JPS59139962A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPS59139962A JPS59139962A JP58211723A JP21172383A JPS59139962A JP S59139962 A JPS59139962 A JP S59139962A JP 58211723 A JP58211723 A JP 58211723A JP 21172383 A JP21172383 A JP 21172383A JP S59139962 A JPS59139962 A JP S59139962A
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- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
- B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
- B05C3/10—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles the articles being moved through the liquid or other fluent material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/045—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers by dipping
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、塗膜(コーティング)を構成する物質全溶解
しだ液浴中に物体を浸漬して旋釉セラミック(タイル)
、ガラス17cはエナメルの板状物体に接着性薄膜?適
用する装置に係る。
しだ液浴中に物体を浸漬して旋釉セラミック(タイル)
、ガラス17cはエナメルの板状物体に接着性薄膜?適
用する装置に係る。
従来技術
少なくとも1種類の数原子価を有する金属およびこの金
属の酸化物の薄膜ケ物体の表面に先ず塗布し。
属の酸化物の薄膜ケ物体の表面に先ず塗布し。
次いで加熱してこの塗膜に長持ちする(Iastlng
)ラスクー色を生じさせることによって旋釉セラミック
、ガラスまたはエナメルの物体に着色ラスター薄膜を適
用することが知られている(西独国特許第210884
9号)。金属/金属酸化物膜を形成するためには、物体
を例えば約500℃の温度に加熱した後、熱的に容易に
分解する金属化合物1例えば、鉄ペンタカルボニルのア
ルコール性溶液に浸漬する。液浴中の浸漬物体の周囲に
はライデンフロスト現象のだめに溶剤の分子と金属化合
物の分子の両方?含むガス雰囲気が形成する。金属化合
物の分子は加熱物体表面において熱分解しく一部反応体
とし−〔溶剤分子を含む)、表面に金属および金属酸化
物の混合物の変化する組成の均一な薄膜が形成する。膜
厚は光の波長のオーダーの大きさである。
)ラスクー色を生じさせることによって旋釉セラミック
、ガラスまたはエナメルの物体に着色ラスター薄膜を適
用することが知られている(西独国特許第210884
9号)。金属/金属酸化物膜を形成するためには、物体
を例えば約500℃の温度に加熱した後、熱的に容易に
分解する金属化合物1例えば、鉄ペンタカルボニルのア
ルコール性溶液に浸漬する。液浴中の浸漬物体の周囲に
はライデンフロスト現象のだめに溶剤の分子と金属化合
物の分子の両方?含むガス雰囲気が形成する。金属化合
物の分子は加熱物体表面において熱分解しく一部反応体
とし−〔溶剤分子を含む)、表面に金属および金属酸化
物の混合物の変化する組成の均一な薄膜が形成する。膜
厚は光の波長のオーダーの大きさである。
物体の浸漬および塗布を自動的に遂行することによって
上記のラスター膜形成方法ケ工業的規模で遂行すること
全可能にする装置を開発する努力がなされた。数多くの
困難が生じた。液浴から発生する燃焼性然気は制御され
なければならず、蒸気から生ずる凝縮液は塗布されるべ
き物体表面から分離しなければならず、また再生産可能
な物体を製作するために浸漬浴中の物体の滞留時間を精
確に制御しなければならない(というのは、ラスクー色
の色調[5hade)を特に決だする膜厚は塗布および
その結果として浸漬の期間に依存するからである)。
上記のラスター膜形成方法ケ工業的規模で遂行すること
全可能にする装置を開発する努力がなされた。数多くの
