JPH09320949A

JPH09320949A - 真空乾燥装置

Info

Publication number: JPH09320949A
Application number: JP15597596A
Authority: JP
Inventors: Shunji Miyagawa; 俊二宮川; Yasuhide Nakajima; 泰秀中島; Shinichiro Murakami; 慎一郎村上; Jun Takemoto; 潤竹本
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1996-05-28
Filing date: 1996-05-28
Publication date: 1997-12-12
Anticipated expiration: 2016-05-28
Also published as: JP3631847B2

Abstract

(57)【要約】【課題】被乾燥体の乾燥時間の短縮が可能で、かつ、
乾燥後の被乾燥体の表面状態が極めて良好である真空乾
燥装置を提供する。【解決手段】真空チャンバーの底部に設けた排気口の
上方に中板を配設し、この中板上に載置用凸部を設けて
真空乾燥装置とし、この真空乾燥装置を、載置用凸部上
に載置された被乾燥体と真空チャンバーの内側上壁部と
の距離が調整できるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空乾燥装置に係
り、特に乾燥に要する時間の短縮が可能で、かつ、被乾
燥体の乾燥面が良好な真空乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＬＣＤ用カラーフィルタでは、
ガラス基板にレジスト液等の塗布液を塗布して乾燥し、
フォトリソグラフィー等により所望のパターンの形成が
行われる。塗布液の塗布方式としては、例えば、スピン
塗布方式、ナイフ塗布方式、ロール塗布方式およびビー
ド塗布方式等の種々の塗布方式が用いられている。この
ような何れの塗布方式で塗布した場合でも、パターン形
成工程の前に塗布膜の乾燥工程を経る必要がある。従
来、塗布液が塗布されたガラス基板等の被乾燥体は、オ
ーブンあるいはホットプレートにおいて加熱乾燥がなさ
れていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の加熱に
よる方法は乾燥に要する時間が長く、この結果、上述の
ようなＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程では、ガラス
基板の塗布膜の乾燥工程が全工程の律速段階となってい
た。そこで、近年、この乾燥工程の時間短縮を可能とす
るものとして真空乾燥装置が使用されている。これは、
塗布膜が形成されたガラス基板を真空状態に置き、溶剤
の蒸発速度を飛躍的に高めたものである。

【０００４】しかしながら、真空乾燥装置を使用するこ
とによっても、乾燥工程が全工程の律速段階であること
は変わらず、乾燥工程の更なる時間短縮が重要な課題と
なっている。また、ＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程
では、単に乾燥時間の短縮が必要であるだけではなく、
ガラス基板上の乾燥された塗布膜の表面が平滑であるこ
とが要求されている。

【０００５】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、被乾燥体の乾燥時間の短縮が可能で、か
つ、乾燥後の被乾燥体の表面状態が極めて良好である真
空乾燥装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は底部に排気口を有する真空チャンバーと、
該真空チャンバー内において前記排気口の上方に配設さ
れた中板と、該中板上に設けられた載置用凸部とを少な
くとも備え、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と
前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能で
あるような構成とした。

【０００７】また、本発明の真空乾燥装置は、前記中板
を前記真空チャンバーの底部に対して上下動させること
により、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記
真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能である
ような構成とした。

【０００８】また、本発明の真空乾燥装置は、前記載置
用凸部の高さを変更することにより、前記載置用凸部上
に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁
部との距離が調整可能であるような構成とした。

【０００９】また、本発明の真空乾燥装置は、前記真空
チャンバーの側壁部にスペーサを着脱することにより、
前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャ
ンバーの内側上壁部との距離が調整可能であるような構
成とした。

【００１０】さらに、本発明の真空乾燥装置は、前記真
空チャンバーの内側上壁部の下方に天板の配設が可能で
あり、該天板を配設することにより、実質的に前記載置
用凸部上に載置される被乾燥体と前記真空チャンバーの
内側上壁部との距離が調整可能であるような構成とし
た。

