JPS59133239A - 紫外線安定剤系および紫外線安定化ポリオレフイン - Google Patents
紫外線安定剤系および紫外線安定化ポリオレフインInfo
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- JPS59133239A JPS59133239A JP58252389A JP25238983A JPS59133239A JP S59133239 A JPS59133239 A JP S59133239A JP 58252389 A JP58252389 A JP 58252389A JP 25238983 A JP25238983 A JP 25238983A JP S59133239 A JPS59133239 A JP S59133239A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/10—Esters; Ether-esters
- C08K5/101—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/005—Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
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- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、紫外線分解に対してポリオレフィンを安定化
させるための安定化調合物およびかかる調合物を含むポ
リオレフィン組成物に関する＠ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリプデンー１などのような末端不飽和モノオ
レフィンの重合によって得られる高分子量ポリマーは、
広範なかつ゛多岐にわたる用途があシ、多くの通常の材
料に取って替わシかつ新規の用途をつ〈シ出しつつある
。（基礎的には、これらのポリマーは、それらが最初に
受容れられるようになった多くの魅力的な物力１的性質
をもってｂｐ、かつ配合用助剤訃よび添加剤の絶え間な
い探求によシそれらの性質が改良されて来た。例えば、
米国特許第５．６６１．８５２号、屓５．１５５．５７
３号および第 ４．２１０．５９７号は、物理的性質を改良するための
ポリオレフィンとエチレン−酢酸ビニルコポリマーとの
配合を記載している。しかしながら、これらのポリマー
は、程度は與なるが、例えば酸化および紫外線照射に関
して不安定である。かくして、望ましくない酸化分解お
よび紫外線分解に対して保護するため、ポリオレフィン
およびそのブレンドには、はとんど常に安定剤が添加さ
れている。
させるための安定化調合物およびかかる調合物を含むポ
リオレフィン組成物に関する＠ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリプデンー１などのような末端不飽和モノオ
レフィンの重合によって得られる高分子量ポリマーは、
広範なかつ゛多岐にわたる用途があシ、多くの通常の材
料に取って替わシかつ新規の用途をつ〈シ出しつつある
。（基礎的には、これらのポリマーは、それらが最初に
受容れられるようになった多くの魅力的な物力１的性質
をもってｂｐ、かつ配合用助剤訃よび添加剤の絶え間な
い探求によシそれらの性質が改良されて来た。例えば、
米国特許第５．６６１．８５２号、屓５．１５５．５７
３号および第 ４．２１０．５９７号は、物理的性質を改良するための
ポリオレフィンとエチレン−酢酸ビニルコポリマーとの
配合を記載している。しかしながら、これらのポリマー
は、程度は與なるが、例えば酸化および紫外線照射に関
して不安定である。かくして、望ましくない酸化分解お
よび紫外線分解に対して保護するため、ポリオレフィン
およびそのブレンドには、はとんど常に安定剤が添加さ
れている。
ポリプロピレンは、ローブやよシひも（ｔｗｉｎｅ ）
においての天然麻の代替のような屋外用途のために特に
望ましい性質をもっている。ポリオレフィン用の紫外線
安定剤としては、障害アミン類、ベンゾフェノン類、ベ
ンゾトリアゾール類、サリチレート、ジアルキルジチオ
カルバミン酸ニッケルなどのような多くの物質が提案さ
れている。
においての天然麻の代替のような屋外用途のために特に
望ましい性質をもっている。ポリオレフィン用の紫外線
安定剤としては、障害アミン類、ベンゾフェノン類、ベ
ンゾトリアゾール類、サリチレート、ジアルキルジチオ
カルバミン酸ニッケルなどのような多くの物質が提案さ
れている。
今回、本発明者らは、特定の型のエチレン−酢酸ビニル
コポリマーとの組み合わせで特定の既知の安定剤を含む
調合物が、ポリオレフィンに紫外線分解に対する驚異的
でかつ共働的安定性を与えることを発見した。本発明が
なされるまでは、エチレン−酢酸ビニルコポリマーは、
紫外線安定性に重大な影響を与えるとは全く考えられて
いなかった。事実、エチレン−酢酸ビニルコポリマーは
、主としてポリオレフィンの衝撃強さおよび低温特性を
改良するために２リオレフインと共に用いられている。
コポリマーとの組み合わせで特定の既知の安定剤を含む
調合物が、ポリオレフィンに紫外線分解に対する驚異的
でかつ共働的安定性を与えることを発見した。本発明が
なされるまでは、エチレン−酢酸ビニルコポリマーは、
紫外線安定性に重大な影響を与えるとは全く考えられて
いなかった。事実、エチレン−酢酸ビニルコポリマーは
、主としてポリオレフィンの衝撃強さおよび低温特性を
改良するために２リオレフインと共に用いられている。
本発明の利点は、本発明の紫外線安定化用調合物の諸成
分がポリオレフィンと共に用いられて来たものであシか
つ一般に、ｊ？ ＩＪオレフィンと相溶性であｐ、ｚ＋
）オレフィンの他の性質に有害でないという点である。
分がポリオレフィンと共に用いられて来たものであシか
つ一般に、ｊ？ ＩＪオレフィンと相溶性であｐ、ｚ＋
）オレフィンの他の性質に有害でないという点である。
本発明のもう１つの利点は、紫外線安定剤系とポリオレ
フィンとの配合処理が既知のかつ通常の装置卦よび方法
で行われるということである。本発明の紫外線安定剤系
を含む、＋５１７オ己フインが紫外線安定性に於て優秀
であることが１つの特徴である。
フィンとの配合処理が既知のかつ通常の装置卦よび方法
で行われるということである。本発明の紫外線安定剤系
を含む、＋５１７オ己フインが紫外線安定性に於て優秀
であることが１つの特徴である。
要するに、本発明は、紫外線分解に対してポリオレフィ
ンを安定化するための系およびかかる系を含むポリオレ
フィン組成物ならびに紫外線分解に対してポリオレフイ
ンケ安定化する方法を含む。
ンを安定化するための系およびかかる系を含むポリオレ
フィン組成物ならびに紫外線分解に対してポリオレフイ
ンケ安定化する方法を含む。
ポリオレフィンを紫外線分解に対して安定化させるため
の本発明の調合物は、ベンゾフェノン類。
の本発明の調合物は、ベンゾフェノン類。
ベンゾトリアゾール類、ジブチルジチオカルノ々ミン酸
亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケルのような亜