困難が生じた。液浴から発生する燃焼性然気は制御され
なければならず、蒸気から生ずる凝縮液は塗布されるべ
き物体表面から分離しなければならず、また再生産可能
な物体を製作するために浸漬浴中の物体の滞留時間を精
確に制御しなければならない(というのは、ラスクー色
の色調[5hade)を特に決だする膜厚は塗布および
その結果として浸漬の期間に依存するからである)。
発明の目的
本発明の目的は、浸漬時間ケ精確に調整可能で、安全か
つ精確に作動し、商業的に利用し得る、物体を液浴に浸
漬して板状物体に薄膜を適用する装置を提供することで
ある。特に、こうした装置は旋釉セラミック(タイル)
、ガラスまたはエナメルにラスター膜を形成するのに適
当であるべきである〇 発明の構成 上記目的は、本発明に依り、装置が次の特徴:a)浸漬
液ケ受ける加熱タンク b)タンクお工び液浴を周u1(がら遮蔽しかつ板状物
体用入口スリットおよび出口スリットに有するカバーフ
ード、 C) カバーフード内に配置し1c冷却手段、d)入口
スリットから出口スリットまで延在しタンフケ下向きに
湾曲して辿過するコンベヤ機構、e)タンク内の液位を
昇降せしめる浸漬部調整機構、 2有することにより達成される 実施例 添付図面を参照して述べる本発明の好ましい態様につい
ての以下の記載によって本発明は更に詳細に明らかにな
る。
つ精確に作動し、商業的に利用し得る、物体を液浴に浸
漬して板状物体に薄膜を適用する装置を提供することで
ある。特に、こうした装置は旋釉セラミック(タイル)
、ガラスまたはエナメルにラスター膜を形成するのに適
当であるべきである〇 発明の構成 上記目的は、本発明に依り、装置が次の特徴:a)浸漬
液ケ受ける加熱タンク b)タンクお工び液浴を周u1(がら遮蔽しかつ板状物
体用入口スリットおよび出口スリットに有するカバーフ
ード、 C) カバーフード内に配置し1c冷却手段、d)入口
スリットから出口スリットまで延在しタンフケ下向きに
湾曲して辿過するコンベヤ機構、e)タンク内の液位を
昇降せしめる浸漬部調整機構、 2有することにより達成される 実施例 添付図面を参照して述べる本発明の好ましい態様につい
ての以下の記載によって本発明は更に詳細に明らかにな
る。
金属製ケース紮有するタンクlは入口側および出口側に
傾斜面3.4i有するトラフ形窪み2を含む。この窪み
2内に浸漬液5があり、その高さまたは液位は小三角形
6で指示される。タンク1は加熱機構、例えば加熱棒7
で加熱可能であり、それによって浸漬液5は所定の温度
、例えばその沸点近くに保持しうる0ザーモ2タツト(
図示せず)で温度を一定に保つ。タンクlとその中に入
れられた液浴はカバーフード8ケその上に配置して周囲
から遮蔽し、液浴から発生する蒸気を拡散させない。図
示されているように、カバーフード8は装置の入口側E
お工び出口側Aにおいてタンク1ヶ越えて突き出ている
。入口側Eにコンベヤ機構があり、例えばコンベヤベル
トがそこに突き出ているフード8の近くまで延在してい
る。フート8とコンベヤ機構9の上側との間に狭い入ロ
スリッ)12が水平に延びて、これを通して物体、即ち
上側に旋釉されたタイル11が装置に導入され、液浴に
入る。装置の出口側Aにおいてカバーフード8が別のコ
ンベヤ機構13奮越えて延在し、このコンベヤ仕!構と
フード8の間に狭い出ロスリッ)14が水平に延び、こ
れ4通して液浴で薄膜が形成されたタイル11が装置か
ら出される。スリッ)12.14に可撓性の閉州部材を
設けて、クイル】1が出入シすると@はそれに従って曲
がり、タイルが存在しないときはスリットを実質的に閉
鎖することが可能である。
傾斜面3.4i有するトラフ形窪み2を含む。この窪み
2内に浸漬液5があり、その高さまたは液位は小三角形
6で指示される。タンク1は加熱機構、例えば加熱棒7
で加熱可能であり、それによって浸漬液5は所定の温度
、例えばその沸点近くに保持しうる0ザーモ2タツト(
図示せず)で温度を一定に保つ。タンクlとその中に入
れられた液浴はカバーフード8ケその上に配置して周囲
から遮蔽し、液浴から発生する蒸気を拡散させない。図
示されているように、カバーフード8は装置の入口側E
お工び出口側Aにおいてタンク1ヶ越えて突き出ている
。入口側Eにコンベヤ機構があり、例えばコンベヤベル
トがそこに突き出ているフード8の近くまで延在してい
る。フート8とコンベヤ機構9の上側との間に狭い入ロ
スリッ)12が水平に延びて、これを通して物体、即ち
上側に旋釉されたタイル11が装置に導入され、液浴に