【００１１】上述のような本発明では、被乾燥体に応じ
て被乾燥体と真空チャンバーの内側上壁部との距離を調
整することにより、載置用凸部上に載置される被乾燥体
から中板上面を通り、中板と真空チャンバー底部との間
を経由して排気口に至る排気経路が被乾燥体に応じた最
適なものとすることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明を行う。

【００１３】図１は本発明の真空乾燥装置の一実施形態
を示す概略構成図である。図１において、本発明の真空
乾燥装置１は、真空チャンバー２と、この真空チャンバ
ー２の底部２Ａに配設された中板５と、この中板５上に
設けられた複数の載置用凸部７とを備え、真空チャンバ
ー２の底部２Ａには排気口３が形成されている。

【００１４】真空乾燥装置１を構成する真空チャンバー
２は、公知の種々の真空チャンバーを使用することがで
き、内部容積、内部形状等は適宜設定することができ
る。図示例では、真空チャンバー２は底部２Ａ、上壁部
２Ｂ、側壁部２Ｃを備え、縦断面形状が長方形をなして
いる。また、真空チャンバーの底部２Ａに設けられる排
気口３は、図示されていない真空ポンプに接続され、こ
の排気口３を介して真空チャンバー２内の気体が外部に
排出され、真空チャンバー２内を所定の真空状態とする
ことができる。この排気口３は、図示例では真空チャン
バー２の低部２Ａの中央に１個形成されているが、複数
の排気口３（例えば、４個）を底部２Ａに形成してもよ
い。尚、この場合、排気口３は、いずれも中板５の下方
の位置に形成することが好ましい。

【００１５】真空乾燥装置１を構成する中板５は、排気
口３の上方に位置するように脚部５Ａを介して真空チャ
ンバー２の底部２Ａに配設されている。この中板５は、
アルミニウム、ＳＵＳ、鉄、銅、樹脂等の材料により形
成されたものを使用することができ、中板５の面積は、
真空チャンバー２の底部２Ａの面積の７０〜９９％の範
囲とすることが好ましい。また、中板５の周辺部と真空
チャンバー２の側壁部２Ｃとの距離は、できるだけ均一
となるように中板５を配設することが好ましく、中板５
の周辺部と真空チャンバー２の側壁部２Ｃとの距離を
０．５ｃｍ以上に設定することが好ましい。

【００１６】本実施形態では、中板５は脚部５Ａによっ
て上下動可能とされている。脚部５Ａの構造は特に制限
はなく、手動あるいはモータ駆動等により高さを調整で
きるものであればよい。また、脚部５Ａが着脱可能であ
り、所望の高さの脚部５Ａを介して中板５を配設するよ
うにしてもよい。このような脚部５Ａの高さ調整の可能
な範囲は、例えば、３〜５０ｍｍ程度とすることができ
る。

【００１７】中板５上に設けられた載置用凸部７は、被
乾燥体Ｓを中板５表面から所望の距離に浮かして保持す
るためのものであり、円錐形状、円柱形状、角柱形状等
任意の形状のものとすることができる。この載置用凸部
７の形成個数、形成位置は特に制限はなく、また、載置
用凸部７の高さは、０．５〜１０ｍｍ程度の範囲で設定
することができる。載置用凸部７は、中板５との摩擦等
により被乾燥体Ｓに傷を与えないような材料を選定して
形成されたものを使用でき、中板５の表面に固定して配
設することができる。

【００１８】このような真空乾燥装置１は、載置用凸部
７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真空チ
ャンバー２の内側上壁部２Ｂとの距離Ｈが調整可能であ
る。すなわち、例えば、図１に示される脚部５Ａ（高さ
ｈ）を、図２に示されるように高く（高さｈ´）するこ
とにより中板５を真空チャンバー２の底部２Ａに対して
上昇させ、被乾燥体Ｓと真空チャンバー２の内側上壁部
２Ｂとの距離をＨ´（Ｈ＞Ｈ´）とすることができる。
したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載置用凸部７上に載
置される被乾燥体Ｓから中板５の表面を通り、中板５と
真空チャンバー２の底部２Ａとの間を経由して排気口３
に至る排気経路（図１、図２に矢印で示される経路）
を、乾燥に最も適したものとすることができる。これに
より、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を荒らすこと
なく乾燥時間を短縮することが可能となり、被乾燥体の
乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。