鉛およびニッケル有機紫外線安定剤、モノベンゾエート
％および一般式 〔上記一般式中、Ｒ，およびＲ２ば、同じであっても具
なっていてもよく％おのおのがアルキル基であるか、あ
るいはＲ，、Ｒ２が付いている炭素原子と共に５〜７個
の環炭素原子を有する飽和脂環式基又は式 の基を形成し。
亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケルのような亜
鉛およびニッケル有機紫外線安定剤、モノベンゾエート
％および一般式 〔上記一般式中、Ｒ，およびＲ２ば、同じであっても具
なっていてもよく％おのおのがアルキル基であるか、あ
るいはＲ，、Ｒ２が付いている炭素原子と共に５〜７個
の環炭素原子を有する飽和脂環式基又は式 の基を形成し。
ｎは１〜３の整数であり、かつ
ｎが１であるときには、Ｒ３はアシル基、あるいは置換
基としてアルキル又はシクロアルキル又はアリールを有
するＮ−置換カルパモイル基、あるいは置換基としてア
ルキル又はシクロアルキル又はアリールを有するＮ−モ
ノ置換チオカルバモイル基、あるいはスルフィン酸又は
スルホン酸又は燐含有酸又は硼酸から１個のヒドロキシ
ル基を除くことによって得られる１価の基、あるいはア
ルキル基、あるいはシクロアルキル基、あるいはアＸｉ
アルキル基、あるいはアリール基、あるいは一般式 （上記一般式中ｂ ＲＩおよびＲ２は上で定義した通り
である） の基であシ、 ｎが２であるときには、Ｒ６は二塩基脂肪族カルゲン酸
又は二塩基芳香族カルボン酸から誘導されるジアシル基
、あるいは２個のカルバモイル基が１個のアリール又は
フルキル又はソアリールアルカン又はジアリールエーテ
ルで連結されているジカルパモイル基、あるいはカルボ
ニル基、あるいはジスルホン酸又は燐含有酸又は硼酸か
ら２個のヒドロキシル基を除くことによって得られる２
価の基、あるいはアルキレン基、あるいはアリーレン基
、あるいけアリーレンジアルキレン基であり・ ｎが５であるときには、Ｒ３は芳香族トリカルボン酸又
はシクロ脂肪族トリカルボン酸又はフラントリカルがン
酸から誘導されるトリアジル基。
基としてアルキル又はシクロアルキル又はアリールを有
するＮ−置換カルパモイル基、あるいは置換基としてア
ルキル又はシクロアルキル又はアリールを有するＮ−モ
ノ置換チオカルバモイル基、あるいはスルフィン酸又は
スルホン酸又は燐含有酸又は硼酸から１個のヒドロキシ
ル基を除くことによって得られる１価の基、あるいはア
ルキル基、あるいはシクロアルキル基、あるいはアＸｉ
アルキル基、あるいはアリール基、あるいは一般式 （上記一般式中ｂ ＲＩおよびＲ２は上で定義した通り
である） の基であシ、 ｎが２であるときには、Ｒ６は二塩基脂肪族カルゲン酸
又は二塩基芳香族カルボン酸から誘導されるジアシル基
、あるいは２個のカルバモイル基が１個のアリール又は
フルキル又はソアリールアルカン又はジアリールエーテ
ルで連結されているジカルパモイル基、あるいはカルボ
ニル基、あるいはジスルホン酸又は燐含有酸又は硼酸か
ら２個のヒドロキシル基を除くことによって得られる２
価の基、あるいはアルキレン基、あるいはアリーレン基
、あるいけアリーレンジアルキレン基であり・ ｎが５であるときには、Ｒ３は芳香族トリカルボン酸又
はシクロ脂肪族トリカルボン酸又はフラントリカルがン
酸から誘導されるトリアジル基。
あるいは３個のカルバモイル基が１個のアリール基に付
いているトリ力ルノ々モイル基、あるいはトリスルホン
酸又は燐含有酸又は硼酸から３個のヒドロキシル基を除
くことによって得られる５価の基、あるいはアルカント
リイル基、あるいはアレ−ントリイル基、あるいはアレ
ーントリイルトリアルキレン基である〕 全有するピペリノン誘導体のような障害アミン、あるい
はその、燐酸又は炭酸又はクエン酸又はステアリン酸又
は安息香酸との塩、あるいはそれらの混合物のような紫
外線安定剤の小割合量と、少なくとも１５〜約５０重量
係好ましくは２０〜約６０重量係の酢酸ビニルを有する
エチレン−酢酸ビニルコＪ リマー〇大割合量との共働
的混合物からなる。
いているトリ力ルノ々モイル基、あるいはトリスルホン
酸又は燐含有酸又は硼酸から３個のヒドロキシル基を除
くことによって得られる５価の基、あるいはアルカント
リイル基、あるいはアレ−ントリイル基、あるいはアレ
ーントリイルトリアルキレン基である〕 全有するピペリノン誘導体のような障害アミン、あるい
はその、燐酸又は炭酸又はクエン酸又はステアリン酸又
は安息香酸との塩、あるいはそれらの混合物のような紫
外線安定剤の小割合量と、少なくとも１５〜約５０重量
係好ましくは２０〜約６０重量係の酢酸ビニルを有する
エチレン−酢酸ビニルコＪ リマー〇大割合量との共働
的混合物からなる。
ｙ１２ ’）オレフィンの紫外線安定剤のためにポリオ
レフィン中に用いられるとき１本発明の系のエチレン−
酢ａビニルコポリマー成分は全Ｉリマー組成物の約５〜
２０重量係、好ましくは８〜１６重量％を構成し、上掲
の紫外線安定剤は全、１？ＩＪマ一組成物の５重量係以
下、好ましくは約０．６〜１重量％を構成する。
レフィン中に用いられるとき１本発明の系のエチレン−
酢ａビニルコポリマー成分は全Ｉリマー組成物の約５〜
２０重量係、好ましくは８〜１６重量％を構成し、上掲
の紫外線安定剤は全、１？ＩＪマ一組成物の５重量係以
下、好ましくは約０．６〜１重量％を構成する。
共働的紫外線安定性を得るためにエチレン−酢酸ビニル
コポリマーと組み合わせて有用に使用することができる
紫外線安定剤は、技術上公知であシ１例えば次のものが
ある： ２．４−ジヒドロギシベンゾフエノン、２−ヒドロキシ
−４−アクリルオキシエトキシベンゾフェノン、 ２〜ヒトＯキシ−４−メトキシベンゾフェノン。
コポリマーと組み合わせて有用に使用することができる
紫外線安定剤は、技術上公知であシ１例えば次のものが
ある： ２．４−ジヒドロギシベンゾフエノン、２−ヒドロキシ
−４−アクリルオキシエトキシベンゾフェノン、 ２〜ヒトＯキシ−４−メトキシベンゾフェノン。
２．２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
、 ２．２′ −ジヒドロキシ−４，４′ −ノメトキシペ
ンゾフエノン。
、 ２．２′ −ジヒドロキシ−４，４′ −ノメトキシペ
ンゾフエノン。
２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン。
２−ヒドロキシ−４−インオクトキシベンゾフェノン、
２．２’ 、４．４’ −テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン。
ェノン。
４−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、
５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２．２′
−ジヒドロキシ−４，４′ −ジメトキシ−５，５′−
ジスルホベンゾフエノンニナトリウム、 などのようなベンゾフェノン類： ２−（２’ −ヒドロキシ−５′ −メチルフェニル
）ベンゾトリアゾール、 ２−（５’ 、５’ −ノーｔ−ブチル−２′−ヒド
ロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、 ２−（３’ −ｔ−ブチル−２′ −ヒドロキシ−５１
