JPS59136742A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS59136742A JPS59136742A JP1030283A JP1030283A JPS59136742A JP S59136742 A JPS59136742 A JP S59136742A JP 1030283 A JP1030283 A JP 1030283A JP 1030283 A JP1030283 A JP 1030283A JP S59136742 A JPS59136742 A JP S59136742A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- carbon
- amorphous
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置に係シ、とシわけ、Si膜fAl基
体に形成する感光ドラム、太陽電池、センサー、等の薄
膜半導体装置に関する。
体に形成する感光ドラム、太陽電池、センサー、等の薄
膜半導体装置に関する。
従来、s7薄膜半導体装置による感光ドラムはAtある
いはAj金合金ドラム基体表面にアモルファスsi#ア
モルファスSiC膜、アモルファスB1Ge膜等を蒸着
して形成していた。
いはAj金合金ドラム基体表面にアモルファスsi#ア
モルファスSiC膜、アモルファスB1Ge膜等を蒸着
して形成していた。
しかし、上記従来技術によると、アモルファスsフ膜等
に基体AI原子がドラムあるいは太陽電池に光を尚てる
と拡散し、アモルファスSZ膜等の抵抗値を下げるため
、感光特性が劣化するという欠点があった。
に基体AI原子がドラムあるいは太陽電池に光を尚てる
と拡散し、アモルファスSZ膜等の抵抗値を下げるため
、感光特性が劣化するという欠点があった。
本発明は、かかる従来技術の欠点をなくシ、かかる感光
特性等の特性劣化のない薄膜半導体装置を提供すること
を目的とする。
特性等の特性劣化のない薄膜半導体装置を提供すること
を目的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構成は、半
導体装置において、Alを基体とし、該基体表面に炭素
膜を形成し、該炭素展j上にEi%を形成することを特
徴とする。
導体装置において、Alを基体とし、該基体表面に炭素
膜を形成し、該炭素展j上にEi%を形成することを特
徴とする。
以下、実施例により本発明を詳述する。
第1図は従来の感光ドラムの材料構成を示す。
すなわち、Al基体1の表面に、アモルファスSi2が
l(1μ情程度形成されていた。
l(1μ情程度形成されていた。
第2図は本発明による感光ドラムの材料構成を示す。す
なわち、Al基体11の表面に、炭素膜12が1μm〜
5μm程度形成さ九、該炭素膜12の表面にアモルファ
スSZ膜13が10μm程度形成される。
なわち、Al基体11の表面に、炭素膜12が1μm〜
5μm程度形成さ九、該炭素膜12の表面にアモルファ
スSZ膜13が10μm程度形成される。
上記の如く、本発明によるAt−C(炭素)−8i構造
では、−C(炭素)膜が光照射時のAt基体からのAl
原子の拡散阻止能を有し、Si膜へのAl原子の侵入を
防止し、SZ膜の感光特性等の特性劣化を起すことがな
いという効果がある。
では、−C(炭素)膜が光照射時のAt基体からのAl
原子の拡散阻止能を有し、Si膜へのAl原子の侵入を
防止し、SZ膜の感光特性等の特性劣化を起すことがな
いという効果がある。
本発明は、At基体表面に直接炭素膜を鍼する場合のみ
ならず、Al基体表面にSaC等の表面処理膜を形成後
、炭素膜を形成し、該炭素膜上にアモルファスs7等の
半導体膜を形成しても良い。
ならず、Al基体表面にSaC等の表面処理膜を形成後
、炭素膜を形成し、該炭素膜上にアモルファスs7等の
半導体膜を形成しても良い。
第1図は従来技術による感光ドラムの材料構成を示し、
第2図は本発明による感光ドラムの材料構成を示す。 1、l】・・Al基体 z、i3・・アモルファスs7
膜 12・・炭素膜。 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 第1図 第2図
第2図は本発明による感光ドラムの材料構成を示す。 1、l】・・Al基体 z、i3・・アモルファスs7
膜 12・・炭素膜。 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 第1図 第2図
Claims (1)
- アルミニウム(Al)を基体とし、該基体表面に炭素膜
を形成し、該炭素膜上にシリコン(Si)膜を形成する
ことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1030283A JPS59136742A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1030283A JPS59136742A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59136742A true JPS59136742A (ja) | 1984-08-06 |
Family
ID=11746458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1030283A Pending JPS59136742A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59136742A (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62148965A (ja) * | 1985-09-19 | 1987-07-02 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
JPS62148962A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-07-02 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
US4738912A (en) * | 1985-09-13 | 1988-04-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having an amorphous carbon transport layer |
US4741982A (en) * | 1985-09-13 | 1988-05-03 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having undercoat layer of amorphous carbon |
US4743522A (en) * | 1985-09-13 | 1988-05-10 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member with hydrogen-containing carbon layer |
JPS63197956A (ja) * | 1987-02-10 | 1988-08-16 | Fujitsu Ltd | 電子写真感光体 |
US4797338A (en) * | 1986-09-16 | 1989-01-10 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4810606A (en) * | 1986-07-07 | 1989-03-07 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4851313A (en) * | 1986-06-10 | 1989-07-25 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer and process for preparing same |
US4863821A (en) * | 1986-07-07 | 1989-09-05 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer having amorphous carbon |
US4868076A (en) * | 1986-09-26 | 1989-09-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4871632A (en) * | 1986-09-26 | 1989-10-03 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4882256A (en) * | 1986-10-14 | 1989-11-21 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having an overcoat layer comprising amorphous carbon |
US5000831A (en) * | 1987-03-09 | 1991-03-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Method of production of amorphous hydrogenated carbon layer |
US5166018A (en) * | 1985-09-13 | 1992-11-24 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member with hydrogen-containing carbon layer |
-
1983
- 1983-01-25 JP JP1030283A patent/JPS59136742A/ja active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62148962A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-07-02 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
US4738912A (en) * | 1985-09-13 | 1988-04-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having an amorphous carbon transport layer |
US4741982A (en) * | 1985-09-13 | 1988-05-03 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having undercoat layer of amorphous carbon |
US4743522A (en) * | 1985-09-13 | 1988-05-10 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member with hydrogen-containing carbon layer |
US5166018A (en) * | 1985-09-13 | 1992-11-24 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member with hydrogen-containing carbon layer |
JPS62148965A (ja) * | 1985-09-19 | 1987-07-02 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
US4851313A (en) * | 1986-06-10 | 1989-07-25 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer and process for preparing same |
US4863821A (en) * | 1986-07-07 | 1989-09-05 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer having amorphous carbon |
US4810606A (en) * | 1986-07-07 | 1989-03-07 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4797338A (en) * | 1986-09-16 | 1989-01-10 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4868076A (en) * | 1986-09-26 | 1989-09-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4871632A (en) * | 1986-09-26 | 1989-10-03 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member comprising charge generating layer and charge transporting layer |
US4882256A (en) * | 1986-10-14 | 1989-11-21 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member having an overcoat layer comprising amorphous carbon |
JPS63197956A (ja) * | 1987-02-10 | 1988-08-16 | Fujitsu Ltd | 電子写真感光体 |
US5000831A (en) * | 1987-03-09 | 1991-03-19 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Method of production of amorphous hydrogenated carbon layer |
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