JPS59137342A - フツ素添加ガラスの製造方法 - Google Patents
フツ素添加ガラスの製造方法Info
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- JPS59137342A JPS59137342A JP1056283A JP1056283A JPS59137342A JP S59137342 A JPS59137342 A JP S59137342A JP 1056283 A JP1056283 A JP 1056283A JP 1056283 A JP1056283 A JP 1056283A JP S59137342 A JPS59137342 A JP S59137342A
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- JP
- Japan
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- fluorine
- glass body
- glass
- porous
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/01433—Reactant delivery systems for delivering and depositing additional reactants as liquids or solutions, e.g. for solution doping of the porous glass preform
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフッ素を添加したガラスの製造方法に関する。
従来、フッ素を添加したガラスを製造する方法としては
、ガラス原料ガスとともに、フッ素化合物をガラス合成
反応帯域に供給し、該反応帯域内でのガラス合成時にフ
ッ素を添加せしめることによって、フッ素添加ガラスを
得る手法が用いられていた。
、ガラス原料ガスとともに、フッ素化合物をガラス合成
反応帯域に供給し、該反応帯域内でのガラス合成時にフ
ッ素を添加せしめることによって、フッ素添加ガラスを
得る手法が用いられていた。
たとえば光フアイバ母材の代表的製造法の一つであるＭ
ＯＶＤ法において、フッ素を添加したガラスを製造する
場合、通常、Ｓ ｉ ＯＪ！’ ４、Ｇ ｅ Ｏ１４、
等のガラス原料とともに、 ＳＦ６またはＯＦ４’Ｊの
フッ素化合物を、石英管内の反応帯域に供給し、Ｓ ｉ
ＯＺ 、 Ｇ ｅ ０２ガラス層の形成時に、フッ
素を添加するものである。
ＯＶＤ法において、フッ素を添加したガラスを製造する
場合、通常、Ｓ ｉ ＯＪ！’ ４、Ｇ ｅ Ｏ１４、
等のガラス原料とともに、 ＳＦ６またはＯＦ４’Ｊの
フッ素化合物を、石英管内の反応帯域に供給し、Ｓ ｉ
ＯＺ 、 Ｇ ｅ ０２ガラス層の形成時に、フッ
素を添加するものである。
しかし、前記のようなガラス合成と同時にフッ素を添加
する従来の方法では、ＳｉＯ□、ＧｅＯ２の合成ととも
に、Ｓ：ＬＦ ｓ ＣａＦ２ 、等のフッ化物が生成
されるので、ガラスの堆積効率が低下するという問題点
があった。極端な場合には、このＳｉＦ４の生成によっ
て、ガラスの堆積効率が著しく低下し、光フアイバ母材
の製造がほとんど困難になるという欠点があった。
する従来の方法では、ＳｉＯ□、ＧｅＯ２の合成ととも
に、Ｓ：ＬＦ ｓ ＣａＦ２ 、等のフッ化物が生成
されるので、ガラスの堆積効率が低下するという問題点
があった。極端な場合には、このＳｉＦ４の生成によっ
て、ガラスの堆積効率が著しく低下し、光フアイバ母材
の製造がほとんど困難になるという欠点があった。
こうした問題点は、火炎加水分解反応を基本としてガラ
ス合成を行うＶＡＤ法、０■ＰＯ法においても明確に見
られた。特にこの両方法においては、火炎中でＩＦが合
成されるので、ガラス堆積がさらに低下し易く、フッ素
添加の母材を製彦することが極めて困難であった。
ス合成を行うＶＡＤ法、０■ＰＯ法においても明確に見
られた。特にこの両方法においては、火炎中でＩＦが合