−メチルフェニル）−５−りＯロペンゾトリアシ゛−ル
、 ２；−（２’ −ヒドロキシ−ｓｌ 、ｓｌ −ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール。
−ジヒドロキシ−４，４′ −ジメトキシ−５，５′−
ジスルホベンゾフエノンニナトリウム、 などのようなベンゾフェノン類： ２−（２’ −ヒドロキシ−５′ −メチルフェニル
）ベンゾトリアゾール、 ２−（５’ 、５’ −ノーｔ−ブチル−２′−ヒド
ロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、 ２−（３’ −ｔ−ブチル−２′ −ヒドロキシ−５１
−メチルフェニル）−５−りＯロペンゾトリアシ゛−ル
、 ２；−（２’ −ヒドロキシ−ｓｌ 、ｓｌ −ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール。
２−（２”−ヒドロキシ−３１，ｓｌ −ジ−ｔ−ア
ミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’ −ヒ
ドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ペンツトリアソ
ール、 のようなベンゾトリアゾール類： ヅプチルジチオ力ルバミン酸ニッケル、ジイソブチルジ
チオカルバミン酸ニッケル、ジメチルジチオカルバミン
酸ニッケルのようなニッケル有機卦よび亜鉛有機紫外線
安定剤：および例えば４−アセトキシ−２，２，６，６
−チトラメチルピベリジン、 ４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−チトラメチ
ルピ被リジン、 ４−アクリロイルオキシ−２，２，６，６−チトラメチ
ルビベリジン。
ミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’ −ヒ
ドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ペンツトリアソ
ール、 のようなベンゾトリアゾール類： ヅプチルジチオ力ルバミン酸ニッケル、ジイソブチルジ
チオカルバミン酸ニッケル、ジメチルジチオカルバミン
酸ニッケルのようなニッケル有機卦よび亜鉛有機紫外線
安定剤：および例えば４−アセトキシ−２，２，６，６
−チトラメチルピベリジン、 ４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−チトラメチ
ルピ被リジン、 ４−アクリロイルオキシ−２，２，６，６−チトラメチ
ルビベリジン。
４−（フェニルアセトキシ）−２，２，６，６−チトラ
メチルピー０１７ジン、 ４−（フェノキシアセトキシ）−２，２，６゜６−チト
ラメチルビイリジン、 ４−シクロヘキサノイルオキシ−２，２，６゜６−チト
ラメチルビベリヅン、 ４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−チトラメチル
ビペリジン。
メチルピー０１７ジン、 ４−（フェノキシアセトキシ）−２，２，６゜６−チト
ラメチルビイリジン、 ４−シクロヘキサノイルオキシ−２，２，６゜６−チト
ラメチルビベリヅン、 ４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−チトラメチル
ビペリジン。
４−（ｐ−クロロベンゾイルオキシ）−２’、２゜６．
６−チトラメチルビベリジン。
６−チトラメチルビベリジン。
４−（ｍ−クロロベンゾイルオキシ）−２，２゜６．６
−チトラメチルビペリジン。
−チトラメチルビペリジン。
４−（Ｏ−りＯＯベンゾイルオキシ）−２，２゜６．６
−チトラメチルビにリジン、 ４−（ｏ−トルオイルオキシ）−２，２，６゜６−チト
ラメチルビベリＪ ｙ、 ４−インニコチノイルオキシ−２，２，６，６−チトラ
メチルビペリヅン、 ４−（２−フロイルオキシ）−２、２、６、６−チトラ
メチルビペリヅン。
−チトラメチルビにリジン、 ４−（ｏ−トルオイルオキシ）−２，２，６゜６−チト
ラメチルビベリＪ ｙ、 ４−インニコチノイルオキシ−２，２，６，６−チトラ
メチルビペリヅン、 ４−（２−フロイルオキシ）−２、２、６、６−チトラ
メチルビペリヅン。
４−（β−ナフトイルオキシ）−２，２，６゜６−チト
ラメチルピペリジン。
ラメチルピペリジン。
４−メトキシ−２，２，６，６−チトラメチルビベリジ
ン、 ４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−チトラメチル
ピベリジン、 ４−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−チトラメ
チルピベリジン。
ン、 ４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−チトラメチル
ピベリジン、 ４−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−チトラメ
チルピベリジン。
４−ベンツルオキシ−２，２，６，６−チトラメチルビ
にリジン、 ４−フェノキシ−２，２，６，６−チトラメチルビベリ
ジン。
にリジン、 ４−フェノキシ−２，２，６，６−チトラメチルビベリ
ジン。
４−（エチルカルバモイルオキシ）−２，２゜６．６−
チトラメチルビペリジン、 ４−（シクロヘキシルカルバモイルオキシ）−２，２，
６，６−チトラメチルビ波リジン。
チトラメチルビペリジン、 ４−（シクロヘキシルカルバモイルオキシ）−２，２，
６，６−チトラメチルビ波リジン。
４−（フェニルカルバモイルオキシ）−２，２゜６．６
−チトラメチルビペリジン、 ４− （ｐ −りｏ ｏフェニルカルバモイルオキシ）
−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン、４−（ｏ
−）リカルバモイルオキシ）−２，２゜６．６−チトラ
メチルビペリソン、 ４−（α−ナフチルカルバモイルオキシ）−２゜２．６
．６−チトラメチルビペリジン、４−（エチルチオカル
バモイルオキシ）−２゜２．６．６−チトラメチルビベ
リノン、４−（シクロヘキシルチオカルバモイルオキシ
）−２，２，６，６−チトラメチルビペリジン。
−チトラメチルビペリジン、 ４− （ｐ −りｏ ｏフェニルカルバモイルオキシ）
−２，２，６，６−チトラメチルピペリジン、４−（ｏ
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メチルビペリソン、 ４−（α−ナフチルカルバモイルオキシ）−２゜２．６
．６−チトラメチルビペリジン、４−（エチルチオカル
バモイルオキシ）−２゜２．６．６−チトラメチルビベ
リノン、４−（シクロヘキシルチオカルバモイルオキシ
）−２，２，６，６−チトラメチルビペリジン。
４−（フェニルチオカルバモイルオキシ）−２゜２．６
．６−チトラメチルピペリジン、４−ベンゼンスルフィ
ニルオキシ−２，２，６゜６−チトラメチルビペリジン
・ ４−ベンゼンスルホニルオキシ−２，２，６゜６−チト
ラメチルビぜリジン、 ４−（ｐ−１−ルエンスルホニルオキシ）−２゜２．６
