JPS59152375A - イミダゾリジン−２−オン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規なイミダゾリジン−２−オン誘導体、そ
の製造方法及び該誘導体を有効成分とする除草剤に関す
る。

本発明のイミダゾリジン−２−オン誘導体は文献未載の
新規化合物であって、下記一般式（Ｉ）で示される。

（式中Ｒは低級アルキル基を表わす。Ｘは水素原子、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ベン
ジルオキシ基又は低級ハロアルキル基を表わす。ｉは１
〜３の整数を表わす。〕本明細書において、低級アルキ
ル基としては例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、５ｅａ−ブチル基
、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等を挙げることが
できる。ハロゲン原子としては例えば弗素、塩素、臭素
、沃素原子等を挙げることができる。低級アルコキシ基
としては例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピル
オキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブ１〜キシ基等
を挙げることができる。低級ハロアルキル基としては例
えばモノクロルメチル基、モノクロルエチル基、モノク
ロルプロピル基、ジクロルエチル基、モノブロムメチル
基、モツプロムエチル基、モノブロムプロピル基、モノ
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオ
ロエチル基等を挙げることができる。

上記一般式〔１〕で表わされる本発明の化合物は種々の
方法により製造されるが、その好ましい一例を挙げれば
下記反応式−１に従い製造される。

反応式−１ ０〔Ｉｌｌ〕 （訂Ｊ ｃ式中Ｒ，Ｘ及び０は前記に同じ。〕 Ｊ−記反応式−１において、出発原料として用いられる
一般式（］Ｔ）で示されるイミダゾリジン−２−オン誘
導体は新規化合物であり、例えば下記反応式−２に従い
公知化合物であるヒダントイン誘導体（ＩＶ　）を還元
することにより得られる。

反応式−２ （ＩＶＩ 〔式中Ｘ及びｎは前記に同じ。〕 一般式（ＩＶ）で示される化合物を還元して一般式（Ｉ
Ｉ）で示される化合物を得る反応は、適当な溶媒中で行
なうことができる。使用される溶媒としては、例えば水
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、ブチルアルコール等のアルコール類、又はジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン等のエーテル類と前記アルコール類との混
合溶媒を挙げることができる。一般式（ｒＶ）で示され
る化合物を還元して一般式（Ｉｆ）で示される化合物を
得る反応での還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナト
リウムが使用される。一般式（ＩＶ）で示される化合物
と水素化ホウ素すｌ・リウムとの使用割合としては、特
に限定がなく広い範囲内から適宜選択できるが、通常前
者に対して後者を０．１〜５倍モル！！！ｉ１度、好ま
しくは０．２５〜等モル程度使用するのがよい。該反応
の反応温度としては特に制限されないが、通常−５０〜
１００℃程度・、好ましくはＯ〜５０℃程度にて反応が
好適に進行し、一般に１〜５時間程度で反応は終了する
。

他の一方の出発原料である一般式（ＩＩ）で示されるイ
ソシアネ−１〜は公知化合物であり、例えばブチルイソ
シアネート、エヂルイソシアネート、ｎ−プロピルイソ
シアネート、イソブチルイソシアネート素、ｎ−ブチル
イソシアネート、イソブチルイソシアネート、５ｅｃ−
ブチルイソシアネート等を挙げることができる。　　　
　゛−一般式ｎ）の化合物と一般式（ＩＩＩ）の化合物
。

との反応は、無溶媒下又は溶媒中で行なわれる。

無溶媒下で行なう場合には、一般式（１）で示される化
合物の揮散を防ぐため、オートクレーブ中で加圧反応さ
せるのがよい。溶媒中で行なう場合の溶媒としては、原
料に悪影響を与えない溶媒であれば可能であるが、例え
ばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン
等の芳香族系溶媒、ピリジン、アセトニトリル、Ｎ　　
、Ｎ−ジメチルホルムアミド等を使用することができる
。一般式〔Ｉ［）で示される化合物と一般式（Ｉ［ｌ）
で示される化合物との使用割合としては、特に限定がな
く広い範囲内から適宜選択できるが、通常前者に対して
優者を等モル−５倍モル程度、好ましくは等モル−２倍
モル程度使用するのがよい。

一般式（ＩＦ）で示される化合物と一般式（Ｉ［［）で
示される化合物との反応を無溶媒下で行なう場合には、
触媒を使用しても使用しなくてもよいが、溶媒中で行な
う場合には、触媒を使用するのが好ましい。使用される
触媒としては、例えば第３級アミン類、具体的にはトリ
エチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ　　、Ｎ−ジメチ
ルアニリン、ヘキサメヂレンテ１〜ラミン等を挙げるこ
とができる。触媒の使用量としては、通常の触媒量でよ
く、例えば一般式（ＩＴ）で示される化合物に対して通
常０．０１〜０．５モル程度使用するのがよい。該反応
の反応温度としては特に制限されないが、通常０〜１５
０℃程度にて反応が進行し、一般に３へ・１５詩間程度
で反応は完結する。

