JPS59139913A - 集じんプラントの制御方法 - Google Patents
集じんプラントの制御方法Info
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- JPS59139913A JPS59139913A JP59007920A JP792084A JPS59139913A JP S59139913 A JPS59139913 A JP S59139913A JP 59007920 A JP59007920 A JP 59007920A JP 792084 A JP792084 A JP 792084A JP S59139913 A JPS59139913 A JP S59139913A
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- JP
- Japan
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- dust
- value
- sources
- control
- dust sources
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- Granted
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/42—Auxiliary equipment or operation thereof
- B01D46/44—Auxiliary equipment or operation thereof controlling filtration
- B01D46/46—Auxiliary equipment or operation thereof controlling filtration automatic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
- C21C5/00—Manufacture of carbon-steel, e.g. plain mild steel, medium carbon steel or cast steel or stainless steel
- C21C5/28—Manufacture of steel in the converter
- C21C5/38—Removal of waste gases or dust
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Electrostatic Separation (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、複数のガス流が互いに離間する複数のちり源
から吸引され、集合管を介して集じん装置に給送され、
調整可能な排気ファンにより排気煙突に送り出される集
じんプラントの制御方法に関する。
から吸引され、集合管を介して集じん装置に給送され、
調整可能な排気ファンにより排気煙突に送り出される集
じんプラントの制御方法に関する。
背景技術とその問題点
従来この種のプラントは、集合管内の圧力を一定に保つ
ように制御するだけで、個々のちり諒の真壁レベルは１
回だけ手動で調整さね、これにより運転されるか、又は
システム全体の制御に代えて１つのちり諒のみを制御し
、これにより運転されている。集じんプラントのいずれ
の箇所にも大きな変動が生じない場合は、これら２つの
運転方式ｌこよりかなり満足できる結果が得られる。し
かしそうでない場合には、最善の状態で集じんを行うた
めには安全性も確保しなければならないから上記公知の
制御方法は不適当である。即ち、真空レベルを余り高く
設定すると、吸引されるガスの量が多すぎてしまう。原
則としてこの種のプラント１こおいでは、排気ファンは
非常に大形であり、大半の時間は最大効率より低い効率
で運転され、しかも多くの電力を必要とする。この結果
、資本がかかり運転コストが不当に高くなるので、集じ
んにかかる費用が必要以上に高くなる。
ように制御するだけで、個々のちり諒の真壁レベルは１
回だけ手動で調整さね、これにより運転されるか、又は
システム全体の制御に代えて１つのちり諒のみを制御し
、これにより運転されている。集じんプラントのいずれ
の箇所にも大きな変動が生じない場合は、これら２つの
運転方式ｌこよりかなり満足できる結果が得られる。し