．６−チトラメチルビペリジン、４− （ｐ −ｎ−ド
デシルベンゼンスルホニルオキシ）−２，２，６，６−
チトラメチルビペリジン、 ４−メタンスルホニルオキシ−２，２，６，６−チトラ
メチルビにリジン、 炭酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）、 シュウ酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ビ
イリジル）・ マロン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ
被リジル）。
．６−チトラメチルピペリジン、４−ベンゼンスルフィ
ニルオキシ−２，２，６゜６−チトラメチルビペリジン
・ ４−ベンゼンスルホニルオキシ−２，２，６゜６−チト
ラメチルビぜリジン、 ４−（ｐ−１−ルエンスルホニルオキシ）−２゜２．６
．６−チトラメチルビペリジン、４− （ｐ −ｎ−ド
デシルベンゼンスルホニルオキシ）−２，２，６，６−
チトラメチルビペリジン、 ４−メタンスルホニルオキシ−２，２，６，６−チトラ
メチルビにリジン、 炭酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）、 シュウ酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ビ
イリジル）・ マロン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ
被リジル）。
アソピン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）、 フマル酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ビ
イリジル）。
ピペリジル）、 フマル酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ビ
イリジル）。
セパシン酸ビス（２，２，６，６−チトラメチルー４−
ピペリジル）。
ピペリジル）。
ヘキサヒドロテレフタル酸ビス（２，２，６゜６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）。
ラメチル−４−ピペリジル）。
テレフタル酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４
−ビ被リジル）、 １．２−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルオキシ）エタン、 α、α′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルオキシ）ｐ−キシレン、トルエン−２，４−
ジスルホン酸ビス（２１２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリノル）、ヘキサメチレン−１，６−ノカルパミ
ン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）、 ジフェニルメタン−ｐ、ｐ’ −Ｖカルバミン酸ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）％ ジフェニルエーテル−ｐ、ｐ’ −ソカルバミン酸ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）％ ベンゼン−１，５−ジスルホン酸ビス（２，２゜６．６
−テトラメチす−４−ビ被リジル）、フェニル亜燐酸ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリヅル）
、 亜燐酸トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリノル）、 燐酸トリス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ被
リノル）、 ６ニアザー７．７−シメチルー９−ベンゾイルオキシ−
スピロ［４，５１デカン、 １−アザ−２，２−ツメチル−４−ペンゾイルオキシー
スビｃｌ：５．５］ウンデカン、１．９−ジアザ−４−
ベンゾイルオキシ−２゜２ ＋ ８ ＋ ８ ＋ １０
＃ １０−へキサメチル−スピロ［５，５］ウンデカ
ン、 １ 、９−−）７サー４−（シクロヘキシルカルバモイ
ルオキシ）−２，２，８，８，１ｏ、１ｏ−ヘキ→ｆ
ｊ チル−スピロ〔５，５〕ウンテカン、ビス（２，２
Ｉ６，６−テトラメチル−４−ビイリジル）エーテル、 ベンゼン−１，５，５−トリカルボン酸トリス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、および ベンゼン−１，３，４−）リカルボン酸トリス（２，２
，６，６−チトラメチルー゛４−ピペリジル）。
−ビ被リジル）、 １．２−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルオキシ）エタン、 α、α′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルオキシ）ｐ−キシレン、トルエン−２，４−
ジスルホン酸ビス（２１２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリノル）、ヘキサメチレン−１，６−ノカルパミ
ン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）、 ジフェニルメタン−ｐ、ｐ’ −Ｖカルバミン酸ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）％ ジフェニルエーテル−ｐ、ｐ’ −ソカルバミン酸ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）％ ベンゼン−１，５−ジスルホン酸ビス（２，２゜６．６
−テトラメチす−４−ビ被リジル）、フェニル亜燐酸ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリヅル）
、 亜燐酸トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリノル）、 燐酸トリス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ被
リノル）、 ６ニアザー７．７−シメチルー９−ベンゾイルオキシ−
スピロ［４，５１デカン、 １−アザ−２，２−ツメチル−４−ペンゾイルオキシー
スビｃｌ：５．５］ウンデカン、１．９−ジアザ−４−
ベンゾイルオキシ−２゜２ ＋ ８ ＋ ８ ＋ １０
＃ １０−へキサメチル−スピロ［５，５］ウンデカ
ン、 １ 、９−−）７サー４−（シクロヘキシルカルバモイ
ルオキシ）−２，２，８，８，１ｏ、１ｏ−ヘキ→ｆ
ｊ チル−スピロ〔５，５〕ウンテカン、ビス（２，２
Ｉ６，６−テトラメチル−４−ビイリジル）エーテル、 ベンゼン−１，５，５−トリカルボン酸トリス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、および ベンゼン−１，３，４−）リカルボン酸トリス（２，２