【００１９】図３は本発明の真空乾燥装置の他の実施形
態を示す概略構成図である。図３において、本発明の真
空乾燥装置１１は、真空チャンバー１２と、この真空チ
ャンバー１２の底部１２Ａに脚部１５Ａを介して配設さ
れた中板１５と、この中板１５上に設けられた複数の載
置用凸部１７とを備え、真空チャンバー１２の底部１２
Ａには排気口１３が形成されている。

【００２０】この真空乾燥装置１１では、中板１５上に
設けられた複数の載置用凸部１７が、その高さを調整で
きることを特徴とする。載置用凸部１７は、載置用凸部
７と同様に被乾燥体Ｓを中板１５表面から所望の距離に
浮かして保持するためのものであり、手動あるいはモー
タ駆動により長さを調整できるものであればよい。ま
た、載置用凸部１７が中板１５に着脱可能であり、所望
の高さの載置用凸部１７を中板１５に装着できるように
してもよい。このような載置用凸部１７の高さ調整の可
能な範囲は、例えば、０．５〜１０ｍｍ程度とすること
ができる。上記の載置用凸１７の形状には特に制限はな
く、また、載置用凸部１７の形成個数、形成位置は、被
乾燥体Ｓを安定して保持できる範囲で任意に設定でき
る。

【００２１】尚、上述の真空乾燥装置１１を構成する真
空チャンバー１２、中板１５は、上述の真空乾燥装置１
を構成する真空チャンバー２、中板５と同様にすること
ができるので、ここでの説明は省略する。また、脚部１
５Ａは、中板１５の下面に固着された高さ固定式のもの
でもよく、あるいは、上述の実施形態における脚部５Ａ
と同様に高さの調整が可能なものでもよい。

【００２２】このような真空乾燥装置１１は、載置用凸
部１７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真
空チャンバー１２の内側上壁部１２Ｂとの距離Ｈが調整
可能である。すなわち、例えば、図３に示される載置用
凸部１７（高さｈ）を、図４に示されるように高く（高
さｈ´）することにより被乾燥体Ｓと真空チャンバー１
２の内側上壁部１２Ｂとの距離をＨ´（Ｈ＞Ｈ´）とす
ることができる。したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載
置用凸部１７上に載置される被乾燥体Ｓから中板１５の
表面を通り、中板１５と真空チャンバー１２の底部１２
Ａとの間を経由して排気口１３に至る排気経路（図３、
図４に矢印で示される経路）を、乾燥に最も適したもの
とすることができる。これにより、被乾燥体の突沸を防
止して表面状態を荒らすことなく乾燥時間を短縮するこ
とが可能となり、被乾燥体の乾燥後の表面状態も極めて
良好なものとなる。尚、上述のように、脚部１５Ａを上
述の実施形態における脚部５Ａと同様に高さの調整が可
能なものとし、載置用凸部１７の高さ調整と脚部１５Ａ
の高さ調整を併用して、被乾燥体Ｓと真空チャンバー１
２の内側上壁部１２Ｂとの距離Ｈの調整を行ってもよ
い。

【００２３】図５は本発明の真空乾燥装置の他の実施形
態を示す概略構成図である。図５において、本発明の真
空乾燥装置２１は、真空チャンバー２２と、この真空チ
ャンバー２２の底部２２Ａに脚部２５Ａを介して配設さ
れた中板２５と、この中板２５上に設けられた複数の載
置用凸部２７とを備え、真空チャンバー２２の底部２２
Ａには排気口２３が形成されている。

