JPS59136739A - 非晶質シリコン電子写真感光体の再生方法 - Google Patents
非晶質シリコン電子写真感光体の再生方法Info
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- JPS59136739A JPS59136739A JP1114083A JP1114083A JPS59136739A JP S59136739 A JPS59136739 A JP S59136739A JP 1114083 A JP1114083 A JP 1114083A JP 1114083 A JP1114083 A JP 1114083A JP S59136739 A JPS59136739 A JP S59136739A
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- Japan
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- photoreceptor
- vessel
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、非晶質シリコン感光ノーを設けた電子写真
感光体の表面欠陥を有するものの再生方法に関する。
感光体の表面欠陥を有するものの再生方法に関する。
従来の感光体材料としては、５ｅ−Ｔｅ ＋ Ａｓ−８
ｅ 。
ｅ 。
ＺｎＯ，＋ ＣｄＳ 、 ｏｐｃ （有機感光体）等が
知られているが、かかる感光体材料には、夫々長所、短
所がある。例えばＳｅ−Ｔｅ系は感光体として優れた特
性を有しているが、耐熱性に難点がある。ＡＢ−８ｅ系
は耐熱性に優れているが、光疲労が大きい。ＺｎＯ。
知られているが、かかる感光体材料には、夫々長所、短
所がある。例えばＳｅ−Ｔｅ系は感光体として優れた特
性を有しているが、耐熱性に難点がある。ＡＢ−８ｅ系
は耐熱性に優れているが、光疲労が大きい。ＺｎＯ。
ＣｄＳ系は分散系であるためＫ、湿度等の耐環境性に欠
ける。ｏｐａは耐刷性に劣る。このような各種感光体材
料の欠点を捕う材料として非晶質ンリコン感光体が関心
を集めている。
ける。ｏｐａは耐刷性に劣る。このような各種感光体材
料の欠点を捕う材料として非晶質ンリコン感光体が関心
を集めている。
たしかに非晶質シリコン（以）−ａ −８ｉ ）感光体
は耐刷性、耐熱性９分光感度等の点て優れた可能性をも
っているが、現状ではコストが尚いっコストの高い要因
のひとつは原料ガス（例えば１ｓｌＨ’＋ｓＩＦ＜ ）
の価格である。例えばＳｉＨ４ガスは代表的感光体材料
であるＳｅの数士倍程度の価格がする。
は耐刷性、耐熱性９分光感度等の点て優れた可能性をも
っているが、現状ではコストが尚いっコストの高い要因
のひとつは原料ガス（例えば１ｓｌＨ’＋ｓＩＦ＜ ）
の価格である。例えばＳｉＨ４ガスは代表的感光体材料
であるＳｅの数士倍程度の価格がする。
コストを低減する一手段としては、便用済みの感光体か
ら感光体材料を再生することがあげられる。
ら感光体材料を再生することがあげられる。
従来の感光体は有毒であるという点だけでなく、コスト
的面からも、原材料の回収を試みてきている。例えば５
ｅ−ＴＯ等ではガラス転移点（約５０℃）以上に昇温し
て、アルミニューム基体から・・クリを促進してＳθ−
Ｔｅ原材料を回収することは容易に実行しうる。しかし
このような熱的原料回収方法は、ａ−６ｉ感九体にとっ
ては全く無意味である。
的面からも、原材料の回収を試みてきている。例えば５
ｅ−ＴＯ等ではガラス転移点（約５０℃）以上に昇温し
て、アルミニューム基体から・・クリを促進してＳθ−
Ｔｅ原材料を回収することは容易に実行しうる。しかし
このような熱的原料回収方法は、ａ−６ｉ感九体にとっ
ては全く無意味である。
何故なら熱的に回収したａ−８ｉは、不純物を含んだ固
体であって、再利用するためには何等か塾の高コストで
ある高純度化過程をへる必要があるためである。
体であって、再利用するためには何等か塾の高コストで
ある高純度化過程をへる必要があるためである。
それ故、コストを低減する別の方法として使用不能であ
る感光体を再生して使用できるようにすることが考えな
ければならない。電子写真感光体は複写機あるいはプリ
ンタに取シ付は使用している間に表面に傷あるいは汚れ
などの欠陥が生じて画像分解能が低下し、使用不能にな
ることが多い。