斯くして得られた一般式ＣＩ）の本発明化合物は、常法
の手段、例えば再結晶、溶媒抽出、カラムクロマトグラ
フィー等で容易に精製される。

上記の方法で得られる本発明の化合物を例示すると以下
の通りである。

０３−メチル−４−メチルカルバモイルオキシイミダゾ
リジン−２−オン−１−カルボキシアニリド ０３−メチル−４−エトキシカルバモイルオキシイミダ
ゾリジン− ニリド ０３−メチル−４−イソプロピルカルバモイルオキシイ
ミダゾリジン−２−オン−１−カルボキシアニリド ０２’．３−ジメチル−４−メチルカルバモイルオキシ
イミダゾリジン−２−オン−１−カルボキシアニリド ０３、３’　−ジメチル−４−メチルカルバモイルオキ
シイミダゾリジン− キシアニリド ０２′−クロル−３−メチル−４−メチルカルバモイル
オキシイミダゾリジン−２−オン−１−カルボキシアニ
リド ０　２　Ｊ　−クロル−３−メチル−４−イソプロピル
カルバモイルオキシイミダゾリジン−２−オン−１−カ
ルボキシアニリド ０２’．４’　−ジクロル−３−・メチル−４−メチル
カルバモイルオキシイミダゾリジン−２−オシー１−カ
ルボキシアニリド ０３′−クロル−３−メチル−４−メチルカルバモイル
オキシイミダゾリジン− ノＪルボキシアニリド ０３−メチル−４′−メ１〜キシー４〜メヂルカルバモ
イルオキシイミダゾリジン−２−オン−１−カルボキシ
アニリド ｏ３−メチル−４’−１−リフルオロメチル−４−メチ
ルカルバモイルオキシイミダゾリジン−２−オン−１−
カルボキシアニリド ０３−メチル−４′ーベンジルオキシ−４−メチルカル
バモイルオキシイミダゾリジン〜２−オン−１−カルボ
キシアニリド 本発明はまた前記一般式［Ｉ）で示されるイミダゾリジ
ン−２−オン誘導体を有効成分どする除草剤に関する。

本発明の化合物は、タカリブロウ、アオビユ、クサネム
、スズメノテッポウ、タデ、ヨモギ、オオアレヂノギク
、ギシギシ、アゼナ、キカシグサ、ノビエ、メヒシバ、
オヒシバ、カヤツリグサ等の雑草に対して強力な除草効
果を示すので、それらの雑草の生育が有害となるミカン
、リンゴ、ダイス、トウモロコシ、桑、茶、水槌等の農
作物の生産や景観上有害な雑草の防除に有用である。

本発明化合物を除草剤として施用するに当っては、本発
明化合物をそのまま用いてもよいが、一般には通常農薬
の製剤上使用される補助剤と混合していずれの剤型とし
ても使用することができる。

その中でも乳剤、水和剤、粒剤の形態が好適に用いられ
る。この際、効果の安定性及び効果の向上を期するため
の補助剤としては、例えばケイソウ土、カオリン、クレ
ー、ベントナイト、ホワイトカーボン、タルク等の増員
剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアル」ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪
酸エステル、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、
リグニンスルホン酸ナトリウム、アルキル硫酸ナトリウ
ム、ポリオキシエチレンアルキル硫酸ナトリウム等の非
イオン系あるいは陰イオン系界面活性剤、キジロール、
アセ１−ン、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ル、ジスキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキ１ナイド、四塩化炭素等の有機溶媒等が使用される
。

本発明の除草剤組成物の配合としては、有効成分が約１
〜９０ｆｔ＠％、好ましくは約５〜７０重Ｑ％になるよ
うに補助剤を添加づ−ることによって製剤される，、施
用適量は薬剤の製剤形態、施用方法、施用詩期、対象雑
草の種類ならびに特に除草効果に影胃を与えやすい気象
条件、土壌条件等によってそれぞれ異なるものであり、
広い範囲内から適宜選択されるが、一般的には有効成分
量として約５〜４００ｑ／ａ程度、好ましくは約１０〜
１　００ｏ　／ａ　Ｐｉ！度が散布される。