，６，６−チトラメチルー゛４−ピペリジル）。
のような、上記一般式で示される障害アミン光安定剤の
ような障害アミン光安定剤。
ような障害アミン光安定剤。
好ましくは１本発明で有用に使用できるピペリジン誘導
体は、ＲｌｂよびＲ２のおのおのがメチルであシかつｎ
が２でありかつＲ３が１〜２４個の炭素原子、好寸しく
け１〜１２個の炭素原子を有する二塩基脂肪族カルボン
酸又は二塩基芳香族カルボン酸から誘導されるジアシル
基である上記一般式で示される。かかるビＪ ＩＪジン
誘導体の説明のための、ただし限定的でない例としては
、炭酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ啄
リヅル）。
体は、ＲｌｂよびＲ２のおのおのがメチルであシかつｎ
が２でありかつＲ３が１〜２４個の炭素原子、好寸しく
け１〜１２個の炭素原子を有する二塩基脂肪族カルボン
酸又は二塩基芳香族カルボン酸から誘導されるジアシル
基である上記一般式で示される。かかるビＪ ＩＪジン
誘導体の説明のための、ただし限定的でない例としては
、炭酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ啄
リヅル）。
シュウ酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリノル）。
ペリノル）。
マロン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ
硬リノル）、 アノピン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）、 フマル酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ
硬リジル）、 セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）。
硬リノル）、 アノピン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）、 フマル酸ビス（２，２，６，６−テトラメチす−４−ビ
硬リジル）、 セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）。
ヘキサヒドロテレフタル酸ビス（２，２，６゜６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）、およびテ・レフタル酸ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピにリジル） がある。
ラメチル−４−ピペリジル）、およびテ・レフタル酸ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピにリジル） がある。
本発明の最も好ましい態様においては、ピペリノン誘導
体はセバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ビイリジル）である。
体はセバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ビイリジル）である。
本発明で有用に使用できるビイリジン誘導体の製造は、
公知であシ、１９７２年２月１０日発行の米国特許第５
．６４０．９２８号に十分に記載されている〇 本発明の調合物によって安定化される／ ＩＪオレフィ
ンは、一般式 ＣＨ２＝ＣＨ８０式中、Ｒは水素又は炭
化水素基であることができる）を有するオレフィンの重
合によって得られる。炭化水素基は。
公知であシ、１９７２年２月１０日発行の米国特許第５
．６４０．９２８号に十分に記載されている〇 本発明の調合物によって安定化される／ ＩＪオレフィ
ンは、一般式 ＣＨ２＝ＣＨ８０式中、Ｒは水素又は炭
化水素基であることができる）を有するオレフィンの重
合によって得られる。炭化水素基は。
脂肪族炭化水素基又はシフＯ脂肪族炭化水素基又は芳香
族炭化水素基であることができる。これらのポリオレフ
ィンは、０．０１〜５００の範囲のメルトインデックス
で示されるような高分子ｉｙｌ？リマーである。一般に
、かかる？リマーけ、２０個未満の炭素原子、好ましく
は２〜８個の炭素原子を有するモノマー、好ましくはＲ
がＨ又は１〜６個の炭素原子を有する炭化水素基である
モノマーから製造される。ポリオレフィンは、これらの
オレフィンと１種以上の他のモノマーとのコポリマーを
含む。かかるポリオレフィンの代表例は。
族炭化水素基であることができる。これらのポリオレフ
ィンは、０．０１〜５００の範囲のメルトインデックス
で示されるような高分子ｉｙｌ？リマーである。一般に
、かかる？リマーけ、２０個未満の炭素原子、好ましく
は２〜８個の炭素原子を有するモノマー、好ましくはＲ
がＨ又は１〜６個の炭素原子を有する炭化水素基である
モノマーから製造される。ポリオレフィンは、これらの
オレフィンと１種以上の他のモノマーとのコポリマーを
含む。かかるポリオレフィンの代表例は。
低密度および高密度の、ｊ？ リエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン−１，およびこれらと他のモノマーと
のコポリマー又はターポリマー、例えばエチレンとプロ
ピレン、ブテン−１，オクテン−１１デセン−１，又は
ビニルシクロヘキセンとのコポリマー又はターポリマー
およびプロピレンとグテンー１．１ オクテン−１１デ
セン−１，又はビニルシクロヘキセンとのコポリマー又
バターｙＪ？ リマーである。
レン、ポリブテン−１，およびこれらと他のモノマーと
のコポリマー又はターポリマー、例えばエチレンとプロ
ピレン、ブテン−１，オクテン−１１デセン−１，又は
ビニルシクロヘキセンとのコポリマー又はターポリマー
およびプロピレンとグテンー１．１ オクテン−１１デ
セン−１，又はビニルシクロヘキセンとのコポリマー又
バターｙＪ？ リマーである。
これらのポリオレフィンは、遊離基触媒による重合によ
るか、あるいは配位触媒と呼ばれる有機金属触媒による
重合によるかのいずれかによって一般に得られる。
るか、あるいは配位触媒と呼ばれる有機金属触媒による
重合によるかのいずれかによって一般に得られる。
本発明の系は、多くの優れた性質を有しているにもかか
わらず、紫外線分解を受は易いために屋外製１品用には
限られた用途にしか用いられていないポリゾロピレン中
に用いる場合に特に有効である。
わらず、紫外線分解を受は易いために屋外製１品用には
限られた用途にしか用いられていないポリゾロピレン中
に用いる場合に特に有効である。
本発明の組成物に於て有用なポリプロピレンは、５．１
ｋｉ／ｃｍ２（ａａｐｓ＋ ）、 ２３０℃で０．０
１〜５００Ｆ／１０分のメルトフローを有スル、プロピ
レンの通常固体のポリマーである。ポリプロピレンの密
度は臨界的ではないが、約０．８９ｆ／ ＣＣよシ高い
密度をもつものが一般に好ましい。
ｋｉ／ｃｍ２（ａａｐｓ＋ ）、 ２３０℃で０．０
１〜５００Ｆ／１０分のメルトフローを有スル、プロピ
レンの通常固体のポリマーである。ポリプロピレンの密
度は臨界的ではないが、約０．８９ｆ／ ＣＣよシ高い