る感光体を再生して使用できるようにすることが考えな
ければならない。電子写真感光体は複写機あるいはプリ
ンタに取シ付は使用している間に表面に傷あるいは汚れ
などの欠陥が生じて画像分解能が低下し、使用不能にな
ることが多い。
また、製造工程中の取り扱いによシそのような表面欠陥
が生じて不良となることもある。従来はそのような感光
体は廃品として廃棄していた。しかしそのような感光体
を再生し、再使用することができればａ−８ｉ熱感光の
コスト低減に極めて有効である。
が生じて不良となることもある。従来はそのような感光
体は廃品として廃棄していた。しかしそのような感光体
を再生し、再使用することができればａ−８ｉ熱感光の
コスト低減に極めて有効である。
従って本発明は表面欠陥を有する感光体を再生し、良好
な画像分解能を示す感光体として使用可能にする再生方
法を提供することを目的とする。
な画像分解能を示す感光体として使用可能にする再生方
法を提供することを目的とする。
この目的は表面欠陥を有するａ −８ｉ熱感光の表面層
をエツチングして表面欠陥を除去し感光体として使用可
能にすることによって達成される。
をエツチングして表面欠陥を除去し感光体として使用可
能にすることによって達成される。
以下図と実験例を引用して本発明について説明する。第
１図において、真空槽ｌの内部に感光ドラム２がドラム
支持台３に支詩されており、ドラム支持台３と共に回転
駆動用モータ４によって回転する。感光ドラム２の表面
に刻向する放電電極５は放篭成源６に接続されている。
１図において、真空槽ｌの内部に感光ドラム２がドラム
支持台３に支詩されており、ドラム支持台３と共に回転
駆動用モータ４によって回転する。感光ドラム２の表面
に刻向する放電電極５は放篭成源６に接続されている。
感光ドラム２は必要に応じヒータ７によって昇温できる
。真空槽ｌはポンプ８によって排気される。真空槽１に
はガス導管を介してモノシラン（５ＩＨ４）ボンベ９、
ジボラン（Ｂ２Ｈ６）などのドーピングガスポンベｌＯ
１四弗化炭素（ｃ工ｒａ ）ボンベ１１が接続されてい
る。
。真空槽ｌはポンプ８によって排気される。真空槽１に
はガス導管を介してモノシラン（５ＩＨ４）ボンベ９、
ジボラン（Ｂ２Ｈ６）などのドーピングガスポンベｌＯ
１四弗化炭素（ｃ工ｒａ ）ボンベ１１が接続されてい
る。
実験列 １）
第１図に示す装置において反応ガスとして８ｉＨ４１Ｂ
２Ｈ６および水素を用いて感光ドラム２の上に厚さ約１
８μｍのａ−９ｉ膜を形成した。この感光体を複写機に
設置し、画像出しを行なったところ解像度の高い良質の
画像をえた。
２Ｈ６および水素を用いて感光ドラム２の上に厚さ約１
８μｍのａ−９ｉ膜を形成した。この感光体を複写機に
設置し、画像出しを行なったところ解像度の高い良質の
画像をえた。
次にこの感光体の表面をす２０００のエミリーで軽く研
磨して表面に傷をつけた。再びこれを複写機に設置し、
画像出しを行なったところ画像に研磨跡が表れた。そこ
でこの感光体を第１図の真空槽１に設置し、ガスエツチ
ングを行なった。まず、ポンプ８によって真空槽１を排
気し、次にヒータ７によって感光ドラム２を１００℃ま
で昇温する。
磨して表面に傷をつけた。再びこれを複写機に設置し、
画像出しを行なったところ画像に研磨跡が表れた。そこ
でこの感光体を第１図の真空槽１に設置し、ガスエツチ
ングを行なった。まず、ポンプ８によって真空槽１を排
気し、次にヒータ７によって感光ドラム２を１００℃ま
で昇温する。
次いてボンベ１１のＯＦ４ガスを真空槽１の中に導入゛
する。ガス圧が約ＩＴｏ’ｒｒ で安定したら、感
光ドラム２を放電電極５の間に放電電源６から高周波′
亀力約１００Ｗを供給し、プラズマエツチングを開始す
る。その際エツチングの均一性を確保するために、感光
ドラム２はモータ４により１０ｒ 、 ｐ、Ｍで回転し
た。約１時間ガスエツチングを行なった後、放電を停止
し、ｃｙａの′供給を止めて排気した。ヒータ７および
排気ポンプ８を止め、真空槽１の真空を破って感光体２
を大気中にと９出した。
する。ガス圧が約ＩＴｏ’ｒｒ で安定したら、感
光ドラム２を放電電極５の間に放電電源６から高周波′
亀力約１００Ｗを供給し、プラズマエツチングを開始す
る。その際エツチングの均一性を確保するために、感光
ドラム２はモータ４により１０ｒ 、 ｐ、Ｍで回転し
た。約１時間ガスエツチングを行なった後、放電を停止
し、ｃｙａの′供給を止めて排気した。ヒータ７および
排気ポンプ８を止め、真空槽１の真空を破って感光体２
