JPS59153153A - X線分析装置 - Google Patents

X線分析装置

Info

Publication number
JPS59153153A
JPS59153153A JP59017219A JP1721984A JPS59153153A JP S59153153 A JPS59153153 A JP S59153153A JP 59017219 A JP59017219 A JP 59017219A JP 1721984 A JP1721984 A JP 1721984A JP S59153153 A JPS59153153 A JP S59153153A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cylinder
focus
ray
ray analysis
analysis device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP59017219A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0610659B2 (ja
Inventor
ヘールト・ブロウワー
シプケ・ワドマン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of JPS59153153A publication Critical patent/JPS59153153A/ja
Priority to AU46172/85A priority Critical patent/AU581580B2/en
Publication of JPH0610659B2 publication Critical patent/JPH0610659B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/207Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20008Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/05Investigating materials by wave or particle radiation by diffraction, scatter or reflection
    • G01N2223/056Investigating materials by wave or particle radiation by diffraction, scatter or reflection diffraction
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/10Different kinds of radiation or particles
    • G01N2223/101Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
    • G01N2223/1016X-ray
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/315Accessories, mechanical or electrical features monochromators
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/316Accessories, mechanical or electrical features collimators
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/60Specific applications or type of materials
    • G01N2223/606Specific applications or type of materials texture
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/60Specific applications or type of materials
    • G01N2223/607Specific applications or type of materials strain

