JPS59141587A - 有機ゲルマニウムプロピオン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は四塩化ゲルマニウムから有ｍｒルマニウム　プ
ロピオン酸誘導体を製造する方法に関するものである。

ケイ・アサイ、その他は、ゲルマニウム　クロロホルム
（ＨＧｅ（Ｊ３　）がアクリロニトリル又はアクリル酸
と反応して、下記の顕著な薬理学的効果、ｔａ＋　　エ
ーリッヒ腹水シュヨウ（Ｆｉｈｒｉｃｈ　ａｓｃｉｔｅ
ｓｔｕｍｏｕｒ　）の生長抑制（米国特許第３，６８９
，５１６号明細書、ケイ・アサイ、１９７２年９月５日
λｔｂ＋　　ラット腹水肝ガフ　（ａｓｃｉｔｅｓ　ｈ
ｅｐａｔｏｍａ　）ＡＨ４４及びＡＨ６６、並びにＡＣ
エラットＢＣ４７シユヨウ（ｔｕｍｏｕｒ　）に及ぼす
治療及び寿命延長効果、 Ｉｃｌ　　高血圧（ｈｙｐｅｒｔｅｎｓｉｏｎ　）治療
（米国特許ｍ　３，７９３，４５５号明細書、ケイ・ア
サイ、その他、１９７４年２月１９日）、 （ａ＋　　Ｕデンプン症発病（ａｍｙｌｏｉｃｌｏｓｉ
ｓｏｃｃｕｒｒｅｎｃｅ　）の抑制、 （ｅｌ　　ビールス病源細胞及び原生動物に基因する感
染の治療、 （ｆ＋　　植物の生長速度促進、 （ｇｌ　　臨床検査のときの種々疾患の治療、があるこ
とが立証された製品である、三二酸化ビス−β−カルボ
キン　エチル　ゲルマニラムラ生成することができるこ
とを見い出した。

先行技術では、三二酸化ケ゛ルマニウムのプロピオン誘
導体は下記の体系（米国特許第３，６８９，５１６号明
細書及び第６，７９３，４５５号明細書、日本特許４６
−２４９８号明細書、二ホンガイシ株式会社、１９７４
年１月２１日）、 これらのすべての方法では、ＨＧｅＣ１３をゲルマニウ
ムの原料物質として使用しておυ、これは通常下記、 （ａｌ　　Ｇｅｓ　＋　ＨＣＪｌ、　　−〉ＨＧｅＣＪ
３（ｂｌ　　Ｇｅ（ＯＨ）２＋Ｈ’Ｊ−〉ＨＧｅＣｆ３
［０）　　ＧｅＣＪ２　＋　ＨＣＪ−−〉ＨＧｅ（Ｊ３
のようにして生成させる。

上記の方法で使用するゲルマニウム化合物は本来不安定
であシ、従って取シ扱いが困難である。

結果−とじて、ＨＧｅＣＪ！３は使用するためにたやす
く入手することができない。

ラング・ソオ・パハク（Ｕｎｇ　Ｓｏｏ　Ｐａｈｋ　）
は二酸化ゲルマニウムからの三二酸化ビス−β−カルボ
キン　エチル　ゲルマニウムの製造を示唆した（米国特
許第３，８１２，１６７号明細書、１９７４年５月２１
日）。この方法では ＧｅＯ２＋　Ｈ（Ｊ　　□→　ＧｅＣＪ−４Ｇ　ｅ　Ｃ
１４＋　　Ｎ　ａ　Ｈ２Ｐ　Ｏ４−一一一→　ＨＧｅＣ
Ｊ３ＨＧｅＣ２３＋　ＮＨ４０Ｈ−ｍ−−→　Ｇ　ｅ　
（ＯＨ）　２↓Ｇｏ（ＯＨ）ｚ　＋Ｈ（Ｊ　、　　　　
　　ＨＧｅＣ１３ＨＧｅ（Ｊ３　＋　０Ｈ２＝ＯＨＯＮ
−〉ＣＪｓＧｅＣ！Ｈ３ＯＨ２ＯＮを包含している。

しかしながら、上記の反応では、−塩基性リン酸ナトリ
ウムには二酸化ゲルマニウムを還元する可能性がないた
めに、該化合物を生成させることはできないことが認め
られている。

