはそｎに応じて交換することができる。
バイパス５１は仕切板の切欠部、すなわち複数個のスロ
ットおよびそ几らとＩｉＪ様なものから構成することが
できる。第２図にょ几ば、バイパス５１は仕切板２５の
旨さの一部分およびその幅にわたって分布させた多数の
小穴５２を有している。小穴５２の真空室１７に面する
側は絞りフィルタ層５６によって遊蔽さ几テイル。絞シ
フィルタ層５３け交換可能ｆｘホルダ５４、例えば取外
し可能なフレームにより所定位置に保持さ几ている。こ
の絞りフィルタ層５６は異なる絞り作用が所望でｎる場
合にはそｎに応じて交換することができる。
端壁部２６ Ｋはｔその幅方向に延びるみぞ５５が形成
さｎている。みぞ５５もまた政シフィルタ層５６により
遮蔽さｎている。絞シフィルタ層５６は交換可能なボル
ダ５７、例えば取外し可能なフレーＡにより所定位置に
保持さｎている。みぞ５５の反対側には吸引ライン５８
を設けである。吸引ライン５８は真空ポンプ１８に接続
さ１．ている。こ几らのフィルタは新しい操作状態に適
応するように取り替えることができる。
さｎている。みぞ５５もまた政シフィルタ層５６により
遮蔽さｎている。絞シフィルタ層５６は交換可能なボル
ダ５７、例えば取外し可能なフレーＡにより所定位置に
保持さｎている。みぞ５５の反対側には吸引ライン５８
を設けである。吸引ライン５８は真空ポンプ１８に接続
さ１．ている。こ几らのフィルタは新しい操作状態に適
応するように取り替えることができる。
低圧室１６の容積■１６、真空室１７の容積■１７、低
圧室１６のまゎｐの隙間６ｏに形成さｎた絞ＤＩＭ６お
よびパイ、ｏス５１にょ９形成さ扛た平行に構成さｎた
絞９Ｄ５１は隙間６゜により形成さｆ′した入口側絞ｐ
Ｄ１７および絞９フィルタ層５６にょ９形成さｎた出口
側絞５Ｄ５６と共に空気圧系を構成している。この空気
圧系は仕切板２５または端壁部２６全調節することによ
り影響をおよぼすことがあシ傅るある振動特性を有して
いる。その結果、すべてのめシうる励振周波数を減衰さ
せることが可能な設定を行うことができる。こｎらの励
振周波数は例えば真空ポンプ１８にょシ発生した振動、
キャスティングロール１の不釣合により発生した振動お
よび基体４の厚さおよび幅の変動により発生した撮動を
含んでいる。
圧室１６のまゎｐの隙間６ｏに形成さｎた絞ＤＩＭ６お
よびパイ、ｏス５１にょ９形成さ扛た平行に構成さｎた
絞９Ｄ５１は隙間６゜により形成さｆ′した入口側絞ｐ
Ｄ１７および絞９フィルタ層５６にょ９形成さｎた出口
側絞５Ｄ５６と共に空気圧系を構成している。この空気
圧系は仕切板２５または端壁部２６全調節することによ
り影響をおよぼすことがあシ傅るある振動特性を有して
いる。その結果、すべてのめシうる励振周波数を減衰さ
せることが可能な設定を行うことができる。こｎらの励
振周波数は例えば真空ポンプ１８にょシ発生した振動、
キャスティングロール１の不釣合により発生した振動お
よび基体４の厚さおよび幅の変動により発生した撮動を
含んでいる。
シートの送り速度が早い程、連行する空気、すなわち基
体４の境界層に沿って吸引さｎた空気の量が増大する。
体４の境界層に沿って吸引さｎた空気の量が増大する。
この空気は低圧室１６の中に集まシ、排出さｎなけｎば
ならない。このようにして供給さｎた空気の量が大きい
程、低圧室１６の中の空気ロールＷ（ｉ２図参照）の回
転エネルギが太きくなる。空気ロールおよびそのエネル
ギは仕切板２５、従って、低圧室１６の形状を脚励する
ことによりまたは空気ロールにより惹起さｎるビード１
４の乱ｎを最小限にとどめるようにバイパス５１を介し
て空気を排出することにより影響をおよぼすことができ
る。
ならない。このようにして供給さｎた空気の量が大きい
程、低圧室１６の中の空気ロールＷ（ｉ２図参照）の回
転エネルギが太きくなる。空気ロールおよびそのエネル
ギは仕切板２５、従って、低圧室１６の形状を脚励する
ことによりまたは空気ロールにより惹起さｎるビード１
４の乱ｎを最小限にとどめるようにバイパス５１を介し
て空気を排出することにより影響をおよぼすことができ
る。
しかしながら、シートの送シ速度が妬くなると、仕切板
２５妃より規制さｎた隙間の背後に乱ｎを生じ、従って
、ビード１４の付近に乱１ｔ”Ｌｆ生ずる。仕切板２５
を調節することにより、とｎらのかく乱作用は低圧室１
６の容積およびビード１４からの乱ｎの距離を増大する
ことによシ減少せしめらｎる。バイパスを使用すること
により、空気を低圧室１６を囲繞する隙間６ｏのみを介
して排出する必要がなくなる。この隙間６０は乱れをよ
り小さくするように小さくすることができる。
２５妃より規制さｎた隙間の背後に乱ｎを生じ、従って
、ビード１４の付近に乱１ｔ”Ｌｆ生ずる。仕切板２５
を調節することにより、とｎらのかく乱作用は低圧室１
６の容積およびビード１４からの乱ｎの距離を増大する
ことによシ減少せしめらｎる。バイパスを使用すること
により、空気を低圧室１６を囲繞する隙間６ｏのみを介
