JPS59167001A - 酸化亜鉛非直線抵抗体 - Google Patents
酸化亜鉛非直線抵抗体Info
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- 239000011701 zinc Substances 0.000 title description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 title 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 30
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 9
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZFZQOKHLXAVJIF-UHFFFAOYSA-N zinc;boric acid;dihydroxy(dioxido)silane Chemical compound [Zn+2].OB(O)O.O[Si](O)([O-])[O-] ZFZQOKHLXAVJIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- -1 bismuth are added Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 102100033121 Transcription factor 21 Human genes 0.000 description 3
- 101710119687 Transcription factor 21 Proteins 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UPWOEMHINGJHOB-UHFFFAOYSA-N oxo(oxocobaltiooxy)cobalt Chemical compound O=[Co]O[Co]=O UPWOEMHINGJHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N dioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo]=O QXYJCZRRLLQGCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021380 Manganese Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L Manganese chloride Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 description 1
- 229940099607 manganese chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000012856 weighed raw material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛非直線抵抗
体に関するものである。
体に関するものである。
従来、酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛非直線抵抗体素
子(Z%O素子)は、セラミックス半導体であシ、優れ
た非直線性を有するので例えば過電圧耐量の小さいダイ
オード、トランジスター、tたはサイリスター等の半導
体素子及び電気機器のサージ・アブソーバ−として用い
られている。
子(Z%O素子)は、セラミックス半導体であシ、優れ
た非直線性を有するので例えば過電圧耐量の小さいダイ
オード、トランジスター、tたはサイリスター等の半導
体素子及び電気機器のサージ・アブソーバ−として用い
られている。
一般に、この種のl1nO素子は、酸化亜鉛Z*0を主
成分として、これに酸化ビスマスEiz Os ヲ含t
r数種の添加物を微量添加混合し、それを成形した後焼
成して得られている。
成分として、これに酸化ビスマスEiz Os ヲ含t
r数種の添加物を微量添加混合し、それを成形した後焼
成して得られている。
第1図は、焼成して得られたlIn0素子の微細構′造
を示したものであシ、ZnOの結晶粒■とこの結晶粒界
K FiB i203を主成分とする薄い絶縁結晶層0
)が存在する。
を示したものであシ、ZnOの結晶粒■とこの結晶粒界
K FiB i203を主成分とする薄い絶縁結晶層0
)が存在する。
ところで、E4202td、Z%Oに比較して低融点で
ある為液相焼結によってZnO粒子の結晶成長を促進さ
せる事から、ZnO素子の製造には欠かすことができな
い添加物である。しかしながら、B(、03は、酸化タ
ングステンWO,、酸化モリブデンMo5s等を含まな
ければ1lno結晶粒界において層状構造を形成しにく
く、その為に多量の添加量(0,1モルチ以上ンが必要
となシ、ZnO素子成造のための原料効率が悪い。さら
にBi、 0.は多くの熱による変能形を持つため、低
温(400〜650°C)の処理によっても結晶形が変
わシ、これに伴って安定した電気特定を有するZnO素
子が得にくいと共に、Bt、 Q3 Vi揮発性が高く
作業者が多量に吸い込むと人体に悪影響があるので1.
その使用量は、少量であることが望ましい。このため、
Bi2O3の代わシにガラス・フリットを使用すること
もあるが、この場合は、2%0粒子の結晶成長が不充分
でメジ、粒界層の形成も不完全とib、Bi2O,を使
用したものより、Z%O素子の非直線性を低下させてし
まう。
ある為液相焼結によってZnO粒子の結晶成長を促進さ
せる事から、ZnO素子の製造には欠かすことができな
い添加物である。しかしながら、B(、03は、酸化タ
ングステンWO,、酸化モリブデンMo5s等を含まな
ければ1lno結晶粒界において層状構造を形成しにく
く、その為に多量の添加量(0,1モルチ以上ンが必要
となシ、ZnO素子成造のための原料効率が悪い。さら
にBi、 0.は多くの熱による変能形を持つため、低
温(400〜650°C)の処理によっても結晶形が変
わシ、これに伴って安定した電気特定を有するZnO素
子が得にくいと共に、Bt、 Q3 Vi揮発性が高く
作業者が多量に吸い込むと人体に悪影響があるので1.