それ故、一般に、且つ容易に入手することのできる原料
物質を有効に使用することによって、上記の方法の欠点
を克服することが本発明の目的である。本発明の方法で
は、四塩化ゲルマニウム、を塩酸、又は低級アルコール
あるいは低級アルコール性塩酸の存在の下で、次亜リン
酸又はこれの塩によって還元する。次に、これをそのま
までアクリル　タイプの誘導体と反応させ、続いて加水
分解させて、有機ゲルマニウム　ゾロピオン酸誘導体を
生成させる。

本発明の方法の第一工程では、低級アルコール又は塩酸
溶液中の四塩化ゲルマニウムは次亜リン酸で容易に還元
されて、亜すン酸ｒルマニウム及び塩化ゲルマニウムの
混合物になる。本発明では、水溶液及び（又は）水と混
和性の低級アルコール溶液になっている第一ゲルマニウ
ム化合物及び塩酸を使用する。このようにして生成させ
た反応体はアクリル系誘導体と反応する傾向があって、
有機デルマノ塩化物と有機ｒルマノ亜リン酸塩との混合
物を生成する。反応混合物を下記、（式中、Ｙはｃｏｏ
３　（！ＯＯＲＣＲは低級アルキルである〕、０ＯＮＨ
又はＯＮを表わし、且つ ＲＩＡびＲ２は互に無関係で、水素又は低級アルキルを
表わす、） のようにして、そのままで加水分解させて、三二酸化有
機ゲルマニウム誘導体を生成することができる。

従って、本発明では下記の式（２） （式中、Ｒ１及びＲ２は互に関係なく、水素又は低級ア
ルキルである） なる三二酸化有機ゲルマニウム誘導体を製造するために
、工程 （１）　　四塩化ゲルマニウムを次亜リン酸（それ自体
として添加し、あるいはこれの塩から、塩酸及び（又は
）低級アルコールの作用で、その場所で発生させて） と反応させることによって四塩化ｒルマニウムを還元し
、 （１１）　　その後、反応混合物に、下記の式（１）〔
式中、Ｒ１及びＲ２は上記の定義の通シであり、且つ Ｙは０ＯＯＨ、０ＯＯＲ（Ｒは低級アルキルである）、
０ＯＮＨ２又はＯＮである〕なるアクリル酸誘導体を添
加し、且つ 冊　工程（１１）の生成物を加水分解させて、式（２）
の該化合物を生成させる、 ことを包含する製造方法を目的とするものである。

工程（１）で使用する低級アルコールは通常０１〜Ｃ３
アルコールである。この工程は高温で、例えば還流温度
で行うのが適切である。工程（１１）及び１ｉｉｌには
特別な温度の必要条件はなく、環境温度で十分である。

しかしながら、所望によっては、これよシも高い温度又
は低い温度を使用してもよい。

Ｒ１及びＲ２としての他の有効な基ではフェニル、フル
フリル、チオフェニル、ぎリジル及びこれらの誘導体を
包含する。

下記の実施例は、本発明の実施を更に詳細に説明するの
に役立つであろう。実施例１から実施例７まででは、Ｈ
ＣＪ媒質に溶解した次亜リン酸ナトリウムを使用して、
四塩化ゲルマニウムを還元する。実施例８から実施例１
４まででは、四塩化ゲルマニウムを次亜リン酸水溶液中
で還元する。実施例１５から実施例１９まででは、還元
工程用にメタノールに溶解した次亜リン酸ナトリウムを
使用する。実施例２０から実施例２６まででは、メタノ
ールに溶解した水性次亜リン酸で還元を行う。

実施例２４では、エタノールに溶解した次亜リン酸を使
用し、実施例２５では、次亜リン酸及び酸性エタノール
を使用し、実施例２６では、次亜リン酸ナトリウムをエ
タノールと一緒に使用し、実施例２７では、次亜リン酸
ナトリウム及び酸性エタノールを使用する。水性次亜リ
ン酸そのものを使用する場合、次にＨ（Ｊ及び（又は）
アルコールを添加するのが、場合によっては好ましい。