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、X線源と、モノクロメータと、変位可能な対
象物ホルダと、検出器とを備えるX線分析装置に関する
かかるX線分析装置は刊行物” J ournalAp
pl 、 Cryatsllooraphy5 、 (
1972>’+第338〜342頁から既知である。こ
れに記載されたQuillierX線回折カメラでは測
定に当り対象物を、X線ビームの主線と合致する直線に
沿って移動する。検出器はフォーカス円に沿って配置す
るフィルム■条で構成されている。対象物によって回折
された放@線を検出器入口に正しく集束するため、かか
る装置では対象物も常にフォーカス円の周縁上に位置す
るようにする必要かある。X線ビームにおける対象物の
位置及び方向は測定精度に直接影響するから、対象物の
変位は高精度で行う必要がある。回転自在に配置したア
ームに連結した検出器と共に目盛に沿って対象物を移動
する上記刊行物に記載された方法を使用する場合、対象
物の所定位置において内勤に当面J−る。
本発明の目的は、この点を改善するにあり、この目的の
ため本発明のX線分析装置は、X線ビームに対して変位
する際対象物が、X線ビー18のビーム・フォーカスの
周りに固定配置した補助円筒の周りで回動できるフォー
カス円筒の表面上に一定位置を占め、一方、検出器をフ
ォーカス円筒の表面に沿って回転自在とするよう構成し
たことを特徴とする。
本発明のX線分析装置では対象物が常に回動円筒の一部
を構成しているため、その変位に当り不安定状態は生ぜ
ず、連続的変位が保障される。各測定位置につき対象物
が、)A−カス円筒と合致するフォーカス円の周縁上の
一定位置を占めることのため、放射線ビームに対する対
象物の角度位置決めをきわめて正しく行うことができる
。更に、本発明にお【ノる変位方法は正確な独立した角
痘測定にぎわめて好適であり、その理由は対象物の角度
方向を自動的に正しい角度方向ならしめることのため、
及び検出器をフォーカス円筒上に位置決め(ることのた
め、入射ビーム及び検出器の間の角度を直接測定するこ
とができるからである。検出器及び放射線ビームの間の
角度を測定するため、本発明の好適な実施例ではエン」
−ダを設ける。
本発明の好適な実施例では補助円筒が基板の一部を構成
し、かつフォーカス円の直径に等しい半径を有するよう
にする。)A−カス円筒の外面には、フォーカス円筒を
補助円筒の内面に沿ってスリップを生じない態様で回動
さゼる手段を設ける。
特に、フォーカス円筒の外側上及び補助円筒の内側上に
、スリップを生じない態様で共動Jる歯を設ける。
他の好適な実施例ではフォーカス円筒に、例えば、補助
円筒の半径の半分に等しい半径を有する同心配置駆動円
筒を設け、かつフォーカス円筒は、例えばスリップを生
じないベルト伝動部、例えば、有歯プーリと、ビーム・
フォーカスと合致する補助円筒の軸の周りに回転自在に
配置しノた回転アームとによって変位する。移動は全周
有爾輪伝動部に他の有歯幅を付加することによっても実
現できる。
選択された構造によっては、標準有歯幅だ4−J使用づ
るようにすることもできる。この目的に好適な実施例で
はフォーカス円筒に、フォーカス円と同心配置した第1
駆動円筒を設け、かつ第1駆動円筒、の周縁に等しい周
縁を有する付加的円筒に、この付1j[1的円筒と同心
配置されかつこの付加的円筒の周縁の4分の1の周縁を
有する第2駆動円筒を設ける。ビーム・フォーカスの周
りに固定配置した補助円筒は2個の駆動円筒の周縁の間
の値の周縁を有づ゛る。
本発明の他の実施例は、ビーム・フォーカスの周りに配
置した円筒と、フォーカス円に同心配置されかつ、例え
ば、第1円筒上の部分に配置づ−る円筒と、第1円筒の
外面と係合する2個の案内円筒を備える。ペル1〜伝動
部により、第1円筒から案内円筒を介して第2円筒従っ
てフォーカス円を回転し、第1円筒に沿って回動して、
対象物の直視できる態様での移動が実現される。ペル1
〜伝動部のベルトは、各円筒とスリップの生じない態様
で共動し、かつ回転に当り軸方向の力が生じない点にお
いて各円筒に固定結合され、かつ回転に当り軸方向の力
が生じないピッチで各円筒を囲むよう配設する。その形
態及び構造が任意なベルトを、円筒の直径に逆比例する
巻回数で各円筒の周りに巻装する。
次に、図面につき本発明の詳細な説明づる。
第1図には本発明が関連する形式のxi分析装置にお【
)るビーム通路を明瞭に示しである。またかかるX線分
析装置におけるX線源のアノード・ターゲット1と、モ
ノクロメータ結晶又は結晶ホルダ3と、分析もしくは試
験すべき対象物又は対象物本ルダ5と、検出器入日スリ
ツ1−7と、検出器9も示しである。アノード・ターゲ
ット11における直線フォーカス11から出射したX線
ビーム10はモノクロメータ結晶3ににつでフォーカス