入る。装置の出口側Aにおいてカバーフード8が別のコ
ンベヤ機構13奮越えて延在し、このコンベヤ仕!構と
フード8の間に狭い出ロスリッ)14が水平に延び、こ
れ4通して液浴で薄膜が形成されたタイル11が装置か
ら出される。スリッ)12.14に可撓性の閉州部材を
設けて、クイル】1が出入シすると@はそれに従って曲
がり、タイルが存在しないときはスリットを実質的に閉
鎖することが可能である。
カバーフードの内側に冷却)幾構15.例えば・液浴か
ら蒸発したガスを凝縮するチューブコイルが存在する。
ら蒸発したガスを凝縮するチューブコイルが存在する。
チューブコイルの形の冷却機構15に入口側Eにおいて
冷却水を供給すると、その中を通過するとき熱せられ、
そして出口側Aから出るO カバーフード8内の冷却機構15近くに第1図および第
2図に明らかな形状の凝縮液シールド16.17を配置
する。輪1図に示す縦断面に依ると、シールド16.1
7は、各々、脚18がカバーフード8の入口側ま7cは
出口側からそれぞれ胴め下向きに延びて傾斜面3.4の
上方に到り。
冷却水を供給すると、その中を通過するとき熱せられ、
そして出口側Aから出るO カバーフード8内の冷却機構15近くに第1図および第
2図に明らかな形状の凝縮液シールド16.17を配置
する。輪1図に示す縦断面に依ると、シールド16.1
7は、各々、脚18がカバーフード8の入口側ま7cは
出口側からそれぞれ胴め下向きに延びて傾斜面3.4の
上方に到り。
そこから鉛直下方に向かう脚19が続いてトラフ2の丁
度上端に到っている。シールド機4*16゜17は金属
板からなり、装置の実質的に全幅にわたって延在してい
る。¥2図に示す横断面に依ると、装置の入口側または
出口側からそれぞれ始まる脚18は屋根形の形状に曲が
っているので、冷却機構15から滴下する凝縮液は横方
向にそしてトラフ2の方向に流れることができるOタン
クの内側に入口側から出口側へコンベヤ機構21.例え
ばチェーンコンベヤあるいはロールコンベヤ(第2図の
底部参照)の形のものが延在し、横方向のパー?具備し
、タイル11を受けて移送する。液浴を含むトラフ2の
領域ではコンベヤ機構21は下向きに湾曲した経路を進
む。コンベヤm構21U全部で3つのコンベヤセクショ
ン22.23.24が連続して配置され、コンベヤセク
ション22は人ロスリツ)12から液面6までの距離を
実質的にカバーし、コンベヤセクション23は液を含む
トラン2の中を実質的に専ら延在シ、コンベヤセクショ
ン24が液面6と出口スリット141での領域ケ実質的
にカッ(−する。コンベヤセクション22,23.24
の個々の移送ベルトは駆動に関してお互いに結合し、共
通の駆コンベヤ機構の移送速度は特足の限界内で、例え
ばモーター25の連出な役割によって可変である。
度上端に到っている。シールド機4*16゜17は金属
板からなり、装置の実質的に全幅にわたって延在してい
る。¥2図に示す横断面に依ると、装置の入口側または
出口側からそれぞれ始まる脚18は屋根形の形状に曲が
っているので、冷却機構15から滴下する凝縮液は横方
向にそしてトラフ2の方向に流れることができるOタン
クの内側に入口側から出口側へコンベヤ機構21.例え
ばチェーンコンベヤあるいはロールコンベヤ(第2図の
底部参照)の形のものが延在し、横方向のパー?具備し
、タイル11を受けて移送する。液浴を含むトラフ2の
領域ではコンベヤ機構21は下向きに湾曲した経路を進
む。コンベヤm構21U全部で3つのコンベヤセクショ
ン22.23.24が連続して配置され、コンベヤセク
ション22は人ロスリツ)12から液面6までの距離を
実質的にカバーし、コンベヤセクション23は液を含む
トラン2の中を実質的に専ら延在シ、コンベヤセクショ
ン24が液面6と出口スリット141での領域ケ実質的
にカッ(−する。コンベヤセクション22,23.24
の個々の移送ベルトは駆動に関してお互いに結合し、共
通の駆コンベヤ機構の移送速度は特足の限界内で、例え
ばモーター25の連出な役割によって可変である。
シールド16はコンベヤセクション22を実質的に覆い
、凝m液がコンベヤセクションに置かれたタイルに滴下
するのを防止する0対応する仕方でシールド17はコン
ベヤセクション21!5゜諭1図に示すように、シール
ド16.17の脚18はずっと内側まで延びているので
、第1図で浴液から突き出ているコンベヤセクション2
3の端部荀も遮蔽する。浸漬浴で塗布されるべきタイル
11はコンベヤ機構9から連続的にコンベヤセクション