塩酸〔及び（又は）エタノール〕を使用し、次亜リン酸
塩で、その場で次亜リン酸を発生させることができる。

どんな場合でも、次亜リン酸そのものを使用する場合で
も、塩酸は反応を速進し、且つ収率を高めるので、塩酸
が存在するのは好ましい。

実施例１ ｔａｌ　　次亜リン酸ナトリウムによるＧｅ（Ｊ４の還
元、Ｇｅ（Ｊ、４２０　ｇを濃Ｈ（Ｊｌｏｏｍに次亜リ
ン酸ナトリウム６０ｙを溶解した溶液に添加する。１時
間還流加熱してから冷却して室温にする。還元混合物は
後刻の使用のために保存しておく。

（ｂ＋　　アクリル酸からの三二酸化ビス−β−カルボ
キシ　エチル　デルマニウムノ製造、 アクリル酸６．５ｇを室温で、工程（ａｌで生成したＧ
ｅ（Ｊ４還元混合物に添加する。かき混ぜながら４時間
反応させた後に、分離した固形物を濾過して収集する。

固形物を水７０ｍ１に溶解し、且つ室温で１時間かき混
ぜて、加水分解させる。結晶を濾過して収集し、且つ水
及びアセトンで順次洗浄する。オープン（８０°Ｃ〜１
００℃）の中で乾燥して、表題の化合物８ｇ（収率５０
％）を得る。

生成物の赤外線スペクトルでは０ＯＯＨの特徴である３
３００ｃｒｎ−１〜２８００　ｃｍ−１，１６９０ｃｍ
−”、１４１０ｃｍ−”、１２４０　ｃｍ−’、及び三
二酸化ｒルマニウムの特徴である９００ｃｍ−”と８［
１０ｃｍ−１とに吸収を示している。スペクトルはアサ
イの著書［有機ｒルマニウムー神の賜物の医薬（Ｏｒｇ
ａｎｉｃ（）ｅｒｍａｎｉｕｍ　−Ａ　Ｍｅｄｉｃａｌ
　Ｇｏｄｓｅｎｄ　）　Ｊ　（日本語板）に記載の赤外
線スペクトルと全く同じであり、且つ又アサイ診療所（
Ａｓａｉ　Ｃ１１ｎｉｃ　）から購入することのできる
市販の試料とも符合する。

該磁気共鳴スペクトル（Ｄ２０　、Ｎａ０Ｄ　）では１
゜６卿及び２．５咽で同じプロトン数の三重線極大を示
す。

Ｇｅの元素分析−理論値　４２．６チ、実測値　４１．
８　％。

実施例２ メタクリル酸からの三二酸化ビス−β−カルホキシーβ
−メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 メタクリル酸８ｇを室温で、実施例１の工程（ａ）で生
成したＧ　ｅＣ，Ｉ−４還元混合物に添加する。かき混
ぜながら４時間反応させた後に、分離した固形物を濾過
して収集する。固形物を実施例１の工程（ｂｌのときの
ように加水分解させて、表題の化合物１０ｇ（収率５８
％）を得る。

赤外線スペクトルでは、３４５０Ｃ−ｍ”。

６６００ｃｍ−１〜２８ｏｏＣｍ−１，１７００ｍ−１
，１４１−Ｏｃ１ｎ二１．１２４０ｃｍ−１にＣ０ＯＨ
の特徴である吸収を、又８８０ｃｍ”及び８００　ｃｍ
−”に三二酸化ゲルマニウムの特徴である吸収を示して
いる。

核磁気共鳴スペクトル（Ｄ２０　、　Ｎａ０Ｄ　）　テ
は１．２卿（ｄ、３Ｈ）、１．６ｐｐｍ（ｑ、２Ｈ）及
び２．８ｐｐｉｌｌ（ｍ、ＩＨ，）に極大を示す。

実施例６ メタクリル酸メチルからの三二酸化ビス−β−カルボキ
シ−β−メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 メタクリル酸メチル９．６ｙを室温で、実施例１の工程
（ａｌで生成したＧｅＣＪ４還元混合物に添加する。

か゛き混ぜながら４時間反応させてから、油状生成物を
ベンゼンで抽出する。ベンゼンを蒸発させて除去した後
に、残留物を水７０ｙｍに溶解し、且つ室温で１時間か
き混ぜて、加水分解させる。結晶を濾過して収集し、且
つ水及びアセトンで順次洗浄する。オーブン（８０℃〜
１００°Ｃ）で乾燥して、表題の化合物５．５　Ｎ　Ｃ
収率６２チ）を得る。