して排出する必要がなくなる。この隙間６０は乱れをよ
り小さくするように小さくすることができる。
バイパス５１を使用することによシ、いかなる場合でも
バイパス５１全介して十分な空気の排出が起るので、隙
間６０の実際の幅は以前よりも悪くならない役割をはた
す。そｎ故に、基体４が取９替えられたときに、隙間６
０の幅を新規に調節する必要がない。バイパス５１を使
用することにより、キャスティング速度または基体の厚
さが変更さｎた場合ですらも、吸引装置の半径方向の虐
節が不要である。
バイパス５１全介して十分な空気の排出が起るので、隙
間６０の実際の幅は以前よりも悪くならない役割をはた
す。そｎ故に、基体４が取９替えられたときに、隙間６
０の幅を新規に調節する必要がない。バイパス５１を使
用することにより、キャスティング速度または基体の厚
さが変更さｎた場合ですらも、吸引装置の半径方向の虐
節が不要である。
要約すると、低圧室、真空室およびそｎらの間に配置さ
ｆした絞り位置は空気振動系を形成する。仕切板および
／または端壁部を読節することにより、換ぎすると、低
圧室および／または真空至の谷積金適応させることによ
り共振周波数に影響をおよぼすことができる。こｎはバ
イパスを接続隙間に平行に配列する場合にもあてハする
ことである。このようにして、乱ｎによυ発生した低圧
室中の圧力変動をこのようにして効果的に減少させるこ
とができる。このような周波数の乱２’Ｌは、例えば、
真空ポンプにおいて発生し、そしてキャスティングロー
ルの偏ノｂまｆｃは基体の定規的な厚さく幅）の変史に
より生ずる。
ｆした絞り位置は空気振動系を形成する。仕切板および
／または端壁部を読節することにより、換ぎすると、低
圧室および／または真空至の谷積金適応させることによ
り共振周波数に影響をおよぼすことができる。こｎはバ
イパスを接続隙間に平行に配列する場合にもあてハする
ことである。このようにして、乱ｎによυ発生した低圧
室中の圧力変動をこのようにして効果的に減少させるこ
とができる。このような周波数の乱２’Ｌは、例えば、
真空ポンプにおいて発生し、そしてキャスティングロー
ルの偏ノｂまｆｃは基体の定規的な厚さく幅）の変史に
より生ずる。
第１図は本兜明による押出しコーティング装置を部分的
に横断面で示した略図、第２図は第１図の断面を拡大し
て例示した図、そして第６図は流し込み容器および吸引
装置を斜視図で示した平面図である。 １・・・キャスティングロール、４・・・基体、５・・
・押出しコーティング装置、６・・・液状積層、８・・
・注入容器、９・・・ポンプ、１６・・・隙間、１４・
・・ビード、１５・・・ハウジング、１６・・・低圧室
、１７・・・真空室、１９．２０・・・延長部、２１
、２２．２３．２４・・・側壁部、２５・・・仕切板、
２６・・・端壁部、２７・・・皿形部材、２８・・・案
内面、２９，３０，５１．３２・・・円周セグメンＩ’
、５５．５６・・・締付装置、３９・・・接触面、４０
・・・案内面、４６・・・収集スペース、４７・・・流
出開口部、５１・・・パイノぞス、５５，５６・・・絞
りフィルタ層、５４．５７・・・ホルダ、５８・・・吸
引ライン。 Ｆｉｇ、１ Ｆｉｇ、２
に横断面で示した略図、第２図は第１図の断面を拡大し
て例示した図、そして第６図は流し込み容器および吸引
装置を斜視図で示した平面図である。 １・・・キャスティングロール、４・・・基体、５・・
・押出しコーティング装置、６・・・液状積層、８・・
・注入容器、９・・・ポンプ、１６・・・隙間、１４・
・・ビード、１５・・・ハウジング、１６・・・低圧室
、１７・・・真空室、１９．２０・・・延長部、２１
、２２．２３．２４・・・側壁部、２５・・・仕切板、
２６・・・端壁部、２７・・・皿形部材、２８・・・案
内面、２９，３０，５１．３２・・・円周セグメンＩ’
、５５．５６・・・締付装置、３９・・・接触面、４０
・・・案内面、４６・・・収集スペース、４７・・・流
出開口部、５１・・・パイノぞス、５５，５６・・・絞
りフィルタ層、５４．５７・・・ホルダ、５８・・・吸
引ライン。 Ｆｉｇ、１ Ｆｉｇ、２
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）基体を案内する回転するキャスティングロールと、
液状キャスティング材料のための少くとも１個の吐出ス
ロットをＭする注入容器であり、前記キャスティングロ
ールに隣接して配置さｎてキャスティング用隙間を残す
注入容器と、前記キャスティングロールに隣接して配置
さｎかつ移動する基体に連行した空気を排出する作用を
する吸引装置とを組み合わせて備え、前記吸引装置はわ
ん曲したボックスの形態であり、該ボックスの頂部およ
び底部の各々は前記キャスティングロールに同心状の平
面中に配置さｎ、前記ボックスがノ・ウジングと、前記
ハウジング中の低圧室および真空室と、前記低圧室と前
記真空室との間の仕切板とヲ有し、前記低圧室が円周方
向に前記隙間から前記仕切板まで延び、そして前記真空
室が前記仕切板から前記低圧室の前側に沿って延びる延