22,23そして24に、それからコンベヤ機構13へ
移送される。コンベヤセクション23において液浴への
浸漬が起きる。
、凝m液がコンベヤセクションに置かれたタイルに滴下
するのを防止する0対応する仕方でシールド17はコン
ベヤセクション21!5゜諭1図に示すように、シール
ド16.17の脚18はずっと内側まで延びているので
、第1図で浴液から突き出ているコンベヤセクション2
3の端部荀も遮蔽する。浸漬浴で塗布されるべきタイル
11はコンベヤ機構9から連続的にコンベヤセクション
22,23そして24に、それからコンベヤ機構13へ
移送される。コンベヤセクション23において液浴への
浸漬が起きる。
均一な塗膜ケ得るためにはタイルが浸漬浴を通過する特
足の最適速度があることが見い出された。
足の最適速度があることが見い出された。
しかしながら、知られているように、適用する膜厚を決
定する、タイルの浸漬浴中の滞留時間を調整可能にする
ために、本発明に依り、タンクlのの機構26を設ける
。これにエワて液浴における浸漬部の長さが調整される
ので、液体5中のタイルの滞留時間もそれに応じて調整
されることが可能になる。液位が低いと、コンベヤセク
ション23の経路Cノ湾曲のために浸漬部分が短かくな
る。
定する、タイルの浸漬浴中の滞留時間を調整可能にする
ために、本発明に依り、タンクlのの機構26を設ける
。これにエワて液浴における浸漬部の長さが調整される
ので、液体5中のタイルの滞留時間もそれに応じて調整
されることが可能になる。液位が低いと、コンベヤセク
ション23の経路Cノ湾曲のために浸漬部分が短かくな
る。
@構26はタンク1のすぐ下に浸漬液5を供給する容器
27を有する。容器27は加熱棒7に対応する加熱棒を
含むことができる0ライン28が容器27の底部からト
ラフ2の底部へ案内する〇ライン28はポンプ29お工
び遠隔制#升31に含む。トラフ2の液体5の高さ6が
下けられるべきならば、升31が開放して液体5はトラ
フ2から流れ出て容器27に戻ることができる。ライン
2Bは更に酸化鉄沈殿用のフィルタ32を含む。
27を有する。容器27は加熱棒7に対応する加熱棒を
含むことができる0ライン28が容器27の底部からト
ラフ2の底部へ案内する〇ライン28はポンプ29お工
び遠隔制#升31に含む。トラフ2の液体5の高さ6が
下けられるべきならば、升31が開放して液体5はトラ
フ2から流れ出て容器27に戻ることができる。ライン
2Bは更に酸化鉄沈殿用のフィルタ32を含む。
機構26ケ用いてタンク1における約2〜20秒間の滞
留時間が調整可能である。
留時間が調整可能である。
タイル11は荷足の最小限の速度で装置を通過して移送
されて、液浴の削および後のガス領域を迅速に通過しな
ければならないことが見い出され罠。移送速度f遅すぎ
ると、タイル上に残留蒸気告発。
されて、液浴の削および後のガス領域を迅速に通過しな
ければならないことが見い出され罠。移送速度f遅すぎ
ると、タイル上に残留蒸気告発。
が凝縮するのを避けることができず、その結果、不均一
なコーティングになる。一方、タイル】lは最大移送速
度を越えることはできず、そうでないと、液5に入ろう
とするタイル11が液に浮いてコンベヤ機構21から浮
き上−でしまうOコンベヤl’l構21i3つのコンベ
ヤセクション22.23.24に分割すると、コンベヤ
セクション22.24とコンベヤセクション23の間テ
熱お工び液体の交換をなくすことができる利点がある。
なコーティングになる。一方、タイル】lは最大移送速
度を越えることはできず、そうでないと、液5に入ろう
とするタイル11が液に浮いてコンベヤ機構21から浮
き上−でしまうOコンベヤl’l構21i3つのコンベ
ヤセクション22.23.24に分割すると、コンベヤ
セクション22.24とコンベヤセクション23の間テ
熱お工び液体の交換をなくすことができる利点がある。
従って、コンベヤセクション22,21j常に冥質的に
乾燥しπままであり、コンベヤセクション23における
熱損失は最小限に保プこれる。
乾燥しπままであり、コンベヤセクション23における
熱損失は最小限に保プこれる。
この分割は液体が入口スリット12おLO:出口スリッ
ト14にそれぞれ運ばれることを有効に防止する0 タンクlの浸漬浴に例えばフロートの形の液位インジケ
ータ33 (?lA I l5flに概念的にのみ示す
)?設置することが好ましい。液位インジケータはポン
プ29と弁31の遠隔制御に利用して浸漬mの特定の液
位?−足に保つことが可能である。