赤外線スペクトルは実施例２の生成物と全く同じである
。

実施例４ アクリル酸メチルからの三二酸化ビス−β−カルボキシ
　エチル　ゲルマニウムの製造、アクリル酸メチル８Ｉ
を室温で、実施例１の工程（ａ）で生成したＧｅ（Ｊ４
４還混合物に添加する。かき混ぜながら４時間反応させ
ておいてから、油状生成物をベンゼンで抽出する。ベン
ゼンを蒸発、させて除去してから、残留物を実、施例６
のときのようにして、加水分解させる。濾過して固形物
の三二酸化ビス−β−カルボキシ　エチル　ヶゝルマニ
ウム７ｇ（収率４６チ）を収集する。赤外線スペクトル
は実施例１のｆｌ）］で製造したものと全く同じである
。

実施例５ クロトン酸からの三二酸化ビス−β−カルボキン−α−
メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 クロトン酸８ｇを室温で、実施例１の工程（ａｌで生成
したＧｅＣＪ４還元混合物に添加する。かき混ぜながら
４時間反応させてから、濾過して固形物を収集する。実
施例１の工程（ｂ）のときのように、固形物を水で加水
分解して、表題の化合物８．５Ｉ（収率５０％）を得る
。

赤外線スペクトルでは３３００　ｃＩｎ−’　〜２８０
０ｃｍ　”、１６９５ｃｍ−１，１４１０Ｃ１ｎ−１，
１２５０ｃｍ”に０００Ｈの特徴である吸収を、又９０
０ｃｍ”及び７９０　ｃｍ　”には三二酸化ゲルマニウ
ムの特徴テある吸収を示す。

実施例６ アクリロニトリルからの三二酸化ビス−β−カルボキシ
　エチル　ゲルマニウムの製造、アクリロニトリル４．
９Ｉを室温で、実施例１の工程（ａｌで生成したＧｅ（
Ｊ４４還混合物に添加する。

かき混ぜながら４時間反応させてから、油状生成物をベ
ンゼンで抽出する。ベンゼンを蒸発させて除去した後、
残留物に濃塩酸５０ｍを添加して１時間還流加熱し、更
に水１００ｍ１で希釈し、その後室温まで冷却させる。

生成した沈殿を収集し、水及びアセトンで順次洗浄し、
乾燥して表題の化合物１’（収率２５％）を得る。赤外
線スペクトルは実施例１の工程ｆｂｌで製造したものと
全く同じである。

実施例７ アクリルアミドからの三二酸化ビス−β−カルボキン　
エチル　ゲルマニウムノ製造、アクリルアミド５１を室
温で、実施例１の工程（ａ）で生成したＧｅ（Ｊ、４還
元混合物に添加する。かき混ぜながら４時間反応させる
。固形物を濾過して収集し、濃塩酸と共に還流加熱して
から、実施例乙のときのように水中で加水分解させて、
表題の化合物５．Ｆ（収率６０チ）を得る。赤外線スペ
クトルは実施例１の工程（ｂｌで生成したものと全く同
じである。

実施例８ ＋ａ＋　　次亜リン酸の５０チ水溶液でＧｅＣｌ４を還
元することによるＧｅＣＪ４還元溶液の製造、Ｇｅ（４
４２０Ｅｌを次亜リン酸の５０％水溶液３８ｇに添加す
る。反応混合物を１時間還流加熱し、且つ後刻使用する
ために室温まで冷却する。

（ｂ）　　アクリル酸からの三二酸化ビス−β−カルボ
キン　エチル　ゲルマニウムの製造、 アクリル酸６．５ｙを室温で、上記の工程ｔａ＋で生成
したＧｅ（Ｊ、還元混合物に添加する。かき混ぜながら
４時間反応させた後に、分離した固形物を濾過して収集
する。固形物を実施例１の工程ｔｂ）のときのように加
水分解させて、表題の化合物７１（収率４５％）を得る
。赤外線スペクトルは実施例１の工程（ｂｌで生成した
ものと全く同じである。