直線13に集束される。対象物において回析されたX線
ビーム10の部分15はフォーカス直線17に集束され
、このフォーカス直線17の区域に検出器人口スリット
7を配設する。7 A−カス直線13及び17並びにx
#j+!ビーム10の中央に配置した対象物の直線19
のすべてが、正しく位置決めされた場合物理的円筒であ
ると仮定されるフォーカス円筒21の表面直線を構成す
る。同様に、フォーカス直線13及び直線フォーカス1
1はフォーカス円筒23の表面直線を構成し、この場合
モノクロメータ結晶3は湾曲しており、例えば円筒状(
こ湾曲しており、フォーカス円筒23のセグメントを構
成している。対象物における互に異なる結晶表面距離と
共に結晶表面によって回析されたX線ビーム10の部分
25は対応する態様でフォーカス円筒21上に)A−カ
ス直線26を形成する。検出器人ロスリツ1〜7と共に
検出器9をフォーカス円筒21【こ沿って移動した場合
、対象物を各位置において分析することができるか、又
は静止対象物の回折像を記録りることができる。
これは、フォーカス円筒の関連する部分にフィル11細
条を配設することによっても達成できる。対象物の詳し
い分析のためには、対象物をX線ビーl第10の通路に
おいて変位できるようにすることが所望される。正しい
ビーム集束を得るためには対象物を、フォーカス円筒に
対し外接状態になるように又はフォーカス円筒と合致す
るように連続的に配置する必要がある。
第2図は本発明の好適な実施例のモノクロメータ結晶3
.4つの異なる位置における対象物5、X線ビーム10
の断面、及び同じく4つの位置におけるフォーカス円筒
21を示しである。対象物は、ビーム・フォーカス13
の周りにフォーカス円筒21の直径に等しい半径で固定
配置した補助円筒27を介して変位する。フォーカス円
筒21の外表面には補助円筒27の内表面に沿って滑り
の4rい態様で回動できるようにし、従ってフォーカス
円筒21の外表面及び補助円筒27の内表面にはこの目
的のための手段をそれぞれ設ける。フォーカス円筒21
が補助円筒27の内側に沿って回動する場合、装置はX
線ビーム10内において2つの究極位置5−1及び5−
4の間を移動する。この移動に当り、X線ど一ム10で
照射される対象物5の部分は、このようにして実現され
る角度適応に起因して同一表面積を有する。検出器入口
スリットも常にフォーカス円筒21ど合致するから、位
置5−4及びビーム・フォーカス13の間の定角軌道を
透過測定に使用づる一方、ビーム・フォーカス13及び
位置5−1の間の定角軌道を反射測定に使用する。補助
円筒27の軸と合致するフォーカス13は回動に当りフ
ォーカス円筒21の表面直線に留る。従って対象物の連
続的変位は透過定角軌道及び反躬定角軌通の両方を含む
こととなる。この変位に当り不安定な状態は生じない。
第3a図は対象物のための変位機構の好適な実施例を示
す。本例の変位機構はビーム・フォーカス13の周りに
固定前tfZ シた補助円筒30を備える。
補助円筒30はスリップ無し伝動ベル1へ32を介し伝
動比1:2で円筒35に結合する。更に補助円筒30は
ビーム・フォーカス13及び円筒35の軸37の周りで
回転自在なアーム34を介して円筒35に結合1−る。
X線ビームのビーム通路36内で変位ずべき対象物5を
変位するため、フォーカス円筒21は円筒35と共に回
転し、フォーカス円筒21はビーム・フ1−カス13を
通り、かつ両方の円筒35及び21はアーム34を介し
てこのフォーカス13の周りを回動する。
第3b図の実施例は、ベルトによる伝動に代えて、有歯
円筒30及び35の間に付加的有爾輪38を用いる点を
除き第3a図の実施例にほぼ等しい。有歯輪38は、例
えは、45個の歯を有し、かつ、本例でもビーム・フォ
ーカス13の周りに固定配置する円筒13は90個の歯
を有する。円筒30及び35は連結部材39を介して互
に結合する。
第3C図は全体を標準有歯輸で構成できる変位機構の実
施例を示す。本例はビーム・フォーカス13の周りに固
定配置されかつ例えば60個の歯を有する有歯輪40を
備え、この有歯輪は有歯輪伝動部を介して30個の歯を
有する有歯輪42に結合する。
有歯輪42と同心状態で同一軸上に有歯輸44を配置し
、この有歯輸は有歯輪伝動部45を介して有歯輪46に
結合する。有歯輪44及び46は伝動比1:1を有し、
本例ではそれぞれ120個の歯を有J−る。有歯輪46
の周りに同心配置されかつ対象物5を固定配置されるフ
ォーカス円筒21は有歯輸の回転に当りビーム・フォー
カス13を通る一方、対象物5はX線ビーム通路36に
おいて正しい角石関係で変位される。有歯輪44及び4
6を回転自在に結合する連結部材45はこれら有歯輪の
間の連結を確立する。
第4図はベルト又はケーブル伝動機構を設けた変位機構
の実施例を示す。この目的のため第4a図ではビーム・