ト14にそれぞれ運ばれることを有効に防止する0 タンクlの浸漬浴に例えばフロートの形の液位インジケ
ータ33 (?lA I l5flに概念的にのみ示す
)?設置することが好ましい。液位インジケータはポン
プ29と弁31の遠隔制御に利用して浸漬mの特定の液
位?−足に保つことが可能である。
本発明の特定の態様において、カバーフード8内かつ浸
漬浴の上方に保護ガス雰囲気を保持することは有利であ
る。この目的のπめにカバー7−ド8はそうした保詐ガ
ヌ、例えば窒素用の入口開口34お工び出口開口35を
有する。
漬浴の上方に保護ガス雰囲気を保持することは有利であ
る。この目的のπめにカバー7−ド8はそうした保詐ガ
ヌ、例えば窒素用の入口開口34お工び出口開口35を
有する。
タイルll上に均一な厚さの膜會得るπめには液5中の
コーテイング物質の濃度ケ一定に保つことが重要である
。この濃度を測定して指示するために、赤外スペクトル
分析測定装置361それ自身公知である。)k装備し、
そのセンサ?液浴の内側に配置する0例えば濃厚溶液の
コーティング物質ヶ補給できる投与機構37(第1図に
概念的にのみ示1−0)ゲ供給答器27に設置する。こ
の目的のために、測定装置36を投与装置37に接゛
続して、自動的に濃度を補充して一定に保つ。
コーテイング物質の濃度ケ一定に保つことが重要である
。この濃度を測定して指示するために、赤外スペクトル
分析測定装置361それ自身公知である。)k装備し、
そのセンサ?液浴の内側に配置する0例えば濃厚溶液の
コーティング物質ヶ補給できる投与機構37(第1図に
概念的にのみ示1−0)ゲ供給答器27に設置する。こ
の目的のために、測定装置36を投与装置37に接゛
続して、自動的に濃度を補充して一定に保つ。
装置の入口側Eおよび出口側Aに赤外センサ38を装備
して入ったり出たりするタイル11の温度を調整する。
して入ったり出たりするタイル11の温度を調整する。
最後に、第1図の破線で示されるように、カバーフード
8は二重壁に作ることができる。二重壁で包囲された領
域は全体に閉鎖され、入口スリット12お↓び出ロスリ
ッ)14の領域だけに開口を有し、それがスリン)12
.14から出る蒸気またはガスの吸引除去場所として働
く。二重壁で包囲された領域は接続パイフ41を介して
吸引源、例えば吸引ポンプに接続する。このようにして
有害で危険なガスまたは蒸気が装置から周囲へ逃れ出る
のを防止する。
8は二重壁に作ることができる。二重壁で包囲された領
域は全体に閉鎖され、入口スリット12お↓び出ロスリ
ッ)14の領域だけに開口を有し、それがスリン)12
.14から出る蒸気またはガスの吸引除去場所として働
く。二重壁で包囲された領域は接続パイフ41を介して
吸引源、例えば吸引ポンプに接続する。このようにして
有害で危険なガスまたは蒸気が装置から周囲へ逃れ出る
のを防止する。
着色ラスター膜の作成においてタンク1は浸漬浴として
、沸騰している、鉄ペンタカルボニルの1%ブタノール
溶gヶ含むことができる。タイル11は装置に入る前に
例えば500℃の温度に加熱する。
、沸騰している、鉄ペンタカルボニルの1%ブタノール
溶gヶ含むことができる。タイル11は装置に入る前に
例えば500℃の温度に加熱する。
第1図は板状物1体のコーティング装置の概略側面図、
第2図は第1図の糾2−2に浴った断面図である。 l・・・・・・タンク、2・・・・・・tiみ(トラフ
)、5・・・・・・浸漬液、7・・・・・・加熱棒、8
・・・・・・カバーフード、9.13,22.23.2
4・・・・・・コンベヤ。 ll・・・・・・タイル、12・・・・・・入口スリッ
ト、13・・・出口スリット、15・・・・・・冷却機
構、16.17・・・シールド、27・・・・・・容器
、28・−・・・ライン、29・・・・・・ポンプ、3
1・・・・・・弁、33・・・・・・フロート、38・
・・・・・赤外センサ、39・・・・・・二重壁。 特許出願人 エルビン ベー。 バルテンベルグ 特許出願代理人 弁理士 宵 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士古賀仙 次 弁理士 山 口 昭 之 弁理士 西 山 雅 也 手続補正書(方式) 昭和59年3月(Iニア0 特許庁長官若杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和58年 特許願 第211723 号2、発明の