長部を備えた端壁部まで延び、さらに、仕切板（２５）
および／または端壁部（２６）’を円周方向に調節でき
るようになっていることを特徴とする、移動するシート
形状の基体に少くとも一つのキャスト層を適用する装置
。 ２）低圧室（１６）および真空室（１７）がバイパス（
５１）ヲ介して互いに連絡せしめらｎていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ５）キャスティングロール（１）と−同心状の案内面（
２８）’に備え、前記案内面上で仕切板（２５）および
／゛または端壁部（２６）を調節することができること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ４）前記ハウジングの底部が案内面（２８）’に形成す
るキャスティングロール（１）に同心状の部分的に円筒
形の皿形部材（２７）であることを特徴とする特許請求
の範囲第５項に記載の装置。 ５）ハウジング（１５）そｎ自体をキャスティングロー
ル（１）に同心状の案内面（４０）上で調節しうるよう
になっていることを特徴とする特許請求の範囲第４項に
記載の装置。 ６）仕切板（２５）および／または端壁部（２６）の前
側部の両方がハウジングに固定さｎた側壁部（２１）、
（２２）、（２６）、（２４）により支えらｔているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 ７）仕切板（２５）および／または端壁部（２６）が前
側部に円周セグメント（２９）、（６０）、（５１）、
（６２）全備えたプレートにより形成さｎていること全
特徴とする、特許請求の範囲第６項に記載の装置。 ８）さらに、仕切板（２５）および／または端壁部（２
６）の位置全同定する締付装置（６５）、（３６）を備
えていること全特徴とする、特許請求の範囲第１項に記
載の装置。 ９）ねじが円周セグメント（２９）、（６０）、（６１
）、（６２）を貫通しかつ隣接した側壁部（２１）、（
２２）、（２３）、（２４）に締めつけ接触しているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第８項に記載の装置。 １０）低圧室（１６）がその底部に堰（４５）を備え、
堰（４５）が隙間（１３）に面する側に設けた流出開口
部（４７）を含む収集スペース（４６）を規制している
ことを特徴とする特許請求の範囲第９項に記載の装置。 １１）パ′イパスライン（５１）が少くとも一つの絞シ
濾過層（５３）によシ遮蔽さｎる仕切板の長さ方向にわ
たって分布した横断面を有していることを特徴とする特
許請求の範囲第１０項に記載の装置。 １２）吸引ライン（５８）が真空室（１７）に面する端
壁部（２６）の側に設けら几た長手方向のみぞ（５５）
から出発し、前記みぞ（５５）が少くとも一つの絞り濾
過層（５６）Ｋよｐ遮蔽さ几ていることを特徴とする特
許請求の範囲第１１項に記載の装置。 １６）濾過層（５６）、（５６）が交換可能なホルダ（
５４）、（５７）の中に配置さｎていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１２項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3309343A DE3309343C2 (de) | 1983-03-16 | 1983-03-16 | Vorrichtung zum Auftragen mindestens einer Gießschicht |
| DE3309343.1 | 1983-03-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59183859A true JPS59183859A (ja) | 1984-10-19 |
| JPH026580B2 JPH026580B2 (ja) | 1990-02-09 |
Family
ID=6193593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59049409A Granted JPS59183859A (ja) | 1983-03-16 | 1984-03-16 | キヤスト層を施す装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4545321A (ja) |
| EP (1) | EP0119850B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59183859A (ja) |
