JPS59144758A - 4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製造法 - Google Patents
4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製造法Info
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- JPS59144758A JPS59144758A JP58018214A JP1821483A JPS59144758A JP S59144758 A JPS59144758 A JP S59144758A JP 58018214 A JP58018214 A JP 58018214A JP 1821483 A JP1821483 A JP 1821483A JP S59144758 A JPS59144758 A JP S59144758A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、N−ろ−オキソーシクロへキシリデンエタノ
ールアミンを触媒の存在下に溶媒中で環化させて、4−
オキソ−4;5 、b 、7−ケトンヒドロインドール
を製造する新規方法に関するものである。
ールアミンを触媒の存在下に溶媒中で環化させて、4−
オキソ−4;5 、b 、7−ケトンヒドロインドール
を製造する新規方法に関するものである。
4−オキソ−4,5,6,7−ケトンヒドロインドール
は1例えば次式に示すようにこれを脱水素して。
は1例えば次式に示すようにこれを脱水素して。
4−ヒドロキシインドールにし、エピクロルヒドリン、
次いでイングロビルアミンと反応させると。
次いでイングロビルアミンと反応させると。
β−交感神経遮断薬であるピンドロールにするととがで
き、医薬品等の合成中間体として有用である。
き、医薬品等の合成中間体として有用である。
4−オキソ−4,5,6,7−ケトンヒドロインドール
の製法としては1例えば(1) 1.3−シクロヘキサ
ンジオンとα−オキシイミノケトンを酢酸中で亜鉛を加
えながら加熱環流させる方法(特公昭44−9904号
公報)、(2)1.3−シクロヘキサンジオンとブロム
ピルビン酸エチルエステルから4−オキソ−4,5,6
,7−テトラヒドロクマロン−6−カルボン酸を製造し
9次いでアンモニアを作用させる方法(特開昭54−1
9971号公報)などが知られている。しかしながら、
(1)の方法では亜鉛を原料とほぼ同量使用する必要が
ある。また(2)の方法では原料のブロムピルビン酸エ
チルエステルが工業的に入手し難いなどの問題点があり
、これらの方法は4−オキソ−4,5,6,7−チトラ
ヒドロインドールの工業的製法としては必ずしもあ捷り
有利な方法とはいえない。
の製法としては1例えば(1) 1.3−シクロヘキサ
ンジオンとα−オキシイミノケトンを酢酸中で亜鉛を加
えながら加熱環流させる方法(特公昭44−9904号
公報)、(2)1.3−シクロヘキサンジオンとブロム
ピルビン酸エチルエステルから4−オキソ−4,5,6
,7−テトラヒドロクマロン−6−カルボン酸を製造し
9次いでアンモニアを作用させる方法(特開昭54−1
9971号公報)などが知られている。しかしながら、
(1)の方法では亜鉛を原料とほぼ同量使用する必要が
ある。また(2)の方法では原料のブロムピルビン酸エ
チルエステルが工業的に入手し難いなどの問題点があり
、これらの方法は4−オキソ−4,5,6,7−チトラ
ヒドロインドールの工業的製法としては必ずしもあ捷り
有利な方法とはいえない。
本発明者らは、これらの実情に鑑み、4−オキソ−4,
5,6,7−ケトラヒドロインドールの製法につき、容
易に入手できる原料から工業的に製造することができる
新規製法を開発することを目的とl〜で種々検討した結
果、1,3−シクロへギザンジオンとエタノールアミン
とから容易に得られるンッフ塩基(N−3−オキソ−シ
クロへキシリデンエタノールアミン)を白金族金属の錯
体触媒の存在下に溶媒中で加熱すると環化反応が牛し、
4−オキソ−4,5,6,7−チトラヒドロインドール
を収率よく製造できることを知見し2本発明に到った。
5,6,7−ケトラヒドロインドールの製法につき、容
易に入手できる原料から工業的に製造することができる
新規製法を開発することを目的とl〜で種々検討した結
果、1,3−シクロへギザンジオンとエタノールアミン
とから容易に得られるンッフ塩基(N−3−オキソ−シ
クロへキシリデンエタノールアミン)を白金族金属の錯
体触媒の存在下に溶媒中で加熱すると環化反応が牛し、
4−オキソ−4,5,6,7−チトラヒドロインドール
を収率よく製造できることを知見し2本発明に到った。
本発明は、N−3−オキソ−シクロへキシリデンエタノ
ールアミンを白金族金属の錯体触媒の存在下に溶媒中で
環化反応させることを特徴とする4−オキソ−4,5,
6,7−チトラヒドロインドールの製造法に関するもの
である。
ールアミンを白金族金属の錯体触媒の存在下に溶媒中で
環化反応させることを特徴とする4−オキソ−4,5,
6,7−チトラヒドロインドールの製造法に関するもの
である。
(3)
本発明において使用されるkl−3−オキソ−シクロへ
キシリデンエタノールアミンは、常法に従って1.己−
シクロヘキサンジオンとエタノールアミンを無触媒下に
適当な溶媒中で脱水縮合反応させることによって定量的
に生成させることができ。
キシリデンエタノールアミンは、常法に従って1.己−
シクロヘキサンジオンとエタノールアミンを無触媒下に
適当な溶媒中で脱水縮合反応させることによって定量的
に生成させることができ。
取得することができる。エタノールアミンの使用量は、
1,3−シクロヘキサンジオフ1モルに対して1〜1.