【００２４】この真空乾燥装置２１では、真空チャンバ
ー２２は底部２２Ａ、上壁部２２Ｂ、側壁部２２Ｃを備
え、側壁部２２Ｃはスペーサ２９が着脱可能であり、所
望のスペーサ２９を装着することにより側壁部２２Ｃの
高さを調整できることを特徴とする。図示例では、スペ
ーサ２９は側壁部２２Ｃが上壁部２２Ｂと当接する位
置、すなわち、側壁部２２Ｃの最上部おいて側壁部２２
Ｃに装着されているが、スペーサ２９の側壁部２２Ｃへ
の着脱可能位置はこれに限定されるものではない。スペ
ーサ２９の高さｈは任意に設定することができ、被乾燥
体の種類に応じて多種の高さのスペーサを予め準備する
ことができる。このスペーサ２９の構造は、側壁部２２
Ｃの平面形状に対応した形状を備え、側壁部２２Ｃに装
着した際に、真空チャンバー２２内を気密状態にできる
ものであれば、特に制限はない。具体的には、アルミニ
ウム、ＳＵＳ、鉄、銅等の金属、または、樹脂等を用い
て側壁部２２Ｃの平面形状に対応した形状のスペーサ２
９を作製し、さらに、真空チャンバー２２内を気密状態
とするために、このスペーサ２９の上面および下面にＯ
リングを装着し、あるいは、ゴムシートを貼着する等の
構成にすることができる。

【００２５】このような真空チャンバー２２は、上記の
スペーサ２９の着脱可能な機構を除いて、公知の種々の
真空チャンバーを使用することができ、内部容積、内部
形状等は適宜設定することができる。また、真空チャン
バーの底部２２Ａに設けられる排気口２３は、図示され
ていない真空ポンプに接続され、この排気口２３を介し
て真空チャンバー２２内の気体が外部に排出され、真空
チャンバー２２内を所定の真空状態とすることができ
る。この排気口２３は、図示例では真空チャンバー２２
の低部２２Ａの中央に１個形成されているが、複数の排
気口２３を底部２２Ａに形成してもよい。この場合、排
気口２３は、いずれも中板２５の下方の位置に形成する
ことが好ましい。

【００２６】尚、上述の真空乾燥装置２１を構成する中
板２５および載置用凸部２７は、上述の真空乾燥装置１
を構成する中板５、載置用凸部７と同様にすることがで
きるので、ここでの説明は省略する。また、脚部２５Ａ
は、中板２５の下面に固着された高さ固定式のものでも
よく、あるいは、上述の実施形態における脚部５Ａと同
様に高さの調整が可能なものでもよい。さらに、載置用
凸部２７は、中板２５の表面に固着された高さ固定式の
ものでもよく、あるいは、上述の実施形態における載置
用凸部１７と同様に高さの調整が可能なものでもよい。

【００２７】このような真空乾燥装置２１は、載置用凸
部２７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真
空チャンバー２２の内側上壁部２２Ｂとの距離Ｈが調整
可能である。すなわち、真空チャンバー２２の側壁部２
２Ｃに装着するスペーサ２９を所望の高さのものとした
り、スペーサ２９を装着せずに真空チャンバー２２を構
成することにより、被乾燥体Ｓと真空チャンバー２２の
内側上壁部２２Ｂとの距離Ｈを適宜調整することができ
る。したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載置用凸部２７
上に載置される被乾燥体Ｓから中板２５の表面を通り、
中板２５と真空チャンバー２２の底部２２Ａとの間を経
由して排気口２３に至る排気経路（図５に矢印で示され
る経路）を、乾燥に最も適したものとすることができ
る。これにより、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を
荒らすことなく乾燥時間の短縮が可能となり、被乾燥体
の乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。尚、上
述のように、脚部２５Ａを上述の実施形態における脚部
５Ａと同様に高さの調整が可能なものとし、あるいは、
載置用凸部２７を上述の実施例における載置用凸部１７
と同様に高さの調整が可能なものとすることにより、側
壁部２２Ｃのスペーサ２９による高さ調整に、脚部２５
Ａの高さ調整や載置用凸部２７の高さ調整を併用して、
被乾燥体Ｓと真空チャンバー２２の内側上壁部２２Ｂと
の距離Ｈの調整を行ってもよい。