フォーカス13の周りに固定配置され、かつ例えば20
0 m n+の直径を有する円筒60と、ビーム・フォ
ーカスに沿って移動しかつ100 m mの直径を有す
る円wU62と、それぞれ5011 IIIの直径を右
りる2個の補助円筒64及び66とを示しである。各円
筒60.62.611.66に点69において固定連結
したベルト68により、これら円筒を第4b図に示した
スリップを生じない態様で互に結合り゛る。これら円筒
60.62.64.66にはベルト68に対するら旋状
ガイドを設け、その円筒当りのピッチが円筒の直径に逆
比例し、円筒64及び66のピッチの符号は円筒60及
び62のピッチと反対になるようにしたため、回転に当
り各円筒において高さ方向のベル1〜の変位は同一とな
り、従って軸方向の力は生じない。
円筒62並びに補助円筒64及び66の集合体は固定さ
れだ円筒60の周りにおけるベルトの移動に当り回動し
、円筒62の周りに配設したフォーカス円筒21はX線
ビームのビーム・フォーカス13を通り、かつ試験すべ
き対象物はX′線ビーム通路36内を直線性で変位リ−
る。この場合連続部材61によって各円筒間の連結を確
実にりる。
例えばビーム・フォーカスの周りにおける角1a運動で
表わした回転の範囲はベルトの移動を適合させることに
より選定することができる。90°を充分カバーする回
転だけが所望される場合には、短いかつ比較的簡単なベ
ルト移動機構で充分である。しかし、ベルトが充分良い
場合には360’を充分カバーする回転も実現すること
ができる。
検出器が連続的に対象物に指向するようにするため、使
用ずべき各移動機構に検出器回転装置を付加することが
できる。この装置により検出器の方向はフォーカス円に
つぎ所定角度の回転に当りその半分の角度にわたって戻
り、その結果フォーカス円の中心の周りでの回転に当り
検出器はフォーカス円の周縁に配置される対象物に常に
指向する。これは、例えば、駆動円筒によって又はイ1
加的有歯輪を介して駆動覆るベルト伝動部により実用で
きる。
好適な実施例では対象物ホルダに対し、ホルダに配置し
た対象物をホルダの平面において既知の角度だけ回動で
きる移動機構を付加づる必要がある。この回動は組織試
験に特に重要であり、その理由は、その場合組織試験と
直接関連する最大強度従ってその方向を決定できるから
である。この目的のためには対象物ホルダに、駆動Jべ
き軸を設けることだけ必要とするに過ぎない。駆動には
対象物ホルダの移動に追従する七−夕を使用するか又は
減結合できるモータを介する駆動手段を使用することが
できる。代案として、対象物ホルダに、対象物の傾斜移
動を実現する移動機構を付加して、対象物に対し直角の
軸をフォーカス円の平面から移動覆るようにすることも
できる。
−第5図は本発明のX線分析装置、例えば、X線粉末回
折、応力試験、組織試験その仙結晶構造に直接相関する
試験のための装置の構成を詳細に示す。
かかる装置の一部を切除した第5a図では、電子ビーム
72が図面の平面に直角に直線状ターゲツト面73を形
成覆るアノード・ターゲット71を有覆るX線管10と
、モノクロメータ・ハウジング74と、ゴニオメータ・
ハウジング75とを示しである。モノクロメータ・ハウ
ジング74はモノクロメータ結晶76を備え、モノクロ
メータ結晶76を適切に配設してこのモノクロメータ結
晶は異なる波長の放射線用の結晶77によって直換でき
るようにし、この目的のためX線管を交換できるか又は
X線管に2つの異なるターゲット材料を設けるように1
−る。
例えば、X線管のアノードは0.154nIIlの波長
を有する銅Koc1放射線を発生する銅のターゲット及
び0.299nnの波長を有するクロムKoC1放銅線
を発生するクロムのターゲットを、個別照射のために備
えことができる。
窓78から出射するX線ビーム79のビーム通路には減
衰フィルタ80.シャッタ81及びビーム絞り82を配
設することができる。絞り82は、例えば、図面の平面
に直角な方向に延在するスリットの形態とするが、この
絞りは、他方向においては一部が遮蔽されるように構成
することもできる。厚い絞りと共に絞りの縁部における
反射をできるだけ制限J゛るため、例えば(111)結
晶面に沿ってカットしたブレーナ・シリコン単結晶から
絞りを構成Jると好適である。X線ど−ム79はモノク
ロメータ結晶16に入射し、このモノクロメータ結晶は
、例えば、湾曲したSi単結晶とする。好適な実施例で
はX線分析装置は本願の優先権主張日と同日出願の本件
出願人のオランダ固持的出願に記載された形態のシリコ
ン単結晶を備える。モノクロメータ結晶の結晶面を介し
て絞られたX線ビームは窓86を介してゴニオメータ・
ハウジング15に入る。
第5b図に断面で示したゴニオメータ部分は、本例では
内表面に歯90を設けた円筒88を備える。この歯はフ