2モル、好捷しくは1.0〜1.02モルが適当である
。反応温度は0〜50°C2好ましくは15〜30゛C
であり、溶媒中で混合するだけでただちに反応は完結し
てN3−オキソ−シクロへキシリデンエタノールアミン
が生成する。溶媒としては2種々のものが使用できるが
、生成物のN−ろ−オキソ−シクロへキシリデンエタノ
ールアミン、およびN−ろ−オキンーシクロへキシリデ
ンエタノールアミンの環化反応に使用される白金族金属
の錯体触媒を溶解させるものを使用するのカ、1.ろ−
シクロヘキサンジオンとエタノールアミンとの反応液を
その捷ま環化反応に使用でき。
1,3−シクロヘキサンジオフ1モルに対して1〜1.
2モル、好捷しくは1.0〜1.02モルが適当である
。反応温度は0〜50°C2好ましくは15〜30゛C
であり、溶媒中で混合するだけでただちに反応は完結し
てN3−オキソ−シクロへキシリデンエタノールアミン
が生成する。溶媒としては2種々のものが使用できるが
、生成物のN−ろ−オキソ−シクロへキシリデンエタノ
ールアミン、およびN−ろ−オキンーシクロへキシリデ
ンエタノールアミンの環化反応に使用される白金族金属
の錯体触媒を溶解させるものを使用するのカ、1.ろ−
シクロヘキサンジオンとエタノールアミンとの反応液を
その捷ま環化反応に使用でき。
また、環化反応を行なう際、錯体触媒を加えるだ(4)
けで均一系で反応が行なえるので好適である。
好適な溶媒としては2例えば、1,2−ジメトキシエタ
ン、1,2−ジェトキシエタン、1,2−ジー1so−
プロホキ/エタン、1.2−ジ−n−プロポキシエタン
、1,2−ジーn−ブトキシエタン、1.2−1so−
ブチロキシエタン、1,2−ジ−t−ブチロキシエタン
、1.ろ−ジメトキシプロパン、1.ろ−ジェトキシプ
ロパン、1.ろ−シ−iso −フロポキシプロパン、
1.己−ジーn−プロポキシプロパン、1,3−ジーn
−ブトギシプロパン、1.ろ一ジー 1so−ブチロキ
シプロパン、1.ろ−ジーt−ブチロキシプロパン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテルなどの如き2式(1) %式%(1) (式中、Rはアルキル基またはアルコキシアルキル基を
示し、nは2寸だほろ。) で表わされるジアルコキシアルカン類が挙げられる。
ン、1,2−ジェトキシエタン、1,2−ジー1so−
プロホキ/エタン、1.2−ジ−n−プロポキシエタン
、1,2−ジーn−ブトキシエタン、1.2−1so−
ブチロキシエタン、1,2−ジ−t−ブチロキシエタン
、1.ろ−ジメトキシプロパン、1.ろ−ジェトキシプ
ロパン、1.ろ−シ−iso −フロポキシプロパン、
1.己−ジーn−プロポキシプロパン、1,3−ジーn
−ブトギシプロパン、1.ろ一ジー 1so−ブチロキ
シプロパン、1.ろ−ジーt−ブチロキシプロパン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテルなどの如き2式(1) %式%(1) (式中、Rはアルキル基またはアルコキシアルキル基を
示し、nは2寸だほろ。) で表わされるジアルコキシアルカン類が挙げられる。
1.3−シクロヘキサンジオンとエタノールアミンとの
反応式は2次式(2)で示される。
反応式は2次式(2)で示される。
本発明において、N−6−オギソーンクロへキシリデン
エタノールアミンの環化反応に使用される白金族金属の
錯体触媒は2式(3)で表わすことができる。
エタノールアミンの環化反応に使用される白金族金属の
錯体触媒は2式(3)で表わすことができる。
MXn (PH1) m
(3)(式中1Mはルテニウム、ロジウム、イリジウム
。
(3)(式中1Mはルテニウム、ロジウム、イリジウム
。
パラジウム、白金などの白金族金属、Xは塩素。
ヨウ素、臭素などのハロゲン原子、Pはリン、Rはフェ
ニル基および/!f、たけ低級アルキル基を示し、nは
1,2捷たけ己で9mは2寸たはろである。) 式(3)で表わされる錯体触媒の具体例としては。
ニル基および/!f、たけ低級アルキル基を示し、nは
1,2捷たけ己で9mは2寸たはろである。) 式(3)で表わされる錯体触媒の具体例としては。
例えハ、ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ル