【００２８】図６は本発明の真空乾燥装置の他の実施形
態を示す概略構成図である。図６において、本発明の真
空乾燥装置３１は、真空チャンバー３２と、この真空チ
ャンバー３２の底部３２Ａに脚部３５Ａを介して配設さ
れた中板３５と、この中板３５上に設けられた複数の載
置用凸部３７とを備え、真空チャンバー３２の底部３２
Ａには排気口３３が形成されている。そして、真空チャ
ンバー３２の上壁部３２Ｂの下方には、天板３８が配設
可能とされている。図示例では、真空チャンバー３２の
側壁部３２Ｃに保持部３９が設けられており、この保持
部３９に天板３８の端部を係合させて天板３８が真空チ
ャンバー３２内に掛け渡すように配設できるようになっ
ている。

【００２９】上記の天板３８は、ＳＵＳ板、アルミニウ
ム板、鉄板、銅板、樹脂板等を用いて作製されたものを
使用することができ、真空チャンバー３２内に配設され
た際に、中央部が中板３５方向にたわみを生じないもの
を使用する。このような天板３８の面積は、真空チャン
バー３２の上壁部３２Ｂの面積の８０〜１００％の範囲
とすることが好ましく、少なくとも中板３５を覆うよう
な面積を有するものである。また、図示例では、真空チ
ャンバー３２の側壁部３２Ｃに複数の保持部３９が設け
られているが、真空チャンバー３２内に天板３８を昇降
可能に配設してもよい。

【００３０】上述の真空乾燥装置３１を構成する真空チ
ャンバー３２は、上記の天板３８が配設可能な機構を除
いて、公知の種々の真空チャンバーを使用することがで
き、内部容積、内部形状等は適宜設定することができ
る。また、真空チャンバーの底部３２Ａに設けられる排
気口３３は、図示されていない真空ポンプに接続され、
この排気口３３を介して真空チャンバー３２内の気体が
外部に排出され、真空チャンバー３２内を所定の真空状
態とすることができる。この排気口３３は、図示例では
真空チャンバー３２の低部３２Ａの中央に１個形成され
ているが、複数の排気口３３を底部３２Ａに形成しても
よい。この場合、排気口３３は、いずれも中板３５の下
方の位置に形成することが好ましい。

【００３１】尚、真空乾燥装置３１を構成する中板３５
および載置用凸部３７は、上述の真空乾燥装置１を構成
する中板５、載置用凸部７と同様にすることができるの
で、ここでの説明は省略する。また、脚部３５Ａは、中
板３５の下面に固着された高さ固定式のものでもよく、
あるいは、上述の実施形態における脚部５Ａと同様に長
さの調整が可能なものでもよい。さらに、載置用凸部３
７は、中板３５の表面に固着された高さ固定式のもので
もよく、あるいは、上述の実施形態における載置用凸部
１７と同様に高さの調整が可能なものでもよい。