その使用量は、少量であることが望ましい。このため、
Bi2O3の代わシにガラス・フリットを使用すること
もあるが、この場合は、2%0粒子の結晶成長が不充分
でメジ、粒界層の形成も不完全とib、Bi2O,を使
用したものより、Z%O素子の非直線性を低下させてし
まう。
そこで、これらの欠点を解決するために、酸化亜鉛の添
加物としてBi20BにさらにWOB 、 Me(h
。
加物としてBi20BにさらにWOB 、 Me(h
。
M%011ガラスフリツトを複合添加してBi20Bの
添と 別置声量として、ZnO結晶粒界層を形成せしめる発明
を行なった。
添と 別置声量として、ZnO結晶粒界層を形成せしめる発明
を行なった。
しかしながら、WO3、MoO2等は共に添加されるこ
とによシ、B2O2の揮発をかなシ抑制し、Z:nO結
晶の成長及びZ%O結晶粒界中の構造の強化を促進せし
めるけれどもBi20Bの揮散を防止するためには十分
で々い。
とによシ、B2O2の揮発をかなシ抑制し、Z:nO結
晶の成長及びZ%O結晶粒界中の構造の強化を促進せし
めるけれどもBi20Bの揮散を防止するためには十分
で々い。
また、この種のZfLo素子を電力機器に用いる為には
、大電流領域に渡って電気特性が安定し、優れた非直線
指数(α)を持つものが要求されるが、前記発明のもの
は、必ずしも満足せしめるものではなかった。
、大電流領域に渡って電気特性が安定し、優れた非直線
指数(α)を持つものが要求されるが、前記発明のもの
は、必ずしも満足せしめるものではなかった。
本発明は、上記点に鑑みなされたものであシ、その目的
とするところは、添加物としてBi20B 。
とするところは、添加物としてBi20B 。
WO3、MoO3等の他に酸化コバルトcoo3、ある
いはさらにこれに酸化ア/チモン5b2o、を用いるこ
とによシBi2O3の添加量を極微量となし、電気特定
が安定し、優れた非直線指数←)を有するこの種のZn
O素子を提供するとともに%合せて1lno素子製造の
ための原料効率の向上を図ることを目的とするものであ
る。
いはさらにこれに酸化ア/チモン5b2o、を用いるこ
とによシBi2O3の添加量を極微量となし、電気特定
が安定し、優れた非直線指数←)を有するこの種のZn
O素子を提供するとともに%合せて1lno素子製造の
ための原料効率の向上を図ることを目的とするものであ
る。
本発明のZ顧素子は、純度99.9チの酸化亜鉛Zn0
Kヒス−vy、ヲBixosfJ形に換算しテ0.00
5〜0.1モルチ、タングヌテン及びモリブデンをWO
3、Mo0B(7)形に換算して、夫々0.01NO,
5−E−ルチ、マンガン及びコバルトをMnOs +
(’oQ3の形に換算して夫々0.03〜5.0モルチ
、あるいは−これにさらにアンチモンfsb20.の形
に換算して0.05〜5モル係の任童量加えて、そして
総量に対して硼硅酸亜鉛のガラス・フリットを0.01
〜1.0重量%の任意の量加えて原料粉としたものから
成っている。そして原料粉の成分組成を上記のようなも
のとする本発明のZ%O素子は、次のような方法によシ
倚られる。まず所定の成分組成比になるように秤量され
た原料を湿式混合した後、造粒成形して900”Cで仮
焼を行ない、その後1000〜1400’cの任意の温
度で6時間焼成を行なう。
Kヒス−vy、ヲBixosfJ形に換算しテ0.00
5〜0.1モルチ、タングヌテン及びモリブデンをWO
3、Mo0B(7)形に換算して、夫々0.01NO,
5−E−ルチ、マンガン及びコバルトをMnOs +
(’oQ3の形に換算して夫々0.03〜5.0モルチ
、あるいは−これにさらにアンチモンfsb20.の形
に換算して0.05〜5モル係の任童量加えて、そして
総量に対して硼硅酸亜鉛のガラス・フリットを0.01
〜1.0重量%の任意の量加えて原料粉としたものから
成っている。そして原料粉の成分組成を上記のようなも
のとする本発明のZ%O素子は、次のような方法によシ
倚られる。まず所定の成分組成比になるように秤量され
た原料を湿式混合した後、造粒成形して900”Cで仮
焼を行ない、その後1000〜1400’cの任意の温
度で6時間焼成を行なう。
焼成は従来、一般に用いられている方法り目付なっても