テニウム(1)、ジクロロトリス(メチルジフェニルホ
スフィン)ルテニウム(、II)、ジクロロトリス(ジ
メチルフェニルホスフィン)ルテニウム(It)、ジク
ロロトリス(トリメチルホスフィン)ルテニウム(Ti
)、ジクロロトリス(トリエチルホスフィン)ルテニウ
ム(IT)、クロロ) IJ ス(+−IJフェニルホ
スフィン)ロジウム(1)。
テニウム(1)、ジクロロトリス(メチルジフェニルホ
スフィン)ルテニウム(、II)、ジクロロトリス(ジ
メチルフェニルホスフィン)ルテニウム(It)、ジク
ロロトリス(トリメチルホスフィン)ルテニウム(Ti
)、ジクロロトリス(トリエチルホスフィン)ルテニウ
ム(IT)、クロロ) IJ ス(+−IJフェニルホ
スフィン)ロジウム(1)。
クロロトリス(メチルジフェニルホスフィン)ロジウム
(1)、クロロトリス(ジメチルフェニルホスフィン)
ロジウム(I )、クロロトリスCI−リメチルホスフ
ィン)ロジウムN)、クロロトリス(トリエチルホスフ
ィン)ロジウムN)。
(1)、クロロトリス(ジメチルフェニルホスフィン)
ロジウム(I )、クロロトリスCI−リメチルホスフ
ィン)ロジウムN)、クロロトリス(トリエチルホスフ
ィン)ロジウムN)。
トリクロロトリス(トリフェニルホスフィン)イリジウ
ム(ITI)、 )ジクロロトリス(メチルジフェニ
ルホスフィン)イリジウム(nu)、)ジクロロトリス
(ジメチルフェニルホスフィン)イリジウム(!It)
、 )ジクロロトリス(トリメチルホスフィン)イリ
ジウム(It)、)ジクロロトリス(トリエチルホスフ
ィン)イリジウム(III)、ジクロロトリス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(1)、ジクロロビス(
メチルジフェニルホスフィン)パラジウム(IT)、ジ
クロロビス(ジメチルフェニルホスフィン)パラジウム
(IT)。
ム(ITI)、 )ジクロロトリス(メチルジフェニ
ルホスフィン)イリジウム(nu)、)ジクロロトリス
(ジメチルフェニルホスフィン)イリジウム(!It)
、 )ジクロロトリス(トリメチルホスフィン)イリ
ジウム(It)、)ジクロロトリス(トリエチルホスフ
ィン)イリジウム(III)、ジクロロトリス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(1)、ジクロロビス(
メチルジフェニルホスフィン)パラジウム(IT)、ジ
クロロビス(ジメチルフェニルホスフィン)パラジウム
(IT)。
ジクロロビス(トリメチルホスフィン)パラジウム(T
I)、ジクロロビス(、)リエチルホスフィン)、パラ
ジウム(If)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(n)、ジクロロビス(メチルジフェニルホス
フィン)白金(It)、ジクロロビス(′)メチルフェ
ニルホスフィン)白金(II)。
I)、ジクロロビス(、)リエチルホスフィン)、パラ
ジウム(If)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィ
ン)白金(n)、ジクロロビス(メチルジフェニルホス
フィン)白金(It)、ジクロロビス(′)メチルフェ
ニルホスフィン)白金(II)。
ジクロロビス(トリメチルホスフィン)白金(II)。
ジクロロビス(トリエチルホスフィン)白金(II)。
ジブロムトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム
(n)、ジブロムトリス(メチルジフェニスホスフィン
)ルテニウム(■)、ジブロムトリス(ジメチルフェニ
ルホスフィン)ルテニウム(TI)。
(n)、ジブロムトリス(メチルジフェニスホスフィン
)ルテニウム(■)、ジブロムトリス(ジメチルフェニ
ルホスフィン)ルテニウム(TI)。
ジブロムトリス(トリメチルホスフィン)ルテニウム(
TI)、ジブロムトリス(トリエチルホスフィン)ルテ
ニウム(It)、ショートトリス(トリフェニルホスフ
ィン)ルテニウム(11)、ショートトリス(メチルジ
フェニスホスフィン)ルテニウム(■)、ショートトリ
ス(ジメチルフェニルホスフィン)ルテニウム(TI)
、 ショートトリス(トリメチルホスフィン)ルテニ
ウム(II)、ショートトリス(トリエチルホスフィン