名称 塗布装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、代理人 (外4 名) 5、補正命令の日付 昭和59年2月28日(発送日) 6、補正の対象 (1)委任状 (2)図面 7、補正の内容 (1)別紙の通) (2)図面の浄IF(内容に変更なし)8、添付書類の
目録
第2図は第1図の糾2−2に浴った断面図である。 l・・・・・・タンク、2・・・・・・tiみ(トラフ
)、5・・・・・・浸漬液、7・・・・・・加熱棒、8
・・・・・・カバーフード、9.13,22.23.2
4・・・・・・コンベヤ。 ll・・・・・・タイル、12・・・・・・入口スリッ
ト、13・・・出口スリット、15・・・・・・冷却機
構、16.17・・・シールド、27・・・・・・容器
、28・−・・・ライン、29・・・・・・ポンプ、3
1・・・・・・弁、33・・・・・・フロート、38・
・・・・・赤外センサ、39・・・・・・二重壁。 特許出願人 エルビン ベー。 バルテンベルグ 特許出願代理人 弁理士 宵 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士古賀仙 次 弁理士 山 口 昭 之 弁理士 西 山 雅 也 手続補正書(方式) 昭和59年3月(Iニア0 特許庁長官若杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和58年 特許願 第211723 号2、発明の
名称 塗布装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、代理人 (外4 名) 5、補正命令の日付 昭和59年2月28日(発送日) 6、補正の対象 (1)委任状 (2)図面 7、補正の内容 (1)別紙の通) (2)図面の浄IF(内容に変更なし)8、添付書類の
目録
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、@構成物質を溶解しだ液浴に物体を浸漬して旋釉セ
ラミック、ガラス−!、fcはエナメルの板状物体に接
着性薄膜を塗布する装置において、次の特徴: a)浸漬液を受ける加熱タンク b)タンクお工び液浴を周囲から遮蔽しかつ板状物体用
入口スリ・ソトおよび出ロスリットケ有するカバーフー
ド。 C)カバーフード内に配置し罠冷却手段、d)人口スリ
ットから出口スリ・・ノドまで延在しタンクゲ下向きに
湾曲して通過するコンベヤ機構、 e)タンク内の液位を昇降せしめる浸漬部調整機構、 を有する装置。 特許請求の範囲第1項記載の装(4゜ 3、 コンベヤ機構の移送速度が特定の限界内で可変で
ある特許請求の範囲第JJJuま1こは第2項記載の装
置。 4、 コンベヤ機構が連続して配置した3個のコンベヤ
セクションからなり、第1コンベヤセクシミンが入口ス
リットから液面までの領域を実質的ニカバーし、第2コ
ンベヤセクシヨンが液体に陰むタンク内に実質的に専ら
延在し、第3コンベヤセクシ璽ンが液面から出1コ2リ
ットまでの領域を実質的にカバーする特許請求の範l1
tj第1項から第3項までのいずれかに記載の装Vり。 5 カバーフードが二重壁で形成され、装置の入口スリ
ットおよび出口スリットの位置に吸引口を有し、かつそ
れが吸引源に接続されている特許請求の範囲第1項から
第4項までのいずれかに記載の装置。 6 浸漬部を調整する機構が、浸漬浴の供給容器と、浸
漬液ケ供給容器からタンクへ移送するポからなる特許請
求の範囲第1項から第5項までのいずれかに記載の装置
。 7、 ポンプおよび(または)弁を遠隔制御する液位イ
ンジケータを有する特許請求の範囲第6項記載の装置。 8、浸漬浴中の塗布物質濃度の赤外スペクトル分析測定
装置とその測定装置で作動され塗布物質を補給する投与
装置とケ具備する特許請求の範囲第1項から第7項まで
のいずれかに記載の@(i′、。 9、出入りする物体の温度を測定する赤外センサ全入ロ
スリットおよび出口スリット&こ設置した特許請求の範
囲第1項から第8項までのいずtlかに記載の装置。 lO,カバーフードが保護カス用の入口開口および出ロ
開ロ?有する特許請求の範囲第1項から第9項までのい
ずnかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823242166 DE3242166A1 (de) | 1982-11-13 | 1982-11-13 | Vorrichtung zum beschichten von plattenfoermigen koerpern aus glasierter keramik (fliesen), glas oder emaille |