実施例？ メタクリル酸からの三二酸化ビス−β−カルボキシ−β
−メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 メタクリル酸８１を室温で、実施例８の工程ｆａ）で生
成したＧａＣｌ２還元混合物に添加する。かき混ぜなが
ら４時間反応させた後に、分離した固形物を濾過して収
集する。実施例１の工程（ｂｔのときのように、固形物
を水中で加水分解させて、表題の化合物８．５　ｆ！（
収率５０チ）を得る。赤外線スペクトルは実施例２で生
成したものと全く同じである。

実施例１０ メタクリル酸メチルからの三二酸化ビス−β−カルホキ
シーβ−メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 メタクリル酸メチル９．６ｇを室温で、実施例８の工程
（ａｌで生成したＧｅ（Ｊ４還元混合物に添加する。

かき混ぜながら４時間反応させた後に、油状生成物をベ
ンゼンで抽出する。ベンゼンを蒸発させて除去した後に
、残留物を実施例６のときのように水中で加水分解させ
て、表題の化合物４．２　Ｆ　（収率２５　％　）を得
る。赤外線スペクトルは実施例２で生成したものと全く
同じである。

実施例１１ アクリル酸メチルからの三二酸化ビス−β−カルボキシ
　エチル　ゲルマニウムの製造、室温でアクリル酸メチ
ル８ｇを、実施例８の工程（ａｌで生成したＧｅＣＪ４
還元混合物に添加する。かき混ぜながら４時間反応させ
た後に、油状の生成物をベンゼンで抽出する。ベンゼン
を蒸発させて除去し、且つ残留物を実施例６のときのよ
うに水中で加水分解させて、表題の化合物１０Ｆを得る
。

赤外線スペクトルは実施例１の工程［ｂｌで生成したも
のと全く同じである。

実施例１２ クロトン酸からの三二酸化ビス−β−カルボキシ−α−
メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 実施例８の工程ｔａ＋で生成したＧｅＣＪ−、還元混合
物に、室温でクロトン酸８ｇを添加する。かき混ぜなが
ら４時間反応させた後に、分離した固形物を濾過して収
集する。固形物を実施例１０工程（ｂ）のときのように
１水中で加水分解させて、赤外線スペクトルが実施例５
で生成したものと全く同じである表題の化合物５ｇ（収
率３０チ）を得る。

実施例１６ アクリロニトリルからの三二酸化ビス−β−カルボキン
　エチル　ゲルマニウムの製造、実施例８の工程ｆａｔ
で生成したＧｅＣｔ、還元混合物に室温で、アクリロニ
トリル４．９Ｉを添加する。

かき混ぜながら４時間反応させた後に、油状の生成物を
ベンゼンで抽出する。溶剤を濃縮させて除去し、且つ実
施例乙のときのように、残留物を濃塩酸で加水分解させ
、更に水で希釈して、赤外線スペクトルが実施例１の工
程ｆｂｌで生成したものと全く同一の表題の化合物５．
Ｆ（収率６１チ）を得る。

実施例１４ アクリルアミドからの三二酸化ビス−β−カルボキシ　
エチル　ゲルマニウムの製造、実施例８の工程ｔａ＋で
生成したＧｅ（Ｊ４還元混合物に室温でアクリルアミド
５，９を添加する。かき混ぜながら４時間反応させた後
に、分離した固形物を濾過して収集する。実施例６のと
きのように、固形物を濃塩酸と共に還流させて加水分解
させ、且つ更に水で希釈して、赤外線スペクトルが実施
例１の工程（ｂｌで生成したものと全く同じである、表
題の化合物６゜８．９（収率２４チ）を得る。

実施例１５ （ａｌ　　メーノール性ゲルマニウム溶液の製造、Ｇｅ
（４４９゜２ｇをメタノール７３ｍに溶解する。

この溶液に、次亜リン酸ナトリウム９ｙを含有するメタ
ノール１００ｍ１を添加する。かき混ぜながら１時間反
応させた後に、生成したＮａＣＪをテ別し、且つ後刻使
用するためにろ液を取っておく。

（ｂｌ　　アクリル酸からの三二酸化ビス−β−カルボ
キシ　エチル　ケゞルマニウムの製造、上記の工程ｔａ
＋で生成した還元ゲルマニウム　メタノール溶液に室温
でアクリル酸７ｇを添加する。