)ルテニウム(TI)、7’ロムトリス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウム(T)、ブロムトリス(メチルジ
フェニスホスフィン)ロジウム(1)、ブロムトリス(
ジメチルフェニルホスフィン)ロジウム(I)。
TI)、ジブロムトリス(トリエチルホスフィン)ルテ
ニウム(It)、ショートトリス(トリフェニルホスフ
ィン)ルテニウム(11)、ショートトリス(メチルジ
フェニスホスフィン)ルテニウム(■)、ショートトリ
ス(ジメチルフェニルホスフィン)ルテニウム(TI)
、 ショートトリス(トリメチルホスフィン)ルテニ
ウム(II)、ショートトリス(トリエチルホスフィン
)ルテニウム(TI)、7’ロムトリス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウム(T)、ブロムトリス(メチルジ
フェニスホスフィン)ロジウム(1)、ブロムトリス(
ジメチルフェニルホスフィン)ロジウム(I)。
ブロムトリス(トリメチルホスフィン)ロジウム(I)
、ブロムトリス(トリエチルホスフィン)ロジウム(1
)、)リプロムトリス() IJフェニルホスフィン)
イリジウム(III)、’)リプロムトリス(メチルジ
フェニスホスフィン)イリジウム(I[r)、 )リ
ブロムトリス(ジメチルフェニルホスフィン)イリジウ
ム(III)、 )リブロムトリス(トリメチルホス
フィン)イリジウム([r)、 トリブロムトリス(
トリエチルホスフィン)イリジウム(II)、 )シ
ョートトリス(トリフェニルホスフィン)イリジウム(
III)、)ショートトリス(メチルジフェニスホスフ
ィン)イリジウム(m)。
、ブロムトリス(トリエチルホスフィン)ロジウム(1
)、)リプロムトリス() IJフェニルホスフィン)
イリジウム(III)、’)リプロムトリス(メチルジ
フェニスホスフィン)イリジウム(I[r)、 )リ
ブロムトリス(ジメチルフェニルホスフィン)イリジウ
ム(III)、 )リブロムトリス(トリメチルホス
フィン)イリジウム([r)、 トリブロムトリス(
トリエチルホスフィン)イリジウム(II)、 )シ
ョートトリス(トリフェニルホスフィン)イリジウム(
III)、)ショートトリス(メチルジフェニスホスフ
ィン)イリジウム(m)。
トリヨードトリス(ジメチルフェニルホスフィン)イリ
ジウム(I[l)、)ショートトリス(トリメチルホス
フィン)イリジウム(III)、)ショートトリス(ト
リエチルホスフィン)イリジウム(III)。
ジウム(I[l)、)ショートトリス(トリメチルホス
フィン)イリジウム(III)、)ショートトリス(ト
リエチルホスフィン)イリジウム(III)。
ジブロムビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(
It)、ジブロムビス(メチルジフェニルホスフィン)
パラジウム(If)、ジブロムビス(ジメチルフェニル
ホスフィン)パラジウム(If)。
It)、ジブロムビス(メチルジフェニルホスフィン)
パラジウム(If)、ジブロムビス(ジメチルフェニル
ホスフィン)パラジウム(If)。
ジブロムビス(トリメチルホスフィン)パラジウム(I
t)、ジブロムビス(トリエチルホスフィ/)パラジウ
ム(TI)、ショートビス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(If)、ショートビス(メチルジフェニス
ホスフィン)パラジウム(II)。
t)、ジブロムビス(トリエチルホスフィ/)パラジウ
ム(TI)、ショートビス(トリフェニルホスフィン)
パラジウム(If)、ショートビス(メチルジフェニス
ホスフィン)パラジウム(II)。
ショートビス(ジメチルフェニルホスフィン)パラジウ
ム(IT)、ショートビス(トリメチルホスフィン)パ
ラジウム(II)、ショートビス(トリエチルホスフィ
ン)パラジウム(II)、ジブロムビス(トリフェニル
ホスフィン)白金(II )、ジブロムビス(メチルジ
フェニスホスフィン)白金(n)、ジブロムビス(ジメ
チルフェニルホスフィン)白金(n)、ジブロムビス(
トリメチルホスフィン)白金(II )、ジブロムビス
(トリエチルホスフィン)白金(II)、ショートビス
(トリフェニルホスフィン)白金(■)、/ヨードビス