よいが、下記の方法を用いると酸化ビスマス等の添加物
の揮発を防ぎ、或いは、補うことができ焼結性の高い焼
成を行なうことができる。
よいが、下記の方法を用いると酸化ビスマス等の添加物
の揮発を防ぎ、或いは、補うことができ焼結性の高い焼
成を行なうことができる。
まず、第2図G)においては、焼成サヤ1内に台座2を
置き、その上に、本発明のZnO素子原料粉と同じ成分
よシなる造粒粉3を敷き、さらにその上にZnO素子の
成形体4を載置して焼成を行なう。
置き、その上に、本発明のZnO素子原料粉と同じ成分
よシなる造粒粉3を敷き、さらにその上にZnO素子の
成形体4を載置して焼成を行なう。
第2図<b>においては、上記第2図ら)と同様にセッ
トした後、焼成サヤ1内の四隅に酸化ビスマス。
トした後、焼成サヤ1内の四隅に酸化ビスマス。
酸化タングステンの粉末5を入れて焼成を行なう。
第2図(6)においては、焼成サヤ1内に造粒粉3を敷
きZnO素子成形体4をその内に埋めて焼成する。
きZnO素子成形体4をその内に埋めて焼成する。
以下表に及び図面に基づき本発明の一実施例を詳述する
。
。
本発明のZnO素子は、各成分を下記表に示した組成比
となるように湿式混合した後、成形し、この成形体を焼
成サヤ内に収納して空気中にて1300°Cの温度で6
F!#間焼成を行ったものであシ、このようにして得た
ものを資料番号A及びBで示す。また比較例も本発明の
ものと同様に焼成を打力い、資料番号Cで示す。
となるように湿式混合した後、成形し、この成形体を焼
成サヤ内に収納して空気中にて1300°Cの温度で6
F!#間焼成を行ったものであシ、このようにして得た
ものを資料番号A及びBで示す。また比較例も本発明の
ものと同様に焼成を打力い、資料番号Cで示す。
表
資料番号Aのものは、ZnO、Bi20B 、WO3。
Mo5s ) Mn0z 及びガラス・フリットから
なる比較例CのものにCo2O3を添加したものである
。Co20Bは焼成によって、Z%O結晶粒内に固溶す
る事によ1)、unのZtq結晶粒子内への拡散を抑制
して5M%の粒界領域への偏在を促進する為に添加され
るものであって、その結果非直線指数←)を改良する。
なる比較例CのものにCo2O3を添加したものである
。Co20Bは焼成によって、Z%O結晶粒内に固溶す
る事によ1)、unのZtq結晶粒子内への拡散を抑制
して5M%の粒界領域への偏在を促進する為に添加され
るものであって、その結果非直線指数←)を改良する。
資料番号Bのものは、比較例CのものにCO2O3及び
S620.を添加したものである。前記の如くCa2O
gが添加されたことによシ、 ZnO素子のa値は改良
されるが、さらに5b2o3を添加することによシ、s
b、 o、は焼成によシスピネル型化合物に変化して行
き、この際余剰のCo を゛スピネル型化合物内に取シ
込みZnO素子の焼結性を良好なものとするため、添加
されたものである。
S620.を添加したものである。前記の如くCa2O
gが添加されたことによシ、 ZnO素子のa値は改良
されるが、さらに5b2o3を添加することによシ、s
b、 o、は焼成によシスピネル型化合物に変化して行
き、この際余剰のCo を゛スピネル型化合物内に取シ
込みZnO素子の焼結性を良好なものとするため、添加
されたものである。
資料番号A、B、Cの夫々忙ついて、電流・電圧特性を
測定し、その結果を第3図に示す。第3図から明らかな
ように添加物としてBi20s 、 WOHの他に、さ
らにCo20BあるいはCa20g及びsb*osを加
えた本発明のものは、従来のものに比べ、電流・電圧特
性が向上している。
測定し、その結果を第3図に示す。第3図から明らかな
ように添加物としてBi20s 、 WOHの他に、さ
らにCo20BあるいはCa20g及びsb*osを加
えた本発明のものは、従来のものに比べ、電流・電圧特
性が向上している。
なお実験結果によると酸化ビスマスの添加量が0.00
5モルチ以下では、層状構造を作るには、不十分めシ、
0.1モルチ以下では、前記層を作るのに過剰となシ、
余剰分が揮発揮散してしまった。
5モルチ以下では、層状構造を作るには、不十分めシ、
