JPS59168339A - 混成集積回路基板の表面状態観察検査法 - Google Patents

混成集積回路基板の表面状態観察検査法

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JPS59168339A
JPS59168339A JP4256083A JP4256083A JPS59168339A JP S59168339 A JPS59168339 A JP S59168339A JP 4256083 A JP4256083 A JP 4256083A JP 4256083 A JP4256083 A JP 4256083A JP S59168339 A JPS59168339 A JP S59168339A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic substrate
alumina ceramic
metal film
defects
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP4256083A
Other languages
English (en)
Inventor
Zenji Ishii
石井　善次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS59168339A publication Critical patent/JPS59168339A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B1/00—Measuring instruments characterised by the selection of material therefor
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/306—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は混成集積回路用アルミナセラミック基板の表面
状態観察に関するもので有る。
一般的に混成集積回路の主要材料として使用するアルミ
ナセラミック基板には抵抗体φコンデンサー・クロスア
ンダ一部等の素子が蒸着・スノくツタリング方式等によ
り金属皮膜を形成させ、写真蝕刻技術を用いて多数のノ
くターンを形成させている。市場勤行・技術革靴により
混成来秋回路内のパターンが高密度化・微少化している
事に伴い従来技術で有る実体顕微鏡によるアルミナセラ
ミック基板の表面状態、観察検査方法では、セラミック
表面が白色で数百μの凹凸等の欠点観桜検量も困難であ
、６　ｉｏｏμ以下の凹凸等の欠点については発見する
ことがきわめて困難であった。
結果として混成集積回路の主要材料で有るアルミナセラ
ミック基板の５０μ程度の凹凸による欠点が影響して混
成集積回路のパターン欠損が発生し製品としても信頼性
面で問題があった。
本発明は上記問題に鑑みなされているもので有り混成集
積回路の主要材料で有るアルミナセラミック基板の素材
の表面状態観察検査法を提供するもので有る。
本発明の特徴は、混成集積回路用アルミナ等のセラミッ
ク基板表面状態の観察検査方法において、白板の状態で
チェックする方法では容易ではなかった為あらかじめア
ルミナセラミック基＆に全域を蒸着又はスパッタリング
方式等によシ金属皮膜を形成させた混成集積回路基板の
表面状態観察検貴注にある。
次に本発明の詳細な説明する。第１図に示すアルミナセ
ラミック基板１の上に、第く図、第３図に示す如く蒸着
・スパッタリング方式等により５００八〜１μｍ厚の金
属皮膜たとえば金の膜を形成する事により、実体顕微鏡
を使用し容易に１０μ程度のアルミナセラミック基板の
凹凸等の欠点は観察検畳を可能とする。尚、第２図は金
属皮膜を全面に被着した例であシ、第３図は金属皮膜を
部分的に被着した例である。
【図面の簡単な説明】
第１図は混成集積回路用アルミナセラミック基板を示す
図、第２図は第１図のアルミナセラミック基板上に金属
皮膜を全面に形成した図、第３図は第１図のアルミナセ
ラミック基板上に金属皮膜を部分的に形成した図である
。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 混成集積回路用セラミック基板表面状態の観察検査方法
    において、あらかじめ前記セラミック基板に金属皮膜を
    形成させて観察倹食することを特徴とする混成集積回路
    基板の表面状態観察検査法。
JP4256083A 1983-03-15 1983-03-15 混成集積回路基板の表面状態観察検査法 Pending JPS59168339A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012215386A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 顕微観察方法
JP2012215387A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 光学顕微鏡観察用試料の製造方法及び観察方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012215386A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 顕微観察方法
JP2012215387A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 光学顕微鏡観察用試料の製造方法及び観察方法

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