(メチルジフェニスボスフィン)白金(l L ショー
トビス()メチルフェニルホスフィン)白金(Ilt)
、 ショートビス(トリメチルホスツイン)白金(I
L ショートビス()・リエチルホスフィン)白金(
1)などを挙げることができる。これら錯体触媒は2例
えば白金族金属のハロゲン化物トドリアルキルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、アルギルフェニルポスフ
ィンなどのホスフィン化合物とを別々に反応系に加えて
反応系内で形成させてもさしつかえない。
ム(IT)、ショートビス(トリメチルホスフィン)パ
ラジウム(II)、ショートビス(トリエチルホスフィ
ン)パラジウム(II)、ジブロムビス(トリフェニル
ホスフィン)白金(II )、ジブロムビス(メチルジ
フェニスホスフィン)白金(n)、ジブロムビス(ジメ
チルフェニルホスフィン)白金(n)、ジブロムビス(
トリメチルホスフィン)白金(II )、ジブロムビス
(トリエチルホスフィン)白金(II)、ショートビス
(トリフェニルホスフィン)白金(■)、/ヨードビス
(メチルジフェニスボスフィン)白金(l L ショー
トビス()メチルフェニルホスフィン)白金(Ilt)
、 ショートビス(トリメチルホスツイン)白金(I
L ショートビス()・リエチルホスフィン)白金(
1)などを挙げることができる。これら錯体触媒は2例
えば白金族金属のハロゲン化物トドリアルキルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、アルギルフェニルポスフ
ィンなどのホスフィン化合物とを別々に反応系に加えて
反応系内で形成させてもさしつかえない。
白金族金属の錯体触媒のなかでも特にルテニウムの錯体
触媒が最も高い4−オキソ−4,5,6,7−テトラ、
ヒドロインドール収率を示すのでQイ適である。
触媒が最も高い4−オキソ−4,5,6,7−テトラ、
ヒドロインドール収率を示すのでQイ適である。
白金族金属の錯体触媒の使用量は2通常1,3−シクロ
ヘキサンジオン1モルに対して、金属換算で0゜001
〜1グラム原子、好ましくは0.01〜0.25グラム
原−子である。
ヘキサンジオン1モルに対して、金属換算で0゜001
〜1グラム原子、好ましくは0.01〜0.25グラム
原−子である。
環化反応を行なう際に使用される溶媒としては(11)
反応に不活性なものであれはいずれでもよいが。
m 体触媒およびN−3−オキソ−シクロへキシリデン
エタノールアミンを溶解させることができるものが円滑
に反応を進行させることができるので好捷し、5い。好
捷しい溶媒としては、前記氏(1)で表わされるジアル
コキシアルカン類が挙げられる。
エタノールアミンを溶解させることができるものが円滑
に反応を進行させることができるので好捷し、5い。好
捷しい溶媒としては、前記氏(1)で表わされるジアル
コキシアルカン類が挙げられる。
本発明において環化反応には、いずれの方法で製造され
だN−3−オキソーシクロへキシリデンエタノールアミ
ンを使用してもよいが、このイζ合物は前記したように
工業的に入手の容易f(1,3−シクロヘキサンジオン
とエタノールアミンとから簡単に定量的に得られるので
、この反応液をその11使用するのが工業的に有利であ
る。環化反応を行なう際の反応温度は100〜250°
62反応時間は1〜6時間が適当であり2反応は単に加
熱するだけでもよいが、一般には還流加熱で行なうのが
適当である。
だN−3−オキソーシクロへキシリデンエタノールアミ
ンを使用してもよいが、このイζ合物は前記したように
工業的に入手の容易f(1,3−シクロヘキサンジオン
とエタノールアミンとから簡単に定量的に得られるので
、この反応液をその11使用するのが工業的に有利であ
る。環化反応を行なう際の反応温度は100〜250°
62反応時間は1〜6時間が適当であり2反応は単に加
熱するだけでもよいが、一般には還流加熱で行なうのが
適当である。
生成した4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロイ
ンドールの回収は2例えば反応液をシリカゲル寸たはセ
ライトカラムなどに通して触媒を分離I〜(12) た後、溶媒を留去したり、水で抽出し/こりすることに
より容易に行なうことができ、得られた粗4−オキソー