0.1モルチ以下では、前記層を作るのに過剰となシ、
余剰分が揮発揮散してしまった。
酸化モリブデン、酸化タングステンは、夫々Bi20B
の層状構造形成を助長する役目をするが、夫々0.01
モル優以下では、効果が現われず、0゜5モル以上では
、Znoの粒界忙集中して存在し、非直線指数←)を低
下させてしまう。また0、01モルチ以下では、効果が
なかった。
の層状構造形成を助長する役目をするが、夫々0.01
モル優以下では、効果が現われず、0゜5モル以上では
、Znoの粒界忙集中して存在し、非直線指数←)を低
下させてしまう。また0、01モルチ以下では、効果が
なかった。
ガラスフリットは、液相焼結時においても溶剤として作
用をするもので粒界層のみに偏在するものでVi力いの
で。1. Ow t 4以上では、Z%0粒子中ヘノ拡
散が起こり、α値を低下させる。0.01wt−以下で
は効果が々かった。
用をするもので粒界層のみに偏在するものでVi力いの
で。1. Ow t 4以上では、Z%0粒子中ヘノ拡
散が起こり、α値を低下させる。0.01wt−以下で
は効果が々かった。
&化マンガンは、3.0モル以上になると大電流域での
非直線性が悪くカシ、0.03モルチ以下では効果がな
かった。
非直線性が悪くカシ、0.03モルチ以下では効果がな
かった。
酸化アンチモンは5.0モル96以上添加するとZ−粒
子の結晶成長が抑えられすぎて、充分欧大きさの粒子が
できず、また0、05モルチ以下では効果がなかった。
子の結晶成長が抑えられすぎて、充分欧大きさの粒子が
できず、また0、05モルチ以下では効果がなかった。
酸化コバルトは、3.0モルチ以上さらに添加しても効
果はほとんど変らず、また単位重量当シのコスト空高い
ので、3.0モル%以上の添加は原料費の面から不利で
ある。0.03モルチ以下では効果がなかった。
果はほとんど変らず、また単位重量当シのコスト空高い
ので、3.0モル%以上の添加は原料費の面から不利で
ある。0.03モルチ以下では効果がなかった。
以上のように本発明は、添加物としてBszQs +W
Os tMoos +ガラスフリット、 MnO2、C
(120sあるいは、これKさらに5bzosを加えて
粒界層を形成させ、Bi20Bの添加量を極微量とした
ものであるから、従来のものに比べてBi20.の添加
量が大幅に減少することとなりZ%O素子作製のための
原料効率が良く、またビスマスの多形性に伴うこの種の
ZnO素子の電気特性の不安定性を防止することができ
る。
Os tMoos +ガラスフリット、 MnO2、C
(120sあるいは、これKさらに5bzosを加えて
粒界層を形成させ、Bi20Bの添加量を極微量とした
ものであるから、従来のものに比べてBi20.の添加
量が大幅に減少することとなりZ%O素子作製のための
原料効率が良く、またビスマスの多形性に伴うこの種の
ZnO素子の電気特性の不安定性を防止することができ
る。
また添加物としてCo203を加えることとしたので、
M%02の粒界領域への偏在を促進させ、Mn0zとの
相互作用によ)α値を大きくかつ広範囲に渡って一定な
特性に改良することができる。
M%02の粒界領域への偏在を促進させ、Mn0zとの
相互作用によ)α値を大きくかつ広範囲に渡って一定な
特性に改良することができる。
さらにCozogと共に、sb、 o、をも複合添加す
ることとしたので、余剰のCoをスピネル型構造化合物
に変化したsh、 os内に取シこみ、2%0素子の焼
結度を向上せしめ、電流・電圧特性を良好とする。
ることとしたので、余剰のCoをスピネル型構造化合物
に変化したsh、 os内に取シこみ、2%0素子の焼
結度を向上せしめ、電流・電圧特性を良好とする。
本発明のZnO素子は、第3図から明らかなように、従
来のものよシ素子1mm当シの耐電圧が低いため、単位
体積当シのエネルギー消費量が低く抑えられ、耐量特性
が向上すると共に、素子の制限電圧(電流1 m Aが
流れる時の電圧)、即ち素子のJ’Jみの調整も容易と
なる。また本発明の素子は広範囲に渡って、非直線性(
α値)が一定しているので長期に渡って、多数の繰シ返
しサージが入る場合のサージ・アブソーバ−としての使
用に適する。