| DE (1) | DE3309343C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007245021A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 非接触塗工装置及びそれを備えた製紙機械 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0824874B2 (ja) * | 1988-08-15 | 1996-03-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| US5203922A (en) * | 1988-08-15 | 1993-04-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Application device |
| US5136966A (en) * | 1988-10-28 | 1992-08-11 | Konica Corporation | Web coating apparatus |
| US4981101A (en) * | 1989-01-11 | 1991-01-01 | Cataldo Ronald J | Vibratory article coater |
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| US5038707A (en) * | 1989-12-27 | 1991-08-13 | Xerox Corporation | Modular apparatus for cleaning, coating and curing photoreceptors in an enclosed planetary array |
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| DE4227908A1 (de) * | 1992-08-22 | 1994-02-24 | Hoechst Ag | Vorrichtung zum Erzeugen eines Unterdrucks |
| DE4228991A1 (de) * | 1992-08-31 | 1994-03-03 | Hoechst Ag | Beschichtungsvorrichtung |
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| US5849363A (en) * | 1997-01-21 | 1998-12-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Apparatus and method for minimizing the drying of a coating fluid on a slide coater surface |
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| US20180117620A1 (en) * | 2016-11-01 | 2018-05-03 | Delta Industrial Services, Inc. | Slot die boundary layer removal techniques |
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-
1983
- 1983-03-16 DE DE3309343A patent/DE3309343C2/de not_active Expired
-
1984
- 1984-03-16 US US06/590,512 patent/US4545321A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-03-16 EP EP84301810A patent/EP0119850B1/en not_active Expired
- 1984-03-16 JP JP59049409A patent/JPS59183859A/ja active Granted
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|---|---|---|---|---|
| JP2007245021A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 非接触塗工装置及びそれを備えた製紙機械 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0119850B1 (en) | 1987-06-03 |
| EP0119850A1 (en) | 1984-09-26 |
| DE3309343A1 (de) | 1984-09-20 |
| US4545321A (en) | 1985-10-08 |
| DE3309343C2 (de) | 1986-08-14 |
| JPH026580B2 (ja) | 1990-02-09 |
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