かしそうでない場合には、最善の状態で集じんを行うた
めには安全性も確保しなければならないから上記公知の
制御方法は不適当である。即ち、真空レベルを余り高く
設定すると、吸引されるガスの量が多すぎてしまう。原
則としてこの種のプラント１こおいでは、排気ファンは
非常に大形であり、大半の時間は最大効率より低い効率
で運転され、しかも多くの電力を必要とする。この結果
、資本がかかり運転コストが不当に高くなるので、集じ
んにかかる費用が必要以上に高くなる。
複数の互いに離間したガス吸引源を含む集じんプラント
の例は製鉄所で多く見られる。そこでは転炉のための主
集じんプラントの他に、いわゆる二次ちり源の処理と浄
化のための集じんプラントが使用されることが多くなっ
てきている。下記の表は、製鉄所ｌこあるいくつかのち
り源と、こねらのちり諒の様々な運転モードｌこおける
発生カス量とを示している。
の例は製鉄所で多く見られる。そこでは転炉のための主
集じんプラントの他に、いわゆる二次ちり源の処理と浄
化のための集じんプラントが使用されることが多くなっ
てきている。下記の表は、製鉄所ｌこあるいくつかのち
り源と、こねらのちり諒の様々な運転モードｌこおける
発生カス量とを示している。
−５１と腰ニー 運転モード −量ｍン）−ランド
ホットミキサ 連続吸込み １２．５０［］装
入 ２００．ＯＤＤ排 出
２００，０００銑鉄装入 １，８７５，０
００ 粗鋼融解 ５７５，０００ 個々のちり源におけるガス発生量Ｃ」０％力）ら１ｏｏ
ｚまで変動し、かつ排出ファンの吸込み量は１０％から
１００％まで変動Ｔるので、公知の制御方法を改善しな
ければならなＧ１こと４ま自明である。
入 ２００．ＯＤＤ排 出
２００，０００銑鉄装入 １，８７５，０
００ 粗鋼融解 ５７５，０００ 個々のちり源におけるガス発生量Ｃ」０％力）ら１ｏｏ
ｚまで変動し、かつ排出ファンの吸込み量は１０％から
１００％まで変動Ｔるので、公知の制御方法を改善しな
ければならなＧ１こと４ま自明である。
発明の目的
本発明の目的は、冒頭に述べた種類の乗じんフ。
ランドにおいて、個々のちり源における変動をこ対して
より適切な制御を行うことができ、かつできる限り少な
い貸金と運転コストでプラントを運転することができる
ような制御方法を提供することにある。
より適切な制御を行うことができ、かつできる限り少な
い貸金と運転コストでプラントを運転することができる
ような制御方法を提供することにある。
発明の概要
本発明はこの目的を達成するために、各ちり源の真空レ
ベルが所定の目標値ｒｉ ＋こ制御されると共に、排
気ファンはプラント全体の圧力損失（ｉ Ｒが所定の値
を保つように調整され、この圧力損失値刊は、 （ａ）、少なくとも１つの上記ちり源（とおＧ）て佑１
］御弁を全開しているにも拘らず真空レベルが所定レベ
ルより低い場合には、上記全てのちり源で所定の真空値
ｒｉ が達成されるまで圧力損失イ直Ｒが増加し、かつ （ｂｌ、上記全てのちり源で所定の真空値ｒｉ 力Ｓ達
成され、上記全ての制御弁が部分的ｌこ閉鎖されている
場合には、少なくとも１つの上言己ちり源で上記制御弁
が全開となるまで圧力損失値Ｒ力Ｓ減少する ように変化される構成とした。
ベルが所定の目標値ｒｉ ＋こ制御されると共に、排
気ファンはプラント全体の圧力損失（ｉ Ｒが所定の値
を保つように調整され、この圧力損失値刊は、 （ａ）、少なくとも１つの上記ちり源（とおＧ）て佑１
］御弁を全開しているにも拘らず真空レベルが所定レベ
ルより低い場合には、上記全てのちり源で所定の真空値
ｒｉ が達成されるまで圧力損失イ直Ｒが増加し、かつ （ｂｌ、上記全てのちり源で所定の真空値ｒｉ 力Ｓ達
成され、上記全ての制御弁が部分的ｌこ閉鎖されている
場合には、少なくとも１つの上言己ちり源で上記制御弁
が全開となるまで圧力損失値Ｒ力Ｓ減少する ように変化される構成とした。
本発明の思想をさらに展開すると、上記圧力損失値Ｒは
、少なくとも１つの上記ちり源で、制御弁が全開状態よ
り小さい調節可能な値Ｘを越えたときには増加される。
、少なくとも１つの上記ちり源で、制御弁が全開状態よ
り小さい調節可能な値Ｘを越えたときには増加される。
あるいは上記圧力損失値Ｒは、全てのちり爵で、制御弁
が全開状態より小さい調節可能な値ｙを下回ったときに
は減少される。
が全開状態より小さい調節可能な値ｙを下回ったときに
は減少される。
父上配圧力損失値Ｒは段階的に変化すると有利である。