A−カス円筒94の外周縁に設けた歯92とスリップを
生じない態様で共動する。フA−カス円筒94に固着し
た試験ずべき対象物96を変位するため、対象物96に
対ザる2つの究極位置96−〇及び96−3の間で固定
円筒88の内側歯のピッチ円に沿ってフォーカス円筒9
4を回動する。その場合対象物はX線ど−ム84のビー
ム通路内を、透過試験のため、円筒88に対する入口窓
と対向する第1究極位置96−Oから中間位置96−1
を介してX線ビーム84のビーム・フォーカス98へ移
動し、引き続き、反射試験のため、ビーム・フォーカス
98がら中間位置96−2を介して、入口窓と直径方向
反対の位置96−3へ移動する。回動運動を駆動するた
め本例では付加的有爾輪100を使用し、この有爾輪は
装着板99上に装着したモータ(図示1!f )によっ
て駆動し、かつフォーカス円筒94の歯92とも共動す
る。その場合有歯輪100の11+ 102は固定円筒
88に対□し円の周りを移動する。フォーカス円筒94
の軸110はビーム・フォーカス98の周りの円104
に沿って移動する。検出器106はフォーカス円筒94
の円周」二に配設し、かつアーム 108を介してフォ
ーカス円筒94の軸110に回転自在に結合する。フォ
ーカス円筒94の各位置に対し検出器をフォーカス円筒
の周縁に沿って移動することかでき、従って、例えば、
同じく装着板99上に装着した駆動モータ(図示せず)
を使用することができる。
このモータにより軸110を介し−C検出器支持ディス
ク105を駆動する。この運動は対象物の各位置におい
て行うことができる。エンコーダ 112により、例え
ば、入射ビーム及び検出器の間の角度を常にきわめで精
密に測定することができる。従って実際上、エンコーダ
は角度4θを測定し、ここでθは測定位置における対象
物に対重るブラッグ角度を示す。またこの場合、他の有
歯輸又は他の適当な結合もしくは駆動機構107を付加
りることにより、対象物及び検出器の回転に当り検出器
を連続的に再調整しく一検出器を連続的に対象物に指向
させるようにすることができる。カバ一部114ににり
移動IN 4i6全体を開成することができ、従ってこ
の機構内のスペースをモノクロメータ結晶用のハウジン
グど共に適切な状態にすることができる。対象物の位置
の選定における高い自由度に起因して、モノクロメータ
結゛晶においてX線に起るか又はモノクロメータ以前に
おいて既にX線に起っている分散を、対象物における分
散によって少なくとも部分的に補正するか又は増幅でき
るような対象物を配置することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のX線分析装置の概要を示す斜視図、 第2図は本発明のX線分析装置の変位機構の実施例の基
本構成を示す図、 第3図は本発明のX線分析装置の変位I幾構の他の3つ
の実施例の基本構成を−示す図、第4a図は本発明のX
線分析装置の変位m、横の他の実施例の基本構成を示す
平面図、 第4b図は第4a図の要部斜視図、 第5a図は第2図に示した種類の変位機構の実施例を詳
細に示す平面図、 第5b図は第5a図のカバ一部の断面図である。 1・・・アノード・ターゲラ1〜 3・・・モノクロメータ結晶 5・・・対象物      7・・・人ロスリツ1〜9
・・・検出器     10・・・X線ビーム11・・
・直線フォーカス 13・・・フォーカス直線11・・
・フォーカス直線 21、21− 1〜21−4・・・フォーカス円筒23
・・・フォーカス円@  26・・・フォーカス直線2
7、30・・・補助円筒  32・・・伝動ベル1〜3
4・・・アーム     35・・・円筒36・・・X
線ビーム通路 38・・・有歯輪39・・・連結部材 
   40.42. tr4・・・有歯輸45・・・有
歯輪伝動部  46・・・有歯輪60・・・円筒   
   61・・・連結部材62・・・円筒      
64.66・・・補助円筒68・・・ベルト     
70・・・X線管71・・・アノード・ターゲラ1〜 72・・・電子ビーム   73・・・直線状ターゲツ
ト面74・・・モノクロメータ・ハウジング75・・・
ゴニオメータ・ハウジング 76・・・モノクロメータ結晶 77・・・結晶      78・・・窓79・・・X
線ビーム   80・・・減衰フィルタ81・・・シャ
ッタ    82・・・ビーム絞り84・・・X線ビー
ム   86・・・窓88・=・円ji−i     
  90.92・@94・・・フォーカス円間96・・
・対象物98・・・ビーム・フA−カス 99・・・装着板     100・・・付加的有歯輪
102・・・軸      105・・・検出器支持デ
ィスク106・・・検出器    107・・・駆動機
構108・・・アーム    110・・・軸112・
・・■ンコータ゛114・・・カバ一部FIG、2 4少 4点Z 〉 0