成されるので、ガラス堆積がさらに低下し易く、フッ素
添加の母材を製彦することが極めて困難であった。
本発明はこれらの欠点を解決するために、主としてＳ
ｘ Ｏ２を含む多孔質ガラス体に、液状のフッ素化合物
を含む溶液を含浸した後、高温に加熱、°焼結して、透
明なフッ素添加ガラスを得ることを特徴としたものであ
り、その目的はフッ素添加のガラスを効率よく容易に製
造する方法を提供することにある。
ｘ Ｏ２を含む多孔質ガラス体に、液状のフッ素化合物
を含む溶液を含浸した後、高温に加熱、°焼結して、透
明なフッ素添加ガラスを得ることを特徴としたものであ
り、その目的はフッ素添加のガラスを効率よく容易に製
造する方法を提供することにある。
図は本発明の実施例を示し、■は容器、２は支持棒、３
はフッ素化合物を含む溶液、４は主としてＳｉＯ□を含
む多孔質ガラス体である。今、図において多孔質ガラス
体４に、フッ素化合物を含む溶液３を十分含浸した後、
電気炉内において１４００°Ｃ〜１６００℃に加熱、焼
結することによって、フッ素を添加した透明ガラス体が
得られる０ そこで多孔質ガラス体として、ＶＡＤ法によって作製し
た多孔質母材〔純Ｓｉｎ、”カサ密度”： ０．２ ｇ
／ｃｍ８（平均値）〕を使用し、またフッ素化合物を含
んだ溶液としては、０Ｏ１２Ｆ −００１Ｆ２溶液を使
用して、約ＩＯ時間該溶液を多孔質母材中に含浸した後
、１５００℃の温度下でｌ（ｅガス雰囲気の気密型電気
炉内において、焼結して透明ガラス母材を得た。
はフッ素化合物を含む溶液、４は主としてＳｉＯ□を含
む多孔質ガラス体である。今、図において多孔質ガラス
体４に、フッ素化合物を含む溶液３を十分含浸した後、
電気炉内において１４００°Ｃ〜１６００℃に加熱、焼
結することによって、フッ素を添加した透明ガラス体が
得られる０ そこで多孔質ガラス体として、ＶＡＤ法によって作製し
た多孔質母材〔純Ｓｉｎ、”カサ密度”： ０．２ ｇ
／ｃｍ８（平均値）〕を使用し、またフッ素化合物を含
んだ溶液としては、０Ｏ１２Ｆ −００１Ｆ２溶液を使
用して、約ＩＯ時間該溶液を多孔質母材中に含浸した後
、１５００℃の温度下でｌ（ｅガス雰囲気の気密型電気
炉内において、焼結して透明ガラス母材を得た。
こうして得た透明ガラス母材の屈折率をアツベの屈折計
で測定した結果、１．４４０であり、比屈折率差Δｎに
して１．２％程度、石英ガラスより低い値を示した。こ
の結果、得られた透明母材中には、１〜２モルチのフッ
素が添加されていることが明らかになった。
で測定した結果、１．４４０であり、比屈折率差Δｎに
して１．２％程度、石英ガラスより低い値を示した。こ
の結果、得られた透明母材中には、１〜２モルチのフッ
素が添加されていることが明らかになった。
前記実施例では、多孔質ガラス体としてＶＡＤ法によっ
て得られる多孔質母材を用いたが、この代わりに、液相
法によって合成された多孔質ガラス体（たとえばシリカ
ゲル体、６力サ密度”０．２〜０．、５９７ｃｘ” 、
比表面積２ｏｏｆｒＬ′２／ｇ）を用い、上記と同様の
方法により、フッ素を添加したガラス体を得ることがで
きる。
て得られる多孔質母材を用いたが、この代わりに、液相
法によって合成された多孔質ガラス体（たとえばシリカ
ゲル体、６力サ密度”０．２〜０．、５９７ｃｘ” 、
比表面積２ｏｏｆｒＬ′２／ｇ）を用い、上記と同様の
方法により、フッ素を添加したガラス体を得ることがで
きる。
また５ｉｏ２だけテ’＝Ｊ’ ＜ 、’ Ｇ ｅ ０２
、Ｐ ２０ ａ 、Ｂ ２ＯＢ、ＴｉＯ□、等のうち一
種以上を含んだ多孔質ガラス体を使用した場合にも、前
記と同じ方法によってフッ素を添加したガラス体が得ら
れる〇 −さらにこの方法の実施例において、次のよ
うな事実が見られた。すなわちＶＡＤ法で作製した多孔
質母材では、母材の半径方向に焼結度分布かあり、した
がって比表面積分布があるので、フッ素化合物を含んだ
溶液を含浸した場合、半径方向に含浸量が分布し、その
結果、最終的に得られた透明母材中にフッ緊添加量の濃
度分布が形成された０このフッ素濃度分布は、通常、母
材中心部の濃度が小さく、周辺部が大きい状態となる。
、Ｐ ２０ ａ 、Ｂ ２ＯＢ、ＴｉＯ□、等のうち一