最後に、上記の値Ｘ１１ Ｙ乃び段階的変化の範囲及び
シーケンスは、プラント全体の制御動作の遅延に合わせ
て選択されると好都合である。またデジタル式制御器を
使用し、上記ちり源が多数あるときは、プロセスコンピ
ュータｔこよりオーバーライド制御機能を実行すると有
利である。
シーケンスは、プラント全体の制御動作の遅延に合わせ
て選択されると好都合である。またデジタル式制御器を
使用し、上記ちり源が多数あるときは、プロセスコンピ
ュータｔこよりオーバーライド制御機能を実行すると有
利である。
実施例
以下本発明の一実施例を第１図により説明する。
ちり掠１２．１３のそれぞれの圧力は、圧力測定器１に
より測定され、目標値調整器６で設定された目標値ｒｉ
と制御器２において比較される。
より測定され、目標値調整器６で設定された目標値ｒｉ
と制御器２において比較される。
そして偏差が生じた場合には、制御器２は、偏差がゼロ
になるまで偏差を減少する方向に調節弁４を調整する。
になるまで偏差を減少する方向に調節弁４を調整する。
集じん装置１’Ｎこ入る前の圧力は圧力測定器７により
測定さね、目標値調整器９で設定さねた目標値Ｒと制御
器８において比較される。そして偏差がある場合ζこは
、ファン１４の回転速度を変化させるか、又はファン１
４に設けられた回転型の制御器１０を調節するこさによ
り、煙突１５に向かうガスの流量を、圧力が設定値ｔご
達するまで偏差を減少させる方向ｌこ変化させる。
測定さね、目標値調整器９で設定さねた目標値Ｒと制御
器８において比較される。そして偏差がある場合ζこは
、ファン１４の回転速度を変化させるか、又はファン１
４に設けられた回転型の制御器１０を調節するこさによ
り、煙突１５に向かうガスの流量を、圧力が設定値ｔご
達するまで偏差を減少させる方向ｌこ変化させる。
調節弁４が全開であるにも拘らず、即ち制御器２の調整
信号ｙ又は調節弁４の位置が１００係に達しているにも
拘らず、ちり源１２．１３の１つにおける真空レベルが
不十分であるききｔこは、まだ偏差が存在している。偏
差Ｘｗ及び調整信号ｙ又は調節弁４の位置は、別の制御
器であるいわゆる主制御器５に伝送される。調整信号又
は調節弁４の位置が１００俤であるにも拘らずまだ偏差
があるときには、制御器５の出力信号は大きくなる。
信号ｙ又は調節弁４の位置が１００係に達しているにも
拘らず、ちり源１２．１３の１つにおける真空レベルが
不十分であるききｔこは、まだ偏差が存在している。偏
差Ｘｗ及び調整信号ｙ又は調節弁４の位置は、別の制御
器であるいわゆる主制御器５に伝送される。調整信号又
は調節弁４の位置が１００俤であるにも拘らずまだ偏差
があるときには、制御器５の出力信号は大きくなる。
この出力信号は、制御器８において、目標値調整器９で
設定された値Ｒに加えられる。その結果、制御器８はい
わゆる追従制御器として、制御器２における偏差がゼロ
になるまで、集合管１６内の真空レベルを高め、従って
ガスの流量を多くする。
設定された値Ｒに加えられる。その結果、制御器８はい
わゆる追従制御器として、制御器２における偏差がゼロ
になるまで、集合管１６内の真空レベルを高め、従って
ガスの流量を多くする。
・調節弁４がその全開位置から動き出すき、主制御器５
の出力信号は小さくなり、集合管１６内の真空レベルは
低下する。真空レベルを高めるｊこは、主制御器５の出
力信号が最大であることが決定的な要因である。最大値
セレクタ６は最大の信号のみを追従制御器８に伝送する
。
の出力信号は小さくなり、集合管１６内の真空レベルは
低下する。真空レベルを高めるｊこは、主制御器５の出
力信号が最大であることが決定的な要因である。最大値
セレクタ６は最大の信号のみを追従制御器８に伝送する
。
図面を簡単１こするために、２つのちり唾のみを図示し
た。しかしながら、本発明による方法はこれに限定され
るものではなく、実際にはちり源の数にかかわりなく本
発明による方法を採用することができる。
た。しかしながら、本発明による方法はこれに限定され
るものではなく、実際にはちり源の数にかかわりなく本
発明による方法を採用することができる。
本発明の要旨を概略的に述べると、複数のガス流が互い
に離間する複数のちり源から吸引され１集合管を介して
集じん装置に給送され、調整可能な排気ファンにより排
気煙突に送り出されるような集じんプラントについて、
電力の消費を最小限に抑えながらフリントの制御特性と
運転状態とを改善する方法が提案されている。