かき混ぜながら４時間反応させた後に、溶剤を濃縮して
除去する。この残留物に蒸留水１００１ｒＬｌ！及び濃
ＨＣＪ　１　ｍｌを添加して、更に４時間かき混ぜを続
ける。固形物を濾過して収集して、赤外線スペクトルが
実施例１の工程（ｂｌで生成したもＶ）と全く一致する
表題の化合物６ｇ（収率８２　％　７）を得る。

ルーエチル　ゲルマニウムの製造、 実施例１５の工程ｔａ＋で生成した還元ゲルマニウムの
メタノール溶液に、室温でメタクリル酸１００プを添加
する。かき混ぜながら４時間反応させた後に、溶剤を濃
縮して除去する。この残留物に蒸留水１００ｄを添加し
て、更に４時間かき混ぜを継続する。固形物を濾過して
収集し、赤外線ス琴りトルが実施例２で生成したものと
全く一致する表題の化合物３ｇ（収率６８％）を得る。

実施例１７ クロトン酸からの三二酸化ビス−β−カル、ホキシーα
−メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 実施例１５の工程ｔａ＋で生成した還元デルマニウムノ
メタノール溶液に室温でクロトン酸１０．！７を添加す
る。かき混ぜながら４時間反応させた後に、溶剤を濃縮
して除去する。この残留物に、蒸留水１００ｍ１を添加
して、更に４時間かき混ぜを継続する。固形物を濾過し
て収集し、赤外線スペクトルが実施例５で生成したもの
と全く同一の表題の化合物４．５．９　（収率６２％）
を生じる。

実施例１８ アクリロニトリルからの三二酸化ビス−β−カルボキン
　エチル　ゲルマニウムの製造、実施例１５の工程ｆａ
ｌで生成した還元ゲルマニウムのメタノール溶液に、室
温でアクリロニトリル５Ｉを添加する。かき混ぜながら
４時間反応させた後に、濃縮して溶剤１を除去する。こ
の残留物に蒸留水１００ゴを添加し、更に４時間かき混
ぜを継続する。固形物を濾過によって収集し、実施例１
の工程ｆｂｌで生成したものと赤外線スペクトルが全く
同一の表題の化合物５．Ｆ（収率６９％）を得る。

実施例１９ アクリルアミドからの三二酸化ビス−β−カルボキシ　
エチル　ｒルマニウムノ製造、実施例１５の工程（ａ）
で生成した還元ゲルマニウムのメタノール溶液に室温で
アクリルアミド７．４ｙを添加する。かき混ぜながら４
時間反応させた後に、濃縮して溶剤を除去する。この残
留物に蒸留水１００プを添加し、かき混ぜを更に４時間
継続する。固形物を濾過して収集し、実施例１の工程ｔ
ｂ＋で生成したものと赤外線スペクトルが全く同一であ
る、表題の化合物１９’（収率６０．５％）を得る。

実施例２０ ＋ａ＋　　メタノール性還元ゲルマニウム水溶液の製造
、　　　。

メタノール７０プにＧｅｃｚ４９．２　ｇを溶解する。

５０％次亜リン酸５７ｎｌ！を含有するメタノール１０
０ｍ１を、この溶液に添加する。２時間かき混ぜた後に
は、混合物はその後の用途に直ちに応じられ、る。

（ｂｌ　　アクリル酸からの三二酸化ビス−β゛−カル
ボキシエチル　ゲルマニウムの製造、 上記の工程ｔａ）で生成したメタノール性還元ゲルマニ
ウム水溶液に室温でアクリル酸６．２ｇを添加する。か
き混ぜながら４時間反応させた後に、濃縮して溶剤を除
去する。この残留物に蒸留水１００ｍ／を添加し、更に
４時間かき混ぜを継続する。生成した結晶を濾過して、
実施例１の工程ｔｂ＋の生成物と全く同一の赤外線スペ
クトルを示す表題の化合物３．！ｉ！（収率４２％）を
得る。

実施例２１、 メタクリル酸からの三二酸化ビス−β−カルボキシ−β
−メチル　エチル　ゲルマニウムの製造 実施例２０の工程（ａ）で生成したメタノール性還元ゲ
ルマニウム水溶液に室温で、メタクリル酸１０ｍ１を添
加する。かき混ぜながら４時間反応させた後に、濃縮し
て溶剤を除去する。この残留物に蒸留水１００Ｔｎｌを
添加し、更に４時間かき混ぜを継続する。生成した結晶
を濾過して、赤外線スペクトルが実施例２の生成物と全
く同一である表題の化合物４ｇ（収率５０％）を得る。