DE3242166.4 | 1982-11-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59139962A true JPS59139962A (ja) | 1984-08-11 |
JPS6243750B2 JPS6243750B2 (ja) | 1987-09-16 |
Family
ID=6178152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP58211723A Granted JPS59139962A (ja) | 1982-11-13 | 1983-11-12 | 塗布装置 |
Country Status (6)
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---|---|
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EP (1) | EP0109013B1 (ja) |
JP (1) | JPS59139962A (ja) |
KR (1) | KR910000719B1 (ja) |
AT (1) | ATE29707T1 (ja) |
DE (2) | DE3242166A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005111142A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Olympus Corp | 医療用カプセル |
JP2008149299A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Amatei Inc | 釘の着色塗装装置 |
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DE19837842A1 (de) * | 1998-08-20 | 2000-02-24 | Jahn Karin Barbara | Verfahren zur farblichen Gestaltung von gebrannten Keramikkörpern, vorzugsweise von Fliesen und Sanitärkeramik |
KR100434995B1 (ko) * | 2001-07-06 | 2004-06-07 | 세유특강(주) | 금속패널의 발색장치 |
RU2444410C2 (ru) * | 2008-01-18 | 2012-03-10 | Владимир Александрович Парамошко | Устройство для изготовления таблиц |
KR101506149B1 (ko) * | 2013-12-24 | 2015-03-26 | 주식회사 포스코 | 코터의 드립팬 장치 |
CN103964202B (zh) * | 2014-05-12 | 2016-08-31 | 湖北长方缘涂装设备有限公司 | 链条输送工件的浸漆装置及浸漆生产线 |
CN108582437A (zh) * | 2018-07-16 | 2018-09-28 | 苏州洛特兰新材料科技有限公司 | 一种用于陶瓷材料生产的上釉机 |
CN111977996A (zh) * | 2020-07-18 | 2020-11-24 | 浙江方远新材料股份有限公司 | 一种废弃物再生利用的混凝土制备工艺 |
CN112571598B (zh) * | 2020-12-09 | 2021-12-14 | 江西嘉顺瓷业有限公司 | 一种耐热陶瓷的上釉线及方法 |
CN114227882B (zh) * | 2021-12-29 | 2022-10-14 | 华中科技大学 | 一种大尺寸增材制造陶瓷素坯件的浸渗后处理装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE533559C (de) * | 1931-09-19 | Robert Preuss | Tauchvorrichtung | |
US2281724A (en) * | 1939-03-08 | 1942-05-05 | Mastic Asphalt Corp | Saturating machine |