に離間する複数のちり源から吸引され１集合管を介して
集じん装置に給送され、調整可能な排気ファンにより排
気煙突に送り出されるような集じんプラントについて、
電力の消費を最小限に抑えながらフリントの制御特性と
運転状態とを改善する方法が提案されている。
即ち、各ちり源に対応して、目標値ｒｉ を個々に調
整することができる制御回路が設けられてＧ）る。更に
排気ファンについてオーツく−ライド制御回路が設けら
れ、その圧力損失値Ｒは個々のちり源における制御位置
に従って変化される。
整することができる制御回路が設けられてＧ）る。更に
排気ファンについてオーツく−ライド制御回路が設けら
れ、その圧力損失値Ｒは個々のちり源における制御位置
に従って変化される。
発明の詳細
な説明したように、本発明によりは、個々のちり源にお
ける真空レベルがその変動に応じて所定の目標値を保つ
ように制御されると共に、集じんプラント全体としての
圧力損失値も排気ファンを介して所定の値を保つように
制御され、更にこの圧力損失値は個々のちり源ｌこおけ
る制御位置に応じて変化されるようになされている。従
って従来のものとは異なり、個々のちり源におけるガス
の発生量が大きく変動しても、これらの変動に対してよ
り適切な制御を行うことができるから、少ない資金と運
転コストで、集じんプラントを合理的に運転することが
できる。
ける真空レベルがその変動に応じて所定の目標値を保つ
ように制御されると共に、集じんプラント全体としての
圧力損失値も排気ファンを介して所定の値を保つように
制御され、更にこの圧力損失値は個々のちり源ｌこおけ
る制御位置に応じて変化されるようになされている。従
って従来のものとは異なり、個々のちり源におけるガス
の発生量が大きく変動しても、これらの変動に対してよ
り適切な制御を行うことができるから、少ない資金と運
転コストで、集じんプラントを合理的に運転することが
できる。
第１図は２つのちり源を含む本考案の一実施例を示す概
略図である。 なお図面に用いられた符号において、 １．７ ・・・・・・・・・・・・圧力測定器２・・・
・・・・・・・・・・・・・・・制御器６．９・・・・
・・・・・・・・目標値調整器４・・・・・・・・・・
・・・・・・・・調節弁（制御弁）５・・・・・・・・
・・・・・・・・・・制御器６・・・・・・・・・・・
・・・・・・・最大値セレクタ８・・・・・・・・・・
・・・・・・・・追従制御器１０・・・・・・・・・・
・・・・・回転型の制御器１１ ・・・・・・・・・・
・・・・・集じん装置１２．１３・・・・・・・・・・
・・ちり源１４・・・・・・・・・・・・・・・ファン
１５・・・・・・・・・・・・・・・煙突１６・・・・
・・・・・・・・・・・集合管である。 代理人 土産 勝
略図である。 なお図面に用いられた符号において、 １．７ ・・・・・・・・・・・・圧力測定器２・・・
・・・・・・・・・・・・・・・制御器６．９・・・・
・・・・・・・・目標値調整器４・・・・・・・・・・
・・・・・・・・調節弁（制御弁）５・・・・・・・・
・・・・・・・・・・制御器６・・・・・・・・・・・
・・・・・・・最大値セレクタ８・・・・・・・・・・
・・・・・・・・追従制御器１０・・・・・・・・・・
・・・・・回転型の制御器１１ ・・・・・・・・・・
・・・・・集じん装置１２．１３・・・・・・・・・・
・・ちり源１４・・・・・・・・・・・・・・・ファン
１５・・・・・・・・・・・・・・・煙突１６・・・・
・・・・・・・・・・・集合管である。 代理人 土産 勝
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、複数のガス流が互いに離間する複数のちり源から吸
引され、集合管を介して集じん装置に給送され、制御可
能な排気ファンにより排気煙突−ご送り出される集じん
プラントの制御方法において、上記各ちり源の真空レベ
ルは所定の目標値ｒｉ に制御されると共に、上記排
気ファンはプラント全体の圧力損失値Ｒが所定の値を保
つように制御され、この圧力損失値Ｒは、 （ａ）、少なくとも１つの上記ちり源において■曳御弁
を全開しているＪこも拘らず真空レベルが所定レベルよ
り低い場合には、上記全てのちり源で所定の真空値ｒｉ
が達成される才で圧力損失値Ｒが増加し、かつ （ｂ）、上記全てのちり源で所定の真空値ｒｉ が達成
さね、上記全ての制御弁が部分的に閉鎖されている場合
には、少なくとも１つの上記ちり源で上記制御弁が全開
