JPS59136742A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPS59136742A
JPS59136742A JP1030283A JP1030283A JPS59136742A JP S59136742 A JPS59136742 A JP S59136742A JP 1030283 A JP1030283 A JP 1030283A JP 1030283 A JP1030283 A JP 1030283A JP S59136742 A JPS59136742 A JP S59136742A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
substrate
carbon
amorphous
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP1030283A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Iwamatsu
誠一 岩松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Publication date
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Publication of JPS59136742A publication Critical patent/JPS59136742A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体装置に係シ、とシわけ、Si膜fAl基
体に形成する感光ドラム、太陽電池、センサー、等の薄
膜半導体装置に関する。
従来、s7薄膜半導体装置による感光ドラムはAtある
いはAj金合金ドラム基体表面にアモルファスsi#ア
モルファスSiC膜、アモルファスB1Ge膜等を蒸着
して形成していた。
しかし、上記従来技術によると、アモルファスsフ膜等
に基体AI原子がドラムあるいは太陽電池に光を尚てる
と拡散し、アモルファスSZ膜等の抵抗値を下げるため
、感光特性が劣化するという欠点があった。
本発明は、かかる従来技術の欠点をなくシ、かかる感光
特性等の特性劣化のない薄膜半導体装置を提供すること
を目的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構成は、半
導体装置において、Alを基体とし、該基体表面に炭素
膜を形成し、該炭素展j上にEi%を形成することを特
徴とする。
以下、実施例により本発明を詳述する。
第1図は従来の感光ドラムの材料構成を示す。
すなわち、Al基体1の表面に、アモルファスSi2が
l(1μ情程度形成されていた。
第2図は本発明による感光ドラムの材料構成を示す。す
なわち、Al基体11の表面に、炭素膜12が1μm〜
5μm程度形成さ九、該炭素膜12の表面にアモルファ
スSZ膜13が10μm程度形成される。
上記の如く、本発明によるAt−C(炭素)−8i構造
では、−C(炭素)膜が光照射時のAt基体からのAl
原子の拡散阻止能を有し、Si膜へのAl原子の侵入を
防止し、SZ膜の感光特性等の特性劣化を起すことがな
いという効果がある。
本発明は、At基体表面に直接炭素膜を鍼する場合のみ
ならず、Al基体表面にSaC等の表面処理膜を形成後
、炭素膜を形成し、該炭素膜上にアモルファスs7等の
半導体膜を形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来技術による感光ドラムの材料構成を示し、
第2図は本発明による感光ドラムの材料構成を示す。 1、l】・・Al基体 z、i3・・アモルファスs7
膜 12・・炭素膜。 以   上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最 上  務 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルミニウム(Al)を基体とし、該基体表面に炭素膜
    を形成し、該炭素膜上にシリコン(Si)膜を形成する
    ことを特徴とする半導体装置。
JP1030283A 1983-01-25 1983-01-25 半導体装置 Pending JPS59136742A (ja)

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