US2321397A (en) * | 1939-12-18 | 1943-06-08 | Abbott Coburn | Waterproofing apparatus |
US2555673A (en) * | 1947-06-07 | 1951-06-05 | John D Beatty | Machine for saturating materials |
US2838023A (en) * | 1955-10-28 | 1958-06-10 | Phillip C Jaime | Conveyer apparatus with coating, shaking, heating, and cooling of metal panels |
GB1048735A (en) * | 1964-02-14 | 1966-11-16 | Danfoss As | Improvements in and relating to method and apparatus for painting |
US3404079A (en) * | 1965-01-11 | 1968-10-01 | Ashland Oil Inc | Process for preparing an electrocoating bath |
DE2108849C3 (de) * | 1971-02-25 | 1979-03-01 | E W Wartenberg | Verfahren zum Herstellen dünner, farbiger Lusteruberzüge auf Körpern aus glasiertem Porzellan, glasierter Keramik, Glas oder Emaille |
US3745971A (en) * | 1971-04-14 | 1973-07-17 | Scm Ltd | Vacuum coating apparatus |
-
1982
- 1982-11-13 DE DE19823242166 patent/DE3242166A1/de active Granted
-
1983
- 1983-11-01 US US06/547,759 patent/US4512282A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-11-04 EP EP83111020A patent/EP0109013B1/de not_active Expired
- 1983-11-04 AT AT83111020T patent/ATE29707T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-11-04 DE DE8383111020T patent/DE3373646D1/de not_active Expired
- 1983-11-11 KR KR1019830005350A patent/KR910000719B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1983-11-12 JP JP58211723A patent/JPS59139962A/ja active Granted
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005111142A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Olympus Corp | 医療用カプセル |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3242166C2 (ja) | 1989-06-29 |
EP0109013B1 (de) | 1987-09-16 |
EP0109013A3 (en) | 1985-07-10 |
ATE29707T1 (de) | 1987-10-15 |
DE3242166A1 (de) | 1984-05-17 |
EP0109013A2 (de) | 1984-05-23 |
DE3373646D1 (en) | 1987-10-22 |
KR910000719B1 (ko) | 1991-01-31 |
KR840006799A (ko) | 1984-12-03 |
US4512282A (en) | 1985-04-23 |
JPS6243750B2 (ja) | 1987-09-16 |
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