【００３２】このような真空乾燥装置３１は、載置用凸
部３７上に被乾燥体Ｓを載置したときの被乾燥体Ｓと真
空チャンバー３２の内側上壁部３２Ｂとの距離Ｈが調整
可能である。すなわち、側壁部３２Ｃの所望の保持部３
９に天板３８を載置することにより、実質的な上壁部を
被乾燥体Ｓ上に形成することができる。そして、この天
板３８を載置する保持部３９の位置を変更することによ
り、被乾燥体Ｓと真空チャンバー３２の実質的な上壁部
である天板３８との距離を適宜調整することができる。
したがって、被乾燥体Ｓに応じて、載置用凸部３７上に
載置される被乾燥体Ｓから中板３５の表面を通り、中板
３５と真空チャンバー３２の底部３２Ａとの間を経由し
て排気口３３に至る排気経路（図６に矢印で示される経
路）を、乾燥に最も適したものとすることができる。こ
れにより、被乾燥体の突沸を防止して表面状態を荒らす
ことなく乾燥時間を短縮することが可能となり、被乾燥
体の乾燥後の表面状態も極めて良好なものとなる。尚、
上述のように、脚部３５Ａを上述の実施形態における脚
部５Ａと同様に高さの調整が可能なものとし、あるい
は、載置用凸部３７を上述の実施例における載置用凸部
１７と同様に高さの調整が可能なものとすることによ
り、天板３８による高さ調整に、脚部３５Ａの高さ調整
や載置用凸部３７の高さ調整を併用して、被乾燥体Ｓと
真空チャンバー３２の内側上壁部３２Ｂ（天板３８）と
の距離の調整を行ってもよい。

【００３３】本発明では、被乾燥体には特に制限はな
く、ダイコート、グラビアコート、ハケ塗り、スピンコ
ート等の種々の方式により形成された塗布膜が対象とな
り得る。

【００３４】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明する。

【００３５】まず、下記の４種の塗布液を調製した。

【００３６】塗布液Ａ・固形分含有量：２０重量％・使用溶剤：セロソルブアセテート（沸点１５６．４℃）塗布液Ｂ・固形分含有量：２０重量％・使用溶剤：メトアセテート（沸点１７１．０℃）塗布液Ｃ・固形分含有量：２０重量％・使用溶剤：酢酸エチル（沸点７６．７℃）塗布液Ｄ・固形分含有量：２０重量％・使用溶剤：メチルアミルケトン（沸点１５１．０℃）次に、この塗布液Ａ〜Ｄを用いて、厚み０．７ｍｍのガ
ラス基板上にスピンコート方法により塗布（Ａ，Ｂ＝膜
厚１．８μｍ、Ｃ＝膜厚１．２５μｍ、Ｄ＝膜厚１．５
μｍ）を行った。（乾燥試験１）下記の仕様の真空チャンバー、中板、載
置用凸部を備えた本発明の真空乾燥装置（図１に相当す
るもの）を準備し、真空ポンプ（ＵＬＶＡＣ（株）製Ｄ
−９５０Ｋ＋ＰＭＢ００３ＣＭ）に排気口を接続した。

【００３７】・内部容積：１５２７６ｃｍ³ ・底部形状：長方形・底部面積：３８１９ｃｍ² ・側壁部高さ：４０ｍｍ・脚部の長さ：１０〜２５ｍｍの範囲で調整
可能・中板厚み：５ｍｍ・中板面積：３５７５ｃｍ² ・載置用凸部の高さ：５ｍｍ・載置用凸部形成数：５個上記の真空乾燥装置の載置用凸部に、上記の塗布液Ａを
塗布したガラス基板を載置した。この初期状態でのガラ
ス基板面から真空チャンバーの内側上壁面までの距離
（以下ギャップという）を５ｍｍに設定した。そして、
真空ポンプでの吸引を開始し、吸引開始から乾燥開始
（真空度の変化がほぼ停止する時点）までの時間ｔ₁ を
測定し、また、乾燥開始から乾燥完了（塗布膜の乾燥が
完了して、ほぼ一定であった真空度が再度変化する時
点）までの時間ｔ₂ を測定し、時間ｔ₁と時間ｔ₂ の合
計時間（乾燥時間）Ｔとともに、図７に示した。