実施例２２ クロトン酸からの三二酸化ビス−β−カルボキシ−α−
メチル　エチル　ゲルマニウムの製造、 実施例２０の工程ｔａｌで生成したメタノール性還元ゲ
ルマニウム水溶液に室温でクロトン酸１０ｇを添加する
。かき混ぜながら４時間反応させた後に、溶剤を蒸発さ
せる。この残留物に蒸留水１００ｍ１を添加して、更に
４時間かき混ぜを継続する。

結晶生成物を濾過して、赤外線スペクトルが実施例５の
ものと全く同一である表題の化合物３．！９（収率６８
チ）を得る。

実施例２６ アクリルアミドからの三二酸化ビス−β−カルボキシ　
エチル　ゲルマニウムの製造、実施例２０の工程（ａ）
で生成したメタノール性還元ゲルマニウム水溶液に室温
でアクリルアミド７．４ｇを添加する。かき混ぜながら
４時間反応させた後に溶剤を蒸発させる。この残留物に
蒸留水１００７ｆＬｌを添加し、更に２時間かき混ぜを
継続する。生成した混合物をエーテル１００１ｎＩ！で
６回抽出し、それからエーテルを蒸発させて除去する。

この残留物に再び蒸留水１００ｍ１を添加して、更に４
時間かき混ぜを継続する。結晶生成物を炉別して、赤外
線スペクトルが実施例１の工程（ｂｌのものと全く同一
である表題の化合物５ｇ（収率６９チ）を得る。

実施例２４ エタノール性四塩化ケゝルマニウムを次亜リン酸で還元
し、更にアクリル酸と反応させる。

次亜リン酸１．２５ｍＪ　（１，５９）をエタノール２
５ｍ１！に溶解し、次に四塩化ゲルマニウム２．６ｇを
添加する。２時間かき混ぜた後にアクリル酸１．５４ｇ
を添加する。生じた混合物をかき混ぜながら、湯浴（７
０°Ｃ）中で２時間加熱する。蒸発でエタノールを除去
した後に、蒸留水１０ｍ１を添加し、且つ更に４時間室
温でかき混ぜを継続する。

結晶性生成物を戸別して、赤外線吸収が実施例１の工程
ｔｂｌのときと同一結果を示す三二酸化ビス−β−カル
ボキシ　エチル　ゲルマニウム０．３９（収率１６％）
を得る。

実施例２５ 酸性エタノール中の四塩化ゲルマニウムを次亜塩素酸で
還元し、更にアクリル酸と反応させる、 濃Ｈ（４２ｍｌを含有するエタノール２５ｍに５０チの
次亜リン酸１．２５ｍＪ（Ｌ５　ｇ）を溶解し、次にエ
チル　アルコール１０ｍ１に四塩化ゲルマニウム２．３
９　、！９を溶解した溶液を添加する。２時間かき混ぜ
た後に、アクリル酸１．５４　ｇを添加し、且つかき混
ぜを更に２時間継続する。エタノールを蒸発で除去した
後、この残留物に蒸留水１０ｍ７を添加し、室温で４時
間かき混ぜる。結晶生成物を戸別して、実施例１の工程
（’ｂｌのときのような赤外線スペクトルの三二酸化ビ
ス−β−カルボキンエチル　ゲルマニウム０．８　、！
ｉ’　（収率４４チ）を得る。

実施例２６ エタノール性四塩化ゲルマニウムを次亜リン酸ナトリウ
ムで還元し、更にアクリル酸と反応させる、 エタノール２０　ｍｌ中に次亜リン酸ナトリウム２．６
Ｉを懸濁させる。エタノール１０ｍ１中にＧθｃｉ、　
２．３　ｊ９を含有する溶液を滴下する。２時間かき混
ぜてから、沈殿した生成物を戸別する。この涙液にアク
リル酸１．５４ｇを添加し、且つ更に４時間室温でかき
混ぜを継続する。エタノールを蒸発させた後、残留物に
蒸留水１０ｍ１を加えて、この残留物を加水分解させれ
ば、三二酸化ビス−β−カルボキシ　エチル　ゲルマニ
ウム０．５ｇ（収率２７．５％）を得る。赤外線吸収ス
ペクトルは実施例１の工程（ｂｌのときと同一である。