来のものよシ素子1mm当シの耐電圧が低いため、単位
体積当シのエネルギー消費量が低く抑えられ、耐量特性
が向上すると共に、素子の制限電圧(電流1 m Aが
流れる時の電圧)、即ち素子のJ’Jみの調整も容易と
なる。また本発明の素子は広範囲に渡って、非直線性(
α値)が一定しているので長期に渡って、多数の繰シ返
しサージが入る場合のサージ・アブソーバ−としての使
用に適する。
第1図は、ZnO素子の微細構造を示す説明図、第2図
は、本発明のlIn0素子成形体の焼成方法を示す説明
図、第3図は本発明のZnO素子の電流・電圧特性図。
は、本発明のlIn0素子成形体の焼成方法を示す説明
図、第3図は本発明のZnO素子の電流・電圧特性図。
Claims (2)
- (1)酸化亜鉛を主成分とし、これにビスマス等の酸化
物、或−は塩を数種添加した後成形し、焼成して、成る
酸化亜鉛非直線抵抗体において。 前記添加物として、ビスミスをBi20Bの形に換算し
てo、 o o s〜0.1モルチオタングステン及び
モリブデンをWO3、Mo0Bの形に換算して、夫々0
、01〜0.5モル%、Mlk、CoをMnO2、Co
2O3の形に換算して夫々0.03〜3.0モル係の任
意の量加え、更にその総量に対して硼硅酸亜鉛のガラス
フリットを0.01〜1.Out%の任意の量添加し、
1000〜1400°Cの温度にて焼成してなることを
特徴とする酸化亜鉛非直線抵抗体。 - (2)酸化亜鉛を主成分とし、これにビスマス等の酸化
物或いは塩を数種添加した後、成形し゛焼成して成る酸
化亜鉛非直線抵抗体において、前記添加物としてビスマ
スをBi20Bの形に換算し10、005〜0.1モル
チオタングステン及びモリブデンを夫々IFoJ、Mo
osの形に換算して0.O2N2、5モル%、Jfs、
coを夫々MnO2、CoO3の形に換て0.05〜5
モルチの任意の量加え、更にその総量に対して硼硅酸亜
鉛のガラスフリットを0、01〜1.0wt %の任意
の量添加し、1000〜1400°Cの温度にて焼成し
てがることを特徴とする酸化亜鉛非直線抵抗体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58041971A JPS59167001A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 酸化亜鉛非直線抵抗体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58041971A JPS59167001A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 酸化亜鉛非直線抵抗体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59167001A true JPS59167001A (ja) | 1984-09-20 |
Family
ID=12623076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58041971A Pending JPS59167001A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 酸化亜鉛非直線抵抗体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59167001A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6180983U (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-29 |
-
1983
- 1983-03-14 JP JP58041971A patent/JPS59167001A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6180983U (ja) * | 1984-11-02 | 1986-05-29 |
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