【００３８】その後、脚部の高さを調整して、ギャップ
を１０ｍｍ，１５ｍｍ，２０ｍｍ，２５ｍｍとして、上
記と同様に乾燥時間を測定して図７に示した。

【００３９】図７に示される塗布液Ａの真空乾燥では、
ギャップ＝２０ｍｍまではギャップの増加とともに時間
ｔ₂ （時間Ｔ）の減少がみられたが、ギャップが１５ｍ
ｍを超えると乾燥途中の塗布膜において突沸が発生し、
乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがっ
て、塗布液Ａの真空乾燥では、ギャップを１５ｍｍ程度
に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良好
としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確認さ
れた。（乾燥試験２）塗布液Ａを塗布したガラス基板の代わり
に、塗布液Ｂを塗布したガラス基板を被乾燥体とした他
は、乾燥試験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ₁ 、時
間ｔ₂合計時間（乾燥時間）Ｔを図８に示した。

【００４０】図８に示される塗布液Ｂの真空乾燥では、
ギャップ＝２０ｍｍまではギャップの増加とともに時間
ｔ₂ （時間Ｔ）の減少がみられたが、ギャップが１０ｍ
ｍを超えると乾燥途中の塗布膜において突沸が発生し、
乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがっ
て、塗布液Ｂの真空乾燥では、ギャップを１０ｍｍ程度
に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良好
としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確認さ
れた。（乾燥試験３）塗布液Ａを塗布したガラス基板の代わり
に、塗布液Ｃを塗布したガラス基板を被乾燥体とした他
は、乾燥試験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ₁ 、時
間ｔ₂合計時間（乾燥時間）Ｔを図９に示した。

【００４１】図９に示される塗布液Ｃの真空乾燥では、
ギャップ＝１０〜１５ｍｍにおいて乾燥時間Ｔは最も短
くなるが、ギャップが５ｍｍを超えると乾燥途中の塗布
膜において突沸が発生し、乾燥後の塗布膜にクレータ状
の凹部が残った。したがって、塗布液Ｃの真空乾燥で
は、ギャップを５ｍｍ程度に設定することにより、乾燥
後の表面状態を極めて良好としながら乾燥時間Ｔを最も
短くすることが可能であることが確認された。（乾燥試験４）塗布液Ａを塗布したガラス基板の代わり
に、塗布液Ｄを塗布したガラス基板を被乾燥体とした他
は、乾燥試験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ₁ 、時
間ｔ₂合計時間（乾燥時間）Ｔを図１０に示した。

【００４２】図１０に示される塗布液Ｄの真空乾燥で
は、ギャップ＝２０ｍｍまではギャップの増加とともに
時間ｔ₂ （時間Ｔ）の減少がみられたが、ギャップが１
５ｍｍを超えると乾燥途中の塗布膜において突沸が発生
し、乾燥後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。した
がって、塗布液Ｄの真空乾燥では、ギャップを１５ｍｍ
程度に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて
良好としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確
認された。（乾燥試験５）真空チャンバーの側壁部の上部にスペー
サ（高さ１５ｍｍ）を装着し、内部容積を９５４７．５
ｃｍ³ とした他は、乾燥試験１と同様の仕様で本発明の
真空乾燥装置（図５に相当するもの）を準備し、真空ポ
ンプ（ＵＬＶＡＣ（株）製Ｄ−９５０Ｋ＋ＰＭＢ００３
ＣＭ）に排気口を接続した。

【００４３】上記の真空乾燥装置の載置用凸部に、上記
の塗布液Ａを塗布したガラス基板を載置した。この初期
状態でのギャップを５ｍｍに設定した。そして、乾燥試
験１と同様にして乾燥を行い、時間ｔ₁ 、時間ｔ₂ 合計
時間（乾燥時間）Ｔを図１１に示した。

【００４４】その後、脚部の高さを調整して、ギャップ
を１０ｍｍ，１５ｍｍ，２０ｍｍ，２５ｍｍ，３０ｍｍ
として、上記と同様に乾燥時間を測定して図１１に示し
た。

【００４５】図１１に示される塗布液Ａの真空乾燥で
は、乾燥試験１における塗布液Ａの真空乾燥と異なり、
ギャップ＝３０ｍｍまではギャップの増加とともに乾燥
時間Ｔの減少がみられたが、乾燥途中の塗布膜における
突沸は、乾燥試験１における塗布液Ａの真空乾燥よりも
ギャップが小さい段階（ほぼ１５ｍｍ）で発生し、乾燥
後の塗布膜にクレータ状の凹部が残った。したがって、
塗布液Ａの真空乾燥では、ギャップを１０〜１３ｍｍ程
度に設定することにより、乾燥後の表面状態を極めて良
好としながら乾燥時間Ｔの短縮が可能であることが確認
された。