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 XmgM (1)と、モノクロメータ(3)と、
    変位可能な対象物ホルダと、検出器(9)とを備えるX
    線分析装置において、X線ビームに対して変位する際対
    象物が、X線ビームのビー1トフォーカスの周りに固定
    配置した補助円筒(27,,30,40,60>の周り
    で回動できるフォーカス円M(2?)の表面上に一定位
    置を占め、一方、検出器をフォーカス円筒の表面に沿っ
    て回転自在とするよう構成したことを特徴とするX線分
    析装置。 2、入射X線ビーム及び検出器の間の角度を測定するた
    めエンコーダ(112)を設ける特許請求の範囲第1項
    記載のX線分析装置。 3、補助円n (27>がフォーカス円筒(21)の直
    径に等しい半径を有し、かつフォーカス円筒を補助円筒
    の内面に沿ってスリップを生じない態様で回動できる特
    許請求の範囲M1又は2項記載のX線分析装置。 4、補助円筒の内面及びフォーカス円筒の外面に、スリ
    ップを生じない態様で共動する歯を設ける特許請求の範
    囲第3項記載のX線分析装置。 5、フォーカス円筒(21)にこれと同心配置した駆動
    円筒(35)を設け、駆動円筒をスリップを生じないペ
    ル1〜伝動部(32)を介して、ビーム・フォーカス(
    13)の周りに固定配置されかつ駆動円筒の直径に等し
    い半径を有する補助円筒(30)に結合する特許請求の
    範囲第1又は2項記載のX線分析装置。 6、フォーカス円筒(21)にこれと同心配置した駆動
    円筒(35)を設け、駆動円筒の外部に歯を設け、かつ
    駆動円筒を中間有歯幅(38)を介して補助円筒(30
    )に結合し、補助円筒の外部に、ビーム・フォーカス(
    13)の周りに固定配置されかつ駆動円筒の歯の数の2
    倍の数を有する歯を設ける特許請求の範囲第1又は2項
    記載のX線分析装置。 7、ビーム・フォーカス(13)の周りに固定配置した
    補助円筒(40)が中間案内部材(42)と共に1:2
    の伝動比で共動し、中間案内部が同心結合した円筒(4
    4)を介して円筒(46)と共動し、この円筒(46)
    がフォーカス円筒(21)に同心配置されかつ円筒(4
    4)の直径に等しい直径を有する特許請求の範囲第1又
    は2項記載のX線分析装置。 8、ビーム・フォーカス(13)の周りに配置した補助
    円筒(60)をベルト伝動部(68) 、第1中間円f
    m(62)及び第2中間円筒(66)を介してフォーカ
    ス円筒に結合し、ベルト伝動部のベルトが各円筒に共通
    な点を有し、かつ回転に当り軸方向の力発生しない案内
    部を通る特許請求の範囲第1又は2項記載のX線分析装
    置。 9、対象物ホルダ及び検出器に対する移動taWJに、
    測定時に検出器を連続的に対象物に指向させるm横(1
    07)を付加する特許請求の範囲第1乃至8項中のいず
    れか一項記載のX線分析装置。 10、転位の少ない単結晶で構成したダブル・フォーカ
    ス・モノクロメータ結晶(16)を設ける特許請求の範
    囲第1乃至9項中のいずれか一項記載のX線分析装置。 11、対象物ホルダに対する移動機構に、照射ずべぎ結
    晶の表面に直角でありかつフォーカス円の平面にある軸
    の周りで対象物を回転する移動装置を付加する特許請求
    の範囲第1乃至10項中のいずれか一項記載のX線分析
    装置。 12、照射すべき結晶の表面に直角でありかつフォーカ
    ス円の平面にある軸に対し対象物ホルダに配置した対象
    物の傾斜運動を行わせる装置を対象物ホルダに付加する
    特許請求の範囲第1乃至11Tji中のいずれか一項記
    載のX線分析装置。 13、対象物を照射すべきX線ビームに対するビーム阻
    止絞り(82)を、(111)結晶面に沿ってカットし
    た転位の少ない単結晶材料のスライスで構成する特許請
    求の範囲第1乃至12項中のいずれか一項記載のX線分
    析装置。
JP59017219A 1983-02-04 1984-02-03 X線分析装置 Expired - Lifetime JPH0610659B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AU46172/85A AU581580B2 (en) 1984-02-03 1985-08-14 Apparatus for controlling drum water level of drum type boiler