実施例２７ 酸性エタノール中の四塩化ゲルマニウムを次亜リン酸ナ
トリウムで還元し、更にアクリル酸と反応させる、 １Ｈｃｆ２ゴを含有するエタノール２０ｒｒＬＩ！の溶
液に次亜リン酸ナトリウム２．６ｇを添加する。混合物
を１／２時間かき混ぜ、且つ生成した沈殿を濾過して除
去する。四塩化ゲルマニウム２．６ｇを含有するエタノ
ール性溶液を添加して、２時間かき混ぜる。次にアクリ
ル酸１．５４９を添加し、且つ更に４時間かき混ぜを継
続する。エタノールを蒸発させ、且つ蒸留水１０ｍｆを
添加して、残留物を加水分解させる。結晶性生成物、三
二酸化ビス−β−カルざキシ　エチル　ゲルマニウム０
．４．Ｆ（収率２２％）を濾過して収集する。赤外線ス
ペクトルは実施例１の工程（ｂｌのときのものと同一で
ある。

代理人　浅　　村　　　皓 外４名

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　下記の式（２）、 ＲＩＲ２ （式中、Ｒ１及びＲ２は互に関係なく、水素又は低級ア
   ルキルである、） なる三二酸化有機ゲルマニウムの誘導体を製造するため
   の、工程、 （１）　　場合によっては塩酸、低級アルコール、又は
   これらの混合物の存在で、そのもの自体を添加するか、
   あるいは塩から、その場で生成させた次亜リン酸と接触
   させて四塩化ゲルマニウムを還元し、 叩　その後、反応混合物に下記の式（１）％式％（１） 〔式中、Ｒ１及びＲ２は上記の定義と同じでああシ、且
   つ Ｙは０ＯＯＨＸＣ！ＯＯＲ（Ｒは低級アルキルである）
   、ＣＯＮＨ２又はＣＮ　である、〕 なるアクリル酸誘導体を添加し、且つ （：ｒ１＋　　工程（１１）の生成物を加水分解させて
   、式（２）の該化合物を生成させる、 の組み合わせから成るＶとを特徴とする製造方法。
2. （２）工程（１）で、四塩化ゲルマニウムを塩酸中で、
   次亜リン酸ナトリウムと接触させることを特徴とする、
   上記第（１）項に記載の方法。
3. （３）工程（１）で、四塩化ゲルマニウムを水性次亜リ
   ン酸そのものと接触させることを特徴とする、前記第（
   １）項に記載の方法。
4. （４）工程（１）で、四塩化ゲルマニウムをメタノール
   又はエタノール中で、次亜リン酸ナトリウムと接触させ
   ることを特徴とする、前記第（１）項に記載の方法。
5. （５）工程（１）で、四塩化ゲルマニウムをメタノール
   又はエタノール中で、水性次亜リン酸と接触させること
   を特徴とする、前記第（１）項に記載の方法。
6. （６）工程（１）で、四塩化ゲルマニウムを水性次亜リ
   ン酸、メタノール又はエタノール、及び塩酸と接触させ
   ることを特徴とする、前記第（１）項に記載の方法。
7. （７）工程（１）を還流温度で行うことを特徴とする、
   前記第（１）項に記載の方法。
8. （８）　　（１）がアクリル酸でるることを特徴とする
   、前記第（］）項に記載の方法。
9. （９）　　（１）がメタクリル酸であることを特徴とす
   る、前記第（１）項に記載の方法。 （Ｉｃｅ　　（１）がメタクリル酸メチルであることを
   特徴とする、前記第（１）項に記載の方法。 αυ　（１）がアクリル酸メチルであることを特徴とす
   る、前記第（１）項に記載の方法。 ｏ４（１）がクロトン酸であることを特徴とする、前記
   第（１）項に記載の方法。 α３（１）がアクリロニトリルであることを特徴とする
   、前記第（１）項に記載の方法。 ◇ユ（１）がアクリルアミドであることを特徴とする、
   前記第（１）項に記載の方法。 αυ　工程器を、水を存在させて行うことを特徴とする
   、前記第（１）項に記載の方法。 αＱ　工程＋ｍ＋を、水及び塩酸を存在させて行うこと
   を特徴とする、前記第（１）項に記載の方法。