【００４６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば真
空チャンバーの底部に設けた排気口の上方に中板を配設
し、この中板上に載置用凸部を設けて真空乾燥装置と
し、載置用凸部上に載置された被乾燥体と真空チャンバ
ーの内側上壁部との距離を調整可能とするので、被乾燥
体に応じて被乾燥体と真空チャンバーの内側上壁部との
距離を調整し、載置用凸部上に載置される被乾燥体から
中板上面を通り、中板と真空チャンバー底部との間を経
由して排気口に至る排気経路を被乾燥体の乾燥に最適な
ものとすることができ、これにより、被乾燥体の突沸を
防止して表面状態を荒らすことなく乾燥時間を短縮する
ことが可能となり、被乾燥体の乾燥後の表面状態も極め
て良好なものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の真空乾燥装置の一実施形態を示す概略
構成図である。

【図２】図１に示される真空乾燥装置の中板を上昇させ
た状態を示す図である。

【図３】本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概
略構成図である。

【図４】図３に示される真空乾燥装置の載置用凸部を高
くした状態を示す図である。

【図５】本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概
略構成図である。

【図６】本発明の真空乾燥装置の他の実施形態を示す概
略構成図である。

【図７】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チ
ャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時
間の関係を示す図である。

【図８】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チ
ャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時
間の関係を示す図である。

【図９】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空チ
ャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥時
間の関係を示す図である。

【図１０】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空
チャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥
時間の関係を示す図である。

【図１１】真空乾燥装置におけるガラス基板面から真空
チャンバーの内側上壁面までの距離（ギャップ）と乾燥
時間の関係を示す図である。

【符号の説明】

１，１１，２１，３１…真空乾燥装置２，１２，２２，３２…真空チャンバー２Ａ，１２Ａ，２２Ａ，３２Ａ…底部２Ｂ，１２Ｂ，２２Ｂ，３２Ｂ…上壁部２Ｃ，１２Ｃ，２２Ｃ，３２Ｃ…側壁部３，１３，２３，３３…排気口５，１５，２５，３５…中板７，１７，２７，３７…載置用凸部２９…スペーサ３８…天板Ｓ…被乾燥体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者竹本潤東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】底部に排気口を有する真空チャンバー
と、該真空チャンバー内において前記排気口の上方に配
設された中板と、該中板上に設けられた載置用凸部とを
少なくとも備え、前記載置用凸部上に載置される被乾燥
体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可
能であることを特徴とする真空乾燥装置。
【請求項２】前記中板を前記真空チャンバーの底部に
対して上下動させることにより、前記載置用凸部上に載
置される被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部と
の距離が調整可能であることを特徴とする請求項１に記
載の真空乾燥装置。
【請求項３】前記載置用凸部の高さを変更することに
より、前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と前記真
空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能であるこ
とを特徴とする請求項１または請求項２に記載の真空乾
燥装置。
【請求項４】前記真空チャンバーの側壁部にスペーサ
を着脱することにより、前記載置用凸部上に載置される
被乾燥体と前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が
調整可能であることを特徴とする請求項１乃至請求項３
のいずれかに記載の真空乾燥装置。
【請求項５】前記真空チャンバーは内側上壁部の下方
に天板が配設可能であり、該天板を配設することによ
り、実質的に前記載置用凸部上に載置される被乾燥体と
前記真空チャンバーの内側上壁部との距離が調整可能で
あることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか
に記載の真空乾燥装置。