4.5,6.7−チトラヒドロインドールは。
ンドールの回収は2例えば反応液をシリカゲル寸たはセ
ライトカラムなどに通して触媒を分離I〜(12) た後、溶媒を留去したり、水で抽出し/こりすることに
より容易に行なうことができ、得られた粗4−オキソー
4.5,6.7−チトラヒドロインドールは。
通常の精製方法2例えば再結晶などの処理によって精製
することができる。
することができる。
実施例1
ジエチレングリコールジメチルエーテル50m1に、1
,3−シクロヘキサンジオン5.67およびエタノール
アミン5.12を加えて約20′Cで30分間攪拌下に
反応させてN−3−オギソーシクロへキシリデンエタノ
ールアミンを生成させ2反応液にシバクロロトリス(l
・リフェニルホスフィン)ルテニウム(I’l )2.
8 fを添加し、攪拌下にろ時間還流加熱して環化反応
を行なった。反応後2反応生成物をガスクロマトグラフ
ィで分析した結果。
,3−シクロヘキサンジオン5.67およびエタノール
アミン5.12を加えて約20′Cで30分間攪拌下に
反応させてN−3−オギソーシクロへキシリデンエタノ
ールアミンを生成させ2反応液にシバクロロトリス(l
・リフェニルホスフィン)ルテニウム(I’l )2.
8 fを添加し、攪拌下にろ時間還流加熱して環化反応
を行なった。反応後2反応生成物をガスクロマトグラフ
ィで分析した結果。
4−オキソ−4,5,6,7−チトラヒドロインドール
が5.0g生成していた(収率75モル%)。
が5.0g生成していた(収率75モル%)。
実施例2〜1ろ
実施例1のジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)
ルテニウム(ff)のかわりに、第1表に記載の量の錯
体触媒を使用1〜だほかは、実施例1をくりかえした。
ルテニウム(ff)のかわりに、第1表に記載の量の錯
体触媒を使用1〜だほかは、実施例1をくりかえした。
その結果、4−オギソー4. 、5 、6 、7−テト
ラヒドロインドールの収率は第1表のとおりであった。
ラヒドロインドールの収率は第1表のとおりであった。
(15)
実施例14
ジクロロトリ(トリフェニルホスフィン)ルテニウム(
II)のかわりに、塩化ルテニウム(RuC!t2 )
o、31:)IJフェニルホスフィン2.31と全添加
したほかは、実施例1をくりかえした。
II)のかわりに、塩化ルテニウム(RuC!t2 )
o、31:)IJフェニルホスフィン2.31と全添加
したほかは、実施例1をくりかえした。
その結果、4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロ
インドールの生成量は4.1y(収率62モル係)であ
った。
インドールの生成量は4.1y(収率62モル係)であ
った。
特許出願人 宇部興産株式会社
Claims (1)
- N−3−オキシ−シクロへキシリデンエタノールアミン
を白金族金属の錯体触媒の存在下に溶媒中で環化反応さ
せることを特徴とする4−オキシ−4,5,6,7−ケ
トンヒドロインドールの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58018214A JPS59144758A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58018214A JPS59144758A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59144758A true JPS59144758A (ja) | 1984-08-18 |
Family
ID=11965392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58018214A Pending JPS59144758A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59144758A (ja) |
-
1983
- 1983-02-08 JP JP58018214A patent/JPS59144758A/ja active Pending
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