となるまで圧力損失値Ｒが減少する ように変化されることを特徴とする集じんプラントの制
御方法。 ２、少なくとも１つの上記ちり源で、上記制御弁が全開
状態より小さい調節可能な値Ｘを越えたときＪごは、上
記圧力損失値Ｒは増加されることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の制御方法。 ６、上記全てのちり源で、上記制御弁が全開状態より小
さい調節可能な値ｙを下回ったときには、上記圧力損失
値Ｒは減少されることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の制御方法。 ４、上記圧力損失値Ｒは段階的に変化さねるこきを特徴
とする特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに
記載の制御方法。 ５、上記の値Ｘ、ｙ及び上記段階的変化の範囲並びにシ
ーケンスは、プラント全体の制御動作の遅延に合わせて
選択されることを特徴とする特許請求の範囲第１項ない
し第４項のいずれ力）ｌこ記載の制御方法。 ６、デジタル式制御器が使用されると共に、上記ちり源
が多数あるときはプロセスコンピュータが使用され５、
これによりオーバーライド制御機能１項ないし第５項の
いずれ力］己載の制御方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3301668.2 | 1983-01-20 | ||
| DE19833301668 DE3301668A1 (de) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | Regelverfahren fuer eine entstaubungsanlage |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59139913A true JPS59139913A (ja) | 1984-08-11 |
| JPH0413005B2 JPH0413005B2 (ja) | 1992-03-06 |
Family
ID=6188652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59007920A Granted JPS59139913A (ja) | 1983-01-20 | 1984-01-19 | 集じんプラントの制御方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4521226A (ja) |
| EP (1) | EP0116727B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59139913A (ja) |
| AT (1) | ATE35915T1 (ja) |
| DE (2) | DE3301668A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6209164B1 (en) | 1992-10-31 | 2001-04-03 | Masanori Sato | Toothbrush and electric toothbrush |
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- 1983-01-20 DE DE19833301668 patent/DE3301668A1/de not_active Withdrawn
- 1983-12-20 EP EP83201819A patent/EP0116727B1/de not_active Expired
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- 1983-12-20 DE DE8383201819T patent/DE3377469D1/de not_active Expired
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1984
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Also Published As
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