以下に参考例、実施例、処方例及び試験例を挙げて本発
明を更に詳しく説明する。尚、試験例にｄ５ける供試化
合物番号は実施例の番号に対応する。

匈考例　１ ３、３′　−ジメチル−４−ヒドロキシイミダゾリジン
−２−オン−−１ーカルボキシアニリドの製造 ３、３′−ジメチルイミダゾリジン−２．５−ジオン−
１−カルボキシアニリド７、４ｇ（０．０３モル）をメ
タノール５０１にＷｌ．濁した。

１０℃に冷却後、撹拌下で水素化ホウ素ナトリウム１．
２ｇ　（０．０３モル）を加えた。３０分撹拌後、室温
に戻し、更に２時間撹拌した。反応終了後、反応液を濃
縮し、残漬に水を加えて結晶を析出させた。結晶を濾過
後エタノールより再結晶し、無色結晶６．７ｏ　　（収
率９０％）を得た。

融点　１６４〜１６４．５℃ 実施例１ ３、３′−ジメチル−４−メヂルカルバモイルオキシイ
ミダゾリジン−２−オン−１−カルボキシアニリドの製
造 ３、３′−ジメチル−４−ヒドロキシイミダゾリジン−
２−オン−１−カルボキシアニリド５、０ｇ　（０．０
２モル）をクロロホルム５０鵬に溶解し、トリエチルア
ミン０．　５１１１２を添加した。

５℃に冷却後、撹拌下℃イソシアン酸メチル１．７ｏ　
　（０，０３モル）を滴下した。３０分撹拌後、室温に
戻し、更に５時間撹拌した。反応終　　実子後、反応液
を減圧洞縮し、結晶性残渣を得た。

これをエタノールより再結晶し、無色結晶５．２ｇ　（
収率８５％）を得た。

融点　１３０〜１３１℃ 結晶の重クロロホルム中でのＮＭＲは次のように示した
。

δ　　２，３０ＤＤＩＩｌ　　（３１−１”）　　、　
　６　２．７７１１１１）ＩＩＩ（３ト］　）δ　２，
８０ｐｐ＋ｎ　（３）−１＞　、δ　３，３０ｐｐｍ　
（Ｉ　Ｈ）δ　５．１７ｐｐＩＩｌ（珪１）、６６．７
５ｐｐｍ　（廿１）６６．８０〜７．５０ｐｐｎ＋　（
４１−４）元素分析値（Ｃ＋　、Ｌ　Ｈ＋　ｓ　Ｎ−Ｏ
ｔ　＝３０６．３２） 分析値％　Ｃ５４，８５Ｈ５，９３Ｎ１８．３１理論値
％　Ｃ５４，８９Ｈ５，９２Ｎ１８．２９以上の結果よ
り を確認した。

施例　２ ４′−クロル−３−メチル−４−エチルカルバモイルオ
キシイミダゾリジン−２−オン−１−カルボキシアニリ
ドの製造 ４′−クロル−３−メヂルー４−ヒドロキシイミダゾリ
ジン−２−オン−１−カルボキシアニリド　２．７ａ　
　（０，０１モル）をクロロホルム４０−に溶解し、ト
リエチルアミン０．４ｍＧを添加した。５℃に冷却後、
撹拌下でイソシアン酸エチル１．Ｉｏ　　（０，０１５
モル）を滴下した。３０分撹拌後、室温に戻し、更に１
２時間撹拌した。反応終了後、反応液を減圧濃縮し晧晶
性残渣を得た。これをエタノールより再結情し、無色結
晶２．６ｏ（収率　７７％）を得た。

融点　１５６〜１５７℃ 結晶の重クロロホルム中でのＮＭＲは次のように示した
。

δ　１．１２ｐＤＩＲ（３Ｈ）　、δ　２．８２ｐＤＩ
ｌｌ　（３Ｈ）処方例　１　（３ｏ％乳剤） （重量部） 実施例１の化合物　　　　　　　　３゜ポリオキシエチ
レンノニル　　　　１゜フェニルエーテル ジメチルホルムアミド　　　　　　２゜キシレン　　　
　　　　　　　　　４゜処方例　２　（５０％水和剤） 実施例２の化合物　　　　　　　　５゜リグニンスルホ
ン酸ナトリウム　　　１ドデシルベンゼンスルホン酸　
　　　４ナトリウム クレー　　　　　　　　　　　　　　４５処方例　３　
（１０％粒剤） 実施例３の化合物　　　　　　　　１゜リグニンスルホ
ン酸ｆ］・リウへ　　　０．５ドデシルベンゼンスルホ
ンｉ’ｌ！　　　　　２す１−リウム ケイソウ土　　　　　　　　　　　２７．５ベントナイ
ト　　　　　　　　　　　６０尚、乳剤の場合には、各
成分を均一に混合溶解し、水和剤の場合には、各成分を
均一に混合粉砕してそれらを得ることができる。また粒
剤の場合には、各成分を均一に混合し、水を加えて充分
混練したのち造粒し、次いで細かく切断して粒状のもの
とし、乾燥して製造される。