密度をもつものが一般に好ましい。
ポリゾロピレンは、無定形であっても、結晶性であって
も部分的結晶性であってもよい。熱−・ブタン不溶物で
測定して例えば９［１％以上の高度のアイツタクチシテ
ィを有するポリゾロピレンが一般に好ましい。
も部分的結晶性であってもよい。熱−・ブタン不溶物で
測定して例えば９［１％以上の高度のアイツタクチシテ
ィを有するポリゾロピレンが一般に好ましい。
本発明に有用なエチレン−酢酸ビニルコポリマーは、好
ましくは、１５〜７０重量係の酢酸ビニル、よシ好まし
くは約２θ〜５ｏ重量係の酢酸ビニルの酢酸ビニル含量
を有する。これらのコポリマーは、０．１〜５００の範
囲のメルトインデックスを有し、２３０℃に於ける密度
が０．９２〜０．９６ｙ／ｃｃである。本発明の紫外線
安定化系の成分としてのエチレン−酢酸ビニルコポリマ
ーの存在がＨ５ｌ）マーに改良された衝撃特性および低
温特性を与え得ることも言うまでもないことである。エ
チレン−酢酸ビニルコポリマーの製造は、Ｃ９Ｅ、 ５
ｃｈｉｌｄｋｎｅｃｈｔ著“Ｖｉｎｙｌ ａｎｄ Ｒ６
１ａｔ６ｄＣｏｍｐｏｕｎｄｓ ｈ ５５１−５頁、
Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ ！５ｏｎｓ 、 Ｉｎ
ｃ、 （１９５２ｂ米）に記載されている。
ましくは、１５〜７０重量係の酢酸ビニル、よシ好まし
くは約２θ〜５ｏ重量係の酢酸ビニルの酢酸ビニル含量
を有する。これらのコポリマーは、０．１〜５００の範
囲のメルトインデックスを有し、２３０℃に於ける密度
が０．９２〜０．９６ｙ／ｃｃである。本発明の紫外線
安定化系の成分としてのエチレン−酢酸ビニルコポリマ
ーの存在がＨ５ｌ）マーに改良された衝撃特性および低
温特性を与え得ることも言うまでもないことである。エ
チレン−酢酸ビニルコポリマーの製造は、Ｃ９Ｅ、 ５
ｃｈｉｌｄｋｎｅｃｈｔ著“Ｖｉｎｙｌ ａｎｄ Ｒ６
１ａｔ６ｄＣｏｍｐｏｕｎｄｓ ｈ ５５１−５頁、
Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ ！５ｏｎｓ 、 Ｉｎ
ｃ、 （１９５２ｂ米）に記載されている。
本発明の新規紫外線安定化ポリマー組成物は、また、プ
ラスチック組成物調合に通常用いられかつ紫外線安定化
プロセスを実質的に妨害しない化学的添加剤、例えば酸
化防止剤又は充填剤又は顔料又は強化剤のような添加剤
を含むこともできる。
ラスチック組成物調合に通常用いられかつ紫外線安定化
プロセスを実質的に妨害しない化学的添加剤、例えば酸
化防止剤又は充填剤又は顔料又は強化剤のような添加剤
を含むこともできる。
例えば、本発明の組成物は、添加剤および加工助剤、粘
度調節剤、離型剤、乳化剤、スリップ剤を含むことがで
きる。本発明のポリマー組成物は。
度調節剤、離型剤、乳化剤、スリップ剤を含むことがで
きる。本発明のポリマー組成物は。
組成物の紫外線安定性を実質的に抑制しない酸化防止剤
、帯電防止剤をも含むことができる。本発明の組成物は
１例えば硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシ
ウム、フユームドシリ力、ガラス、クレーのような充填
剤をも含むことができる。゛本発明の組成物は難燃剤、
潤滑剤、可塑剤。
、帯電防止剤をも含むことができる。本発明の組成物は
１例えば硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシ
ウム、フユームドシリ力、ガラス、クレーのような充填
剤をも含むことができる。゛本発明の組成物は難燃剤、
潤滑剤、可塑剤。
接着促進剤、および例えば高温加工中の熱酸化分解防止
のために典型的に用いられる安定剤をも用いることがで
きる。
のために典型的に用いられる安定剤をも用いることがで
きる。
本発明の調合物の諸成分は１．Ｊ？ ＋７オレフイン中
へ添加するための１つの包装として混合しかつ取扱うこ
とができ、あるいは技術上公知の通常の熱処理装置を用
いてにポリオレフィン中へ任意の順序で個々に混合する
ことができる。例えば、バンバリーミキサ−又は２本ロ
ールミルのようなバッチ型装置ｆ用いることができ、あ
るいは微粉砕混合物をスクリュー押出機中で混合するこ
とができる。
へ添加するための１つの包装として混合しかつ取扱うこ
とができ、あるいは技術上公知の通常の熱処理装置を用
いてにポリオレフィン中へ任意の順序で個々に混合する
ことができる。例えば、バンバリーミキサ−又は２本ロ
ールミルのようなバッチ型装置ｆ用いることができ、あ
るいは微粉砕混合物をスクリュー押出機中で混合するこ
とができる。
本発明の組成物は、フィルム、フィラメント。
ロツｒ、保護コーティング、成形製品および押出製品な
どの製造に用いることができる。
どの製造に用いることができる。
以下、本発明を説明するために実施例を示すが。
これらの実施例は本発明の範囲を限定するためのもので
はない。
はない。
実施例１−７
以下実施例は、本発明の紫外線安定化系を含むポリプロ
ピレンの改良された抵抗を示す。各実施例には同じ、ｊ
？ ＩＪママ−同じ乾燥器からの市販製品）を用いた。
ピレンの改良された抵抗を示す。各実施例には同じ、ｊ
？ ＩＪママ−同じ乾燥器からの市販製品）を用いた。
第１表に示すポリプロピレン粉末ト添加剤とのトライブ
レンドをｈ ｓ、ｏｓｃｍ（２” ）ゾロドレック
ス（Ｐｒｏｄｌｅｘ ）押出機で、２１８．３℃（４２
５′Ｆ）に於てペレットとして押出した。
レンドをｈ ｓ、ｏｓｃｍ（２” ）ゾロドレック
ス（Ｐｒｏｄｌｅｘ ）押出機で、２１８．３℃（４２
５′Ｆ）に於てペレットとして押出した。
押出機から得られたペレット状ブレンドを。
６．３５ｃｒｒ１（２／２ ）プロデックス・エクス
トルーダー（ρｒｏｄｅｘ Ｅｘｔｒｕｄｅｒ ）を装
備したＰＬＴＤリボ７ヤーンライ７ （Ｐ ＬＴＤ Ｒ
ｉｂｏｎ Ｙａｒｎｌｊｎｅ ） を用いて２Ｘ２．
！；ｆｌｙｓ （２Ｘ １ ｏ ｏミル）のリボンヤー
ンに変えた。
トルーダー（ρｒｏｄｅｘ Ｅｘｔｒｕｄｅｒ ）を装
備したＰＬＴＤリボ７ヤーンライ７ （Ｐ ＬＴＤ Ｒ
ｉｂｏｎ Ｙａｒｎｌｊｎｅ ） を用いて２Ｘ２．
！；ｆｌｙｓ （２Ｘ １ ｏ ｏミル）のリボンヤー
ンに変えた。
この押出された各リボンヤーンを、南フロリダで屋外耐
候性試験にかけた。試験は、引っ張られていない２Ｘ２
．５４ｔＪ（２Ｘ１００ミル）リボンヤーンを直接かつ
連続的に日光に曝露することからなっていた。
候性試験にかけた。試験は、引っ張られていない２Ｘ２
．５４ｔＪ（２Ｘ１００ミル）リボンヤーンを直接かつ
連続的に日光に曝露することからなっていた。
屋外耐光性試験の前に、各ヤーン試料の初期引張強さお
よび憾伸びを測定した。その後、６か月から始めて、以
後５か月間隔で、試料の引張強さおよび憾伸び（それぞ
れＡＳＴＭＤ−１７０８および１７０Ｂ）を測定し、幅
保持率を求めた。
よび憾伸びを測定した。その後、６か月から始めて、以
後５か月間隔で、試料の引張強さおよび憾伸び（それぞ
れＡＳＴＭＤ−１７０８および１７０Ｂ）を測定し、幅
保持率を求めた。
本発明のエチレン−酢酸ビニルコポリマーの外に、低酢
酸ビニルの市販ＬＤ−４０１エチレンー酢酸ビニルコポ
リマーの評価も行つ友。このコポリマーは、酢酸ビニル