を大気中にと９出した。
感光体の膜厚は大体１μｍ程度減っていた。これを複写
機に設置して画出しを行なったところ、以前の研磨跡は
ほとんど確認できないほど良質の画像に回復した。
機に設置して画出しを行なったところ、以前の研磨跡は
ほとんど確認できないほど良質の画像に回復した。
実施例
実験例１）と同様の条件でａ −８ｉ熱感光を形成した
。複写機に設置して画像出しを行なったところ、やけシ
高分解能の良質の画像をえた。次にこれを食塩を加えた
沸騰水で煮沸した。水を拭きとり乾燥窒素で乾燥した後
、複写機に設置して画像出しを行なったところ像の分解
能が低下した。この感光体を再び実施例１）と同じ条件
セ四弗化炭素を用いてガスエツチングを加えた後、画像
出しを行なったところ、良質の画像に回復した。
。複写機に設置して画像出しを行なったところ、やけシ
高分解能の良質の画像をえた。次にこれを食塩を加えた
沸騰水で煮沸した。水を拭きとり乾燥窒素で乾燥した後
、複写機に設置して画像出しを行なったところ像の分解
能が低下した。この感光体を再び実施例１）と同じ条件
セ四弗化炭素を用いてガスエツチングを加えた後、画像
出しを行なったところ、良質の画像に回復した。
実施例
実験例２）と同様にａ −８ｉ熱感光を塩水中で煮沸し
たとζろ画像分解能が低下した。これを水：弗酸＝１０
：１の液に浸して表面層をエツチングした。この際基体
のアルミのエツチングを避けるためにアルミ面には樹脂
のカバーを設け、弗酸液を感光体表面にのみ当るように
してエツチングを行なった。次にこれを室温乾燥窒素中
で乾燥の後、乾燥空気中１５０℃で完全に乾燥した。感
光体が冷却した後に複写機に設置し、画像出しを行なっ
た所、分解能に回復が認められた。
たとζろ画像分解能が低下した。これを水：弗酸＝１０
：１の液に浸して表面層をエツチングした。この際基体
のアルミのエツチングを避けるためにアルミ面には樹脂
のカバーを設け、弗酸液を感光体表面にのみ当るように
してエツチングを行なった。次にこれを室温乾燥窒素中
で乾燥の後、乾燥空気中１５０℃で完全に乾燥した。感
光体が冷却した後に複写機に設置し、画像出しを行なっ
た所、分解能に回復が認められた。
以上の実験例から明らかなように本発明によれば、使用
中あるいは製造工程中に傷あるいは汚染されたａ−８ｉ
悪感光に対して、その表面層をエツチングすることによ
って安価に再生することができる。エツチング用のガス
はＯＦ４の他に六弗化硫黄（５Ｆ６）四弗化珪素（ＳＩ
Ｆ４）、塩化水素（Ｈｃｌ） 。
中あるいは製造工程中に傷あるいは汚染されたａ−８ｉ
悪感光に対して、その表面層をエツチングすることによ
って安価に再生することができる。エツチング用のガス
はＯＦ４の他に六弗化硫黄（５Ｆ６）四弗化珪素（ＳＩ
Ｆ４）、塩化水素（Ｈｃｌ） 。
六弗化エタン（Ｑ２Ｆ６）、パーフロロプロパン（Ｑ５
Ｆｅ） 。
Ｆｅ） 。
三弗化塩化メタン（Ｃ！０ＩＦ５ ） 、三弗化メタン
（（Ｊ（ＦＪ ）等を使用できる。ａ−８ｉ悪感光とし
ては、Ｈ，Ｆを含む他に炭素、窒素、ゲルマ二本ラム錫
を副成分として含有していても本発明は有効である。ａ
−８ｉ層の不純物は、はう素のみではなく、Ａｌ ＋
Ｇａ ｌＩｎ ＋Ｔｌ、、Ｐ ＋Ａｓ 、 ５１２Ｂｉ
、 Ｚｎ、Ｃ！ｄ 、 Ｈｇ 。
（（Ｊ（ＦＪ ）等を使用できる。ａ−８ｉ悪感光とし
ては、Ｈ，Ｆを含む他に炭素、窒素、ゲルマ二本ラム錫
を副成分として含有していても本発明は有効である。ａ
−８ｉ層の不純物は、はう素のみではなく、Ａｌ ＋
Ｇａ ｌＩｎ ＋Ｔｌ、、Ｐ ＋Ａｓ 、 ５１２Ｂｉ
、 Ｚｎ、Ｃ！ｄ 、 Ｈｇ 。
Ｃｕ ＋ Ａｇ ＋ Ａｕ ＋ Ｐｔ ＋ Ｐａ ｌＦ
ｅ ＋ Ｃｏ ＋ Ｎｉ等が含有されていても本発明は
有効である。
ｅ ＋ Ｃｏ ＋ Ｎｉ等が含有されていても本発明は
有効である。
又感光体表面が５ｉ０２１ Ｓｉ３Ｎ４ 、 Ａｌ２Ｏ
３、ＢＮ等の絶縁体でおおわれていたとしても、エツチ
ング後再びそれら絶縁体で被覆すればよい。エツチング
する膜厚は傷、汚染の程度に応じて適宜選定される。
３、ＢＮ等の絶縁体でおおわれていたとしても、エツチ
ング後再びそれら絶縁体で被覆すればよい。エツチング
する膜厚は傷、汚染の程度に応じて適宜選定される。
第１図は本発明の一実施例のだめの装置要部の断面図で
ある。 １・・真空槽、２ 感光ドラム、３・・・ドラム支持台
、４ 回転駆動用モータ、５・・放電電極、６・・・放