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8300420A NL8300420A (nl) 1983-02-04 1983-02-04 Roentgen analyse apparaat.
NL8300420 1983-02-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59153153A true JPS59153153A (ja) 1984-09-01
JPH0610659B2 JPH0610659B2 (ja) 1994-02-09

Family

ID=19841349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59017219A Expired - Lifetime JPH0610659B2 (ja) 1983-02-04 1984-02-03 X線分析装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4726047A (ja)
EP (1) EP0118932B1 (ja)
JP (1) JPH0610659B2 (ja)
DE (1) DE3465518D1 (ja)
NL (1) NL8300420A (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4102850A1 (de) * 1991-01-31 1992-08-06 Philips Patentverwaltung Roentgenographisches spannungsmessgeraet
EP0527536B1 (en) * 1991-08-14 1998-06-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. X-ray analysis apparatus
US7634052B2 (en) * 2006-10-24 2009-12-15 Thermo Niton Analyzers Llc Two-stage x-ray concentrator
EP2438431A4 (en) * 2009-06-03 2013-10-23 Thermo Scient Portable Analytical Instr Inc METHODS AND X-RAY SYSTEM IMPERATING A DETECTOR CONTENT IN A FOCUSING ELEMENT
US9976971B2 (en) 2014-03-06 2018-05-22 United Technologies Corporation Systems and methods for X-ray diffraction
DE102015226101A1 (de) * 2015-12-18 2017-06-22 Bruker Axs Gmbh Röntgenoptik-Baugruppe mit Umschaltsystem für drei Strahlpfade und zugehöriges Röntgendiffraktometer
CN108844972A (zh) * 2018-05-29 2018-11-20 中国原子能科学研究院 一种后准直探测装置
PL3719484T3 (pl) * 2019-04-04 2024-05-13 Malvern Panalytical B.V. Urządzenie i sposób kształtowania wiązki promieniowania rentgenowskiego

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54130983A (en) * 1978-03-21 1979-10-11 Philips Nv Range control mechanism
JPS55116245A (en) * 1979-02-23 1980-09-06 Siemens Ag Powder xxray diffraction meter

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5514379B2 (ja) * 1973-05-30 1980-04-16
SU614367A1 (ru) * 1975-09-26 1978-07-05 Предприятие П/Я М-5659 Флуоресцентный рентгеновский спектрометр
DE2933047C2 (de) * 1979-08-16 1982-12-30 Stoe & Cie. GmbH, 6100 Darmstadt Verfahren und Vorrichtung der Röntgendiffraktion

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54130983A (en) * 1978-03-21 1979-10-11 Philips Nv Range control mechanism
JPS55116245A (en) * 1979-02-23 1980-09-06 Siemens Ag Powder xxray diffraction meter

Also Published As

Publication number Publication date
DE3465518D1 (en) 1987-09-24
JPH0610659B2 (ja) 1994-02-09
US4726047A (en) 1988-02-16
NL8300420A (nl) 1984-09-03
EP0118932B1 (en) 1987-08-19
EP0118932A1 (en) 1984-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4364122A (en) X-Ray diffraction method and apparatus
JP3390030B2 (ja) X線解析装置
US4027975A (en) Scanning monochromator and concave reflecting grating employed therein
JPS59153153A (ja) X線分析装置
JPS6040943A (ja) X線分析装置
US2898469A (en) X-ray diffraction apparatus
US4274000A (en) X-ray powder diffractometer
US3728541A (en) X-ray diffractometer
JP2008008785A (ja) X線分光測定方法およびx線分光装置
EP0014500B1 (en) X-ray powder diffractometer
US4236072A (en) Adjusting mechanism
US3344274A (en) Ray analysis apparatus having both diffraction amd spectrometer tubes mounted on a common housing
US2615136A (en) X-ray single crystal goniometer
US3816747A (en) Method and apparatus for measuring lattice parameter
JP2000258366A (ja) 微小部x線回折装置
JP3098806B2 (ja) X線分光装置およびexafs測定装置
US3427451A (en) X-ray diffractometer having several detectors movable on a goniometer circle
JPS60122362A (ja) X−線検査装置
US3361909A (en) X-ray diffraction goniometer with specific drive mechanism for the specimen holder and detector
US6487270B1 (en) Apparatus for X-ray analysis with a simplified detector motion
JPS5957145A (ja) X線分析装置
JP2912670B2 (ja) X線回折装置
RU2216010C2 (ru) Многоканальный рентгеновский дифрактометр
SU851211A1 (ru) Рентгеновский дифрактометр по схемезЕЕМАНА-бОлиНА
JPS62223655A (ja) 格子定数測定装置