含量が約９重量％、Ｍｌが約５．５．密度が０．９２６
であった。
酸ビニルの市販ＬＤ−４０１エチレンー酢酸ビニルコポ
リマーの評価も行つ友。このコポリマーは、酢酸ビニル
含量が約９重量％、Ｍｌが約５．５．密度が０．９２６
であった。
試験成分
ｐｐ 粉末、ＭＦＲ（メルトフローレート）５
、７． ７ｉ ３ ｐｐｍ、 Ａｔ１４ ｐｐｍ。
、７． ７ｉ ３ ｐｐｍ、 Ａｔ１４ ｐｐｍ。
Ｃ１６ｐｐｍ、 ＢＨＴ （２、６−ノーｔａｒｔ−ブ
チル処理） ４６０ ｐｐｍ ： Ａ エチレン−酢酸ビニルコＩリマー１酢酸ビニル
約２５１−エルパックス （Ｅｌｖａｘ ） ３６０−デュポン社の製品、Ｍｌ
１．７−２．３．酢酸ビニル ２４．５−２５．７％、密度０ 、９５０：Ｂ エ
チレン−酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル約ｓ ＜
、エクソンケミカルカンパニー社の製品、Ｍｌ３．５、
酢酸 ビニル９慢、密度ｎ、９２６： ＮＢＣＮ、Ｎ＋ −ジブチルジチオカルバミン酸ニッ
ケル、デュポン社の製品； １０１０ テトラキス〔メチ１／ン５−（３’、５
’−ジーｔｅｒｔ−グチルー４−ヒト０キシフェニル）
グロビオネート〕メタン。
チル処理） ４６０ ｐｐｍ ： Ａ エチレン−酢酸ビニルコＩリマー１酢酸ビニル
約２５１−エルパックス （Ｅｌｖａｘ ） ３６０−デュポン社の製品、Ｍｌ
１．７−２．３．酢酸ビニル ２４．５−２５．７％、密度０ 、９５０：Ｂ エ
チレン−酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル約ｓ ＜
、エクソンケミカルカンパニー社の製品、Ｍｌ３．５、
酢酸 ビニル９慢、密度ｎ、９２６： ＮＢＣＮ、Ｎ＋ −ジブチルジチオカルバミン酸ニッ
ケル、デュポン社の製品； １０１０ テトラキス〔メチ１／ン５−（３’、５
’−ジーｔｅｒｔ−グチルー４−ヒト０キシフェニル）
グロビオネート〕メタン。
チバガイギーコーポレーション社の製
品；
０８ＩＰ チオジプロピオン酸ゾステアリル、アメ
リカンシアナミドカンパニー社又は アーガスケミカル社の製品； ７７０ デカンニ酸、ジー４（２，２，６，６〒テ
トラメチルピペリジニル）エステ ルーチヌビン（Ｔｌｎｕｖｉｎ ） ７７０ ｈチバガ
イギーカンパニー社の製品； Ｄ−Ｐ、 モナストラルグリーンＧ （Ｍｏｎａｓ
ｔｒａｌｇｒｅｅｎ Ｇ ） 、デュポン社ノ製品；Ａ
ＭＰ アン／ぐセットミクロリスＧにクリーン（Ａ
ｍｐａｃｅｔ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈ ＧＫ ｇｒｅｅｎ
） 。
リカンシアナミドカンパニー社又は アーガスケミカル社の製品； ７７０ デカンニ酸、ジー４（２，２，６，６〒テ
トラメチルピペリジニル）エステ ルーチヌビン（Ｔｌｎｕｖｉｎ ） ７７０ ｈチバガ
イギーカンパニー社の製品； Ｄ−Ｐ、 モナストラルグリーンＧ （Ｍｏｎａｓ
ｔｒａｌｇｒｅｅｎ Ｇ ） 、デュポン社ノ製品；Ａ
ＭＰ アン／ぐセットミクロリスＧにクリーン（Ａ
ｍｐａｃｅｔ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈ ＧＫ ｇｒｅｅｎ
） 。
アンノｊセット社の製品：
ＢＡＩＴ ２，６−シーｔｅｒｔ−ブチル／々ラク
レゾール Ｗ−６１８ジステアリルペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ボルグワーナー社の製 品。
レゾール Ｗ−６１８ジステアリルペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ボルグワーナー社の製 品。
実施例８−１７
上記の実施例と同じポリプロピレンから製造した第２組
のヤーンを、上記の実施例と同じ南フロリダ屋外試験で
評価した。組成物および結果は第２表および第３表に示
しである。ポリプロピレンは、すべて１０重量係の上記
のＡを含んでいた。
のヤーンを、上記の実施例と同じ南フロリダ屋外試験で
評価した。組成物および結果は第２表および第３表に示
しである。ポリプロピレンは、すべて１０重量係の上記
のＡを含んでいた。
これらの試料は、キセノンウエザロメーター（Ｘｅｎｏ
ｎ Ｗｅａｔｈｅｒｏｍｅｔｅｒ ）試験を用い、 ５
５００時間、実験室試験゛にもかけた。この標準試験は
、リボンヤーンを％ ＡＳＴＭ法に従って標準キセノン
ウエザロメーターに＠露することからなる。
ｎ Ｗｅａｔｈｅｒｏｍｅｔｅｒ ）試験を用い、 ５
５００時間、実験室試験゛にもかけた。この標準試験は
、リボンヤーンを％ ＡＳＴＭ法に従って標準キセノン
ウエザロメーターに＠露することからなる。
結果は一般に屋外試験と一致するが、屋外試験の方が本
発明のポリプロピレン組成物の実際使用時の紫外線安定
性のより信頼できる目安となると考えられる。
発明のポリプロピレン組成物の実際使用時の紫外線安定
性のより信頼できる目安となると考えられる。
実施例１ｆ３−２１
これらの実施例は、改良され友紫外線安定性を得るため
の、エチレン−酢酸ビニルコポリマーと紫外線安定剤と
の組み合わせ使用の共働効果を明らかに示す。前記実施
例と同じ、４１Ｊグロビレンから製造した第６組の２Ｘ
２−５４１１□（２×１００ミル）ヤーンを、前記実施
例と同じ南フロリダ屋外試験で評価した。組成物および
結果は、第４表に示しである。
の、エチレン−酢酸ビニルコポリマーと紫外線安定剤と
の組み合わせ使用の共働効果を明らかに示す。前記実施
例と同じ、４１Ｊグロビレンから製造した第６組の２Ｘ
２−５４１１□（２×１００ミル）ヤーンを、前記実施
例と同じ南フロリダ屋外試験で評価した。組成物および
結果は、第４表に示しである。
第 ４ 表
１３１．００゜５０．１５−−−−
１９１．００．０５０．１５ １０
２０−−０．１０−Ｑ、５０−
２１ −−０．１０ ０．５０１０
南フロリダ屋外曝露の
７６ ７０ ０ ０ ０９１ ８９ ８
４ ７６ ６３ ５４ ４２ ０ ０ ０ ８０ ７７ ５１ ４３ ３６
４ ７６ ６３ ５４ ４２ ０ ０ ０ ８０ ７７ ５１ ４３ ３６
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｕ） （ａ）小割合量の紫外線安定剤と（ｂ）大割合
量の、少なくとも１５車惜係のｒ非酸ビニルを含むエチ
レｙ −ａｒ＝ 酸ビニルコポリマーとの混合物かうす
る紫外線分解に対してポリオレフィンを安定化するだめ
の調合物。 （２） エチレン−酢ＩＳ！ビニルコポリマ−ｄｆ１
５〜ｙ ｏ ａｔ’ ｔ％の酢酸ビニルを含む特許請求
の範囲詑１項ｍｌ載の調合物。 （３） エチレン−〇 ＋Ｊ！ビニルコホリポリ７５
Ｅ ２−０〜５０用はチの＋１’ｌＥ酸ビニルを含む特
許請求の範囲第２項記載の４１４１合物。 １４） （ａ）がベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾ
ール類、サリチレート、ジアルキルジチオカルバミン酸
ニッケル、ジアルキルジチオカルバミン＃浚岨鉛、およ
び一般式 〔上記一般式中、Ｒ１およびＲ２は、同じであっても異
なっていてもよく、おのおのがアルキル基であるか、あ
るいはＲ４、Ｒ２が付いている炭゛素原子と一緒に５〜