種以上を含んだ多孔質ガラス体を使用した場合にも、前
記と同じ方法によってフッ素を添加したガラス体が得ら
れる〇 −さらにこの方法の実施例において、次のよ
うな事実が見られた。すなわちＶＡＤ法で作製した多孔
質母材では、母材の半径方向に焼結度分布かあり、した
がって比表面積分布があるので、フッ素化合物を含んだ
溶液を含浸した場合、半径方向に含浸量が分布し、その
結果、最終的に得られた透明母材中にフッ緊添加量の濃
度分布が形成された０このフッ素濃度分布は、通常、母
材中心部の濃度が小さく、周辺部が大きい状態となる。
こうした結果、半径方向に屈折率分布を有し、中心で高
く、周辺で低いグレーデッド型屈折率分布のフッ素添加
透明母材が得られた。
く、周辺で低いグレーデッド型屈折率分布のフッ素添加
透明母材が得られた。
以上説明したように、本発明のフッ素添加ガラスの製造
方法はＳ ｘ ０２を主成分とする多孔質ガラス体にフ
ッ素化合物を含む溶液を含浸した後、焼結、透明化して
フッ素添加ガラスを得るので、従来法に比べて容易に効
率よく、フッ素添加ガーラスを得られる利点がある。ま
た本発明１の方法によって得た低屈折率のフッ素添加ガ
ラス体をクラッド用ガラスとして使用すれば、純シリカ
コアの低損失光ファイバが容易に得られるという利点が
ある。
方法はＳ ｘ ０２を主成分とする多孔質ガラス体にフ
ッ素化合物を含む溶液を含浸した後、焼結、透明化して
フッ素添加ガラスを得るので、従来法に比べて容易に効
率よく、フッ素添加ガーラスを得られる利点がある。ま
た本発明１の方法によって得た低屈折率のフッ素添加ガ
ラス体をクラッド用ガラスとして使用すれば、純シリカ
コアの低損失光ファイバが容易に得られるという利点が
ある。
しかもこうした光ファイバは価格の低減化に有利である
。
。
図は本発明の実施例図である。
■・・容器、２・支持棒、３・・・フッ素化合物を含む
溶液、４・主としてＳ ｉＯ２を含む多孔質ガラス体０ 特許出願人 日本電信電話公社
溶液、４・主としてＳ ｉＯ２を含む多孔質ガラス体０ 特許出願人 日本電信電話公社
Claims (1)
- Ｌ 主としてＳ ｘ Ｏ２を含む多孔質ガラス体に、液
状フッ素化合物を含む溶液を含浸した後、加熱、焼結し
て、透明なガラス体を得ることを特徴とするフッ素添加
ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1056283A JPS59137342A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | フツ素添加ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1056283A JPS59137342A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | フツ素添加ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59137342A true JPS59137342A (ja) | 1984-08-07 |
| JPS6354652B2 JPS6354652B2 (ja) | 1988-10-28 |
Family
ID=11753676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1056283A Granted JPS59137342A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | フツ素添加ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59137342A (ja) |
-
1983
- 1983-01-27 JP JP1056283A patent/JPS59137342A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6354652B2 (ja) | 1988-10-28 |
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