試験例　１　（茎葉処理テスト） １／２０００ａのワグナ−ボットに殺菌した沖積土壌を
入れ、第２表に示す供試植物の種子を播種し、各植物が
ほぼ一定の大きさくばぼ２〜３葉期）に達したとき、実
施例に示す方法で得た化合物を有効成分とする乳剤を処
方例１に準じて製剤し、それぞれ有効成分が１００ｏ／
ａとなるように水で希釈したものを植物の草葉全面が充
分一様に濶れるように散布した。散布後３１問目に各植
物に対する除草活性を調べた。その結果を第２表に示す
。尚、除草活性は肉眼観察により次の基準に従って無処
理の場合と対比した指数で評価した。

（指数）　　　　（除草活性） ０　　　　　　変化なし １　　　　１〜２４％阻害 ２　　　　２５へ一７１９％阻害 ３　　　　５０〜７４％阻害 ４　　　　７５〜９０％阻害 ５　　　　　　完全枯死 第　　２　　表 ※　　　　　　　　　　イソカルバミドｒＮ−（２−メ
チルプロピル） キシアミド−１ Ｆ表において供試植物Ａ〜Ｈは次の植物である。

Δ・・・アオビユ　　Ｂ・・・クサネムＣ・・・ノビエ
　　　Ｄ・・・ダイコン！ Ｅ・・・ソバ　　　　Ｆ・・・アサガオＧ・・・］ムギ
　　　Ｈ・・・タカサ・ブロウ試験例　２　（土壌処理
テスト） １／２０００ａのワグナ−ボットに殺菌した沖積土壌を
入れ、第３表に示す供試植物の種子を播種して、約０．
５〜ｉ、Ｑｃｍ覆土した。次いで実施例に示す方法で得
た化合物を有効成分とする水和剤を処方例２に準じて製
剤し、それぞれ有効成分が１００す／ａとなるように水
で希釈し、これを土壌表面が均一に濡れるように散布し
た。散布１卦３週間目に各植物に対する除草活性を調べ
た。

その結果を第３表に示す。評価の基準は試験例１と同じ
である。

第　　３　　表 対照化合物は第２表と同じである。また供試植物Ａ−Ｇ
は第２表と同じである。

試験例　３　（湛水処理テスト） １１５０００ａのワグナ−ボットに水田土壌を入れ、さ
らにその表層にそれぞれノビエ、タマガヤツリ、アゼナ
及びキカシグサの種子が混入している土を入れたのち、
水深を３ｃ＋ｎに保った。次いで実施例で示す方法で得
た化合物を有効成分とする粒剤を処方例３に準じて製剤
し、それぞれ有効成分が５０１１／ａとなるように均一
に散布し、薬剤施用後３週間口に各植物に対する除草活
性を調べた。結果を第４表に示す。評価の基準は試験例
１と同じである。

第　　４　　表 対照化合物は第２表と同じである。また供試植物Ｃ，Ｊ
〜には次の通りである。

Ｃ・・・ノビエ　　Ｉ・・・タマガヤツリＪ・・・アゼ
ナ　　Ｋ・・・キカシグサ（以　　上　　） −１１゜ −（ −５ン

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　一般式 〔式中Ｒは低級アルキル基を表わす。Ｘは水素原子、ハ
   ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ベン
   ジルオキシ基又は低級ハロアルキル基を表わす。ｎは１
   〜３の整数を表わす。〕 で示されるイミダゾリジン−２−オン誘導体。 ■　一般式 〔式中Ｘは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、
   低級アルコキシ基、ベンジルオキシ基又は低級ハロアル
   キル基を表わす、、ｎは１〜３の整数を表わす。〕 で示されるイミダゾリジン−２−オン誘導体と一般式 〔式中Ｒは低級アルキル基を表わす。〕で示されるイソ
   シアネートを反応させて一般式〔式中Ｒ，Ｘ及びｎは前
   記に同じ。〕 で示されるイミダゾリジン−２−オン誘導体を得ること
   を特徴とするイミダゾリジン−２−オン誘導体の製造方
   法。 ■　一般式 〔式中Ｒは低級アルキル基を表わす。×は水素原子、ハ
   ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ベン
   ジルオキシ基又は低級ハロアルキル基を表わす。ｎは１
   〜３の整数を表わ４．、〕 で示されるイミダゾリジン−２−オン誘導体を有効成分
   とする除草剤。