電電源、８ ・排気ポンプ、１１・・・四弗化炭素ボン
ベ。
ある。 １・・真空槽、２ 感光ドラム、３・・・ドラム支持台
、４ 回転駆動用モータ、５・・放電電極、６・・・放
電電源、８ ・排気ポンプ、１１・・・四弗化炭素ボン
ベ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）表面欠陥を有する感光体の表面層をエツチングして
表面欠陥を除去し感光体として使用可能にすることを特
徴とする非晶質シリコン電子写真感光体の再生方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の方法において、エツチ
ングを四弗化炭素を用いたプラズマエツチングによｐ行
うことを特徴とする非晶質７リコン電子写真感光体の再
生方法。 ３）特許請求の範囲第１項記載の方法において、エツチ
ングを弗酸を用いて行うことを特徴とする非晶質シリコ
ン電子写真感光体の再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1114083A JPS59136739A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 非晶質シリコン電子写真感光体の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1114083A JPS59136739A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 非晶質シリコン電子写真感光体の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59136739A true JPS59136739A (ja) | 1984-08-06 |
Family
ID=11769710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1114083A Pending JPS59136739A (ja) | 1983-01-25 | 1983-01-25 | 非晶質シリコン電子写真感光体の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59136739A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6126051A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-05 | Stanley Electric Co Ltd | アモルフアスシリコン電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH0234862A (ja) * | 1988-04-25 | 1990-02-05 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の再生方法 |
| JPH05341547A (ja) * | 1989-12-26 | 1993-12-24 | Xerox Corp | 非晶質ケイ素像形成部材の再生方法 |
-
1983
- 1983-01-25 JP JP1114083A patent/JPS59136739A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6126051A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-05 | Stanley Electric Co Ltd | アモルフアスシリコン電子写真用感光体の製造方法 |
| JPH0514904B2 (ja) * | 1984-07-17 | 1993-02-26 | Stanley Electric Co Ltd | |
| JPH0234862A (ja) * | 1988-04-25 | 1990-02-05 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の再生方法 |
| JPH05341547A (ja) * | 1989-12-26 | 1993-12-24 | Xerox Corp | 非晶質ケイ素像形成部材の再生方法 |
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