７個の環炭素原子を有する飽４０脂Ｊ還弐基又は式 の基を形成し、 ｎは１〜６の整数であり、かつ ｎが１であるときには、Ｒ３はアンル基、あるいはｂ′
換器としてアルキル又はシクロアルキル又はアリールを
有するＮ−置換力ルバモイル基、あるいはＦｊ換基とし
てアルキル又はシクロアルキル又はアリールを有するＮ
−モノ置換チオカルバモイル基、あるいはスルフィン酸
又はスルホン酸又は燐含有酸又は硼酸から１個のヒドロ
キシル基を除くことによって得られる１価の基、あるい
はアルキル基、あるいはシクロアルキル基、あるいはア
ルアルキル基、あるいはアリール基、あるいは一般式 （上記一般式中、Ｒ１、Ｒ２は上で定義した通りである
） の基であり、 ｎが２であるときには、Ｒ３は二塩基脂肪族カル１１？
ン酸又は二塩基芳香族カルゲン酸から誘導されるジアシ
ル基、あるいは２個のカル・寸モイル基が１個のアリー
ル又はアルキル又はジアリールアルカン又はジアリール
エーテルで連結されているジカルバモイル基、あるいは
カルボニル基、あるいはジスルホン酸又は燐含有酸又は
ａ酸から２個のヒドロキシル基を除くことによって得ら
れる２価の基、あるいはアルキレン基、あるいはアリー
レン基、あるいはアリーレンジアルキレン基であシ。 ｎが５であるときには、Ｒ３は芳香族トリカルボン酸又
はシクロ脂肪族トリカルボン酸又はフラントリカルがン
酸から誘導されるトリアジル基、あるいは６個のカルバ
モイル基が１個のアリール基に付いているトリカルバモ
イル基。 あるいけトリスルホン酸又は燐含有酸又は硼酸から５個
のヒドロキシル基を除くことによって得られる５価の基
、あるいはアルカントリイル基、あるいはアレーントリ
イル基、あるいはアレーントリイルトリアルキレン基で
ある〕で示される障害アミン、あるいはその、燐酸又は
炭酸又はクエン酸又はステアリン酸又は安息香酸との塩
、およびそれらの混合物から選ばれる特許請求の範囲第
１項記載の調合物。 （５１（ａ）が炭酸ビス（２，２，６，６−チトラメチ
ノＬ；−４−ピ硬リジル）、シュウ酸ビス（２、２゜６
．６−テトラメチル−４−ピペリジル）、マロン酸ヒス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、
アジピン酸ビス（２，２゜６．６−テトラメチル−４−
ピペリツル）、フマル酸ビス（２，２，６，６−チトラ
メチルーゝ− ４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（２，２゜６．６−
テトラメチル−４−ピペリジル）、ヘキサヒドロテレフ
タル酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）、テレフタル酸ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ビイリジル）から選ばれるピペリジン誘導
体。 Ｎ、Ｎ’ −ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、Ｎ
、Ｎ’ −ヅイソプチルジチオカルノ々ミン酸ニッケル
、およびＮ 、 Ｎ’ −ジメチルジチオカルバミン酸
ニッケルから選ばれる特許請求の範囲第４項記載の調合
物。 （６１（ａ）がＮ 、 Ｎ’ −ジプチルジチオカルバ
ミン酸ニッケル、Ｎ、Ｎ’ −ジイソブチルジチオカル
バミン酸ニッケル、Ｎ、Ｎ’ −ジメチルジチオカル
バミン酸ニッケルから選ばれる特許請求の範囲第５項記
載の調合物。 （７） （ａ）がセバシン酸ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）である特許請求の範囲
第５項記載の調合、物。 （８） 高分子量ノリオレフィンと、（ａ）小割合量
の紫外線安定剤または紫外線安定剤混合物と（ｂｌ大割
合量の、少なくとも２０重量係の酢酸ビニルを含有スる
エチレン−酢酸ビニルコ？リマーとの混合物からなる調
合物の紫外線安定化量とを含むポリオレフィン組成物。 （９）Ｉリオレフインが式 ＣＨ２，＝ＣＨＲ（式中、
Ｒは水素又は炭化水素基である）のモノマーの重合生成
物である特許請求の範囲第８項記載のポリオレフィン組
成物。 α（ＩＲが水素あるいは２〜６個の炭素原子を有する炭
化水素基である特許請求の範囲第９項記載のポリオレフ
ィン組成物。 （１１１，１′？リオレフインがポリプロピレンである
特許請求の範囲第８項記載のポリオレフィン組成物。 Ｏａ 全組成物基準で約５〜約２０重量係のエチレン
−酢酸ビニルコポリマーを含む特許請求の範囲第８項記
載のポリオレフィン組成物。 ０（前リオレフィンがポリプロピレンである％ＦＦ梢求
０範囲第１２項記載のポリオレフィン組成物。 ０１；約８〜約１６重量係のエチレン−酢酸ビニルコポ
リマーを含む特許請求の範囲第１３項記載のｙ＋？リオ
レフィン組成物。 ＋１５１ （ａｌ カベンゾフェノン類、ベンゾトリ
アゾール類、サリチレート、ジアルキルジチオカルバミ
ン酸ニッケル、ジアルキルジチオカルバミン酸亜鉛、お
よび一般式 〔上記一般式中、Ｒ１卦よびＲ２は、同じであっても異
なっていてもよく、おのおのがアルキル基であるか、あ
るいはＲ，、ｉ（、）が伺いている炭素原子と一緒に５
〜７個の炭素原子を有する飽和脂環式基又は式 の基を形成し。 ｎは１〜６の整数であシ、かつ ｎが１であるときＫは、Ｒ５はアシル基、あるいｕｉ置
換基してアルキル又はシクロアルキル又はアリールを有
するＮ−置換力ルバモイル基、あるいは置換基としてア
ルキル又はシクロアルキル又はアリールを有するＮ−モ
ノ置換チオがルパモイル基、あるいはスルフィン酸又は
スルホン酸又は燐含有酸又は硼酸から１個のヒドロキシ
ル基を除くことによって得られる１価の基、あるいはア
ルキル基、あるいはシクロアルキル基、あるいはアルア
ルキル基、あるいはアリール基、あるいは一般式 （上記一般式中、Ｒ，、Ｒ２は上で定義した通シである
） の基であり、 ｎが２であるときには、Ｒ３は二塩基脂肪族かル紫ン酸
又は二塩基芳香族カルボン酸から誘導されるジアシル基
、あるいは２個のカルバモイル基が１個のアリール又は
アルキル又はジアリールアルカン又はジアリールエーテ
ルで連結されているジカルバモイル基、あるいはカルボ
ニル基、あるいはジスルホン酸又は燐含有酸又は硼酸か
ら２個のヒドロキシル基を除くことによって得られる２
価の基、あるいはアルキレン基。 あるいはアリーレン基、あるいはアリーレンジアルキレ
ン基であシ。 ｎが６であるときには、Ｒ５は芳香族トリカルボン酸又
はシクロ脂肪族トリカルボン酸又はフラントリカルボン
酸から誘導されろトリアジル基、あるいは５個のカルバ
モイル基が１個のアリール基に付いているトリカルバモ
イル基。 あるいはトリスルホン酪又は燐含有酸又は硼酸から３個
のヒドロキシル基を除くことによって得られる５価の基
、あるいはアルカントリイル基、あるいはアレーントリ
イル基、あるいはアレーントリイルトリアルキレン基で
ある〕で示される障害アミン、あるいはその、燐酸又は
炭酸又はクエン酸又はステアリン酸又は安息香酸との塩
、卦よびそれらの混合物から選ばれる特許請求の範囲第
１５項記載のポリオレフィン組成物。 α６１ （ａ）が炭酸ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）、シュウ酸ビス（２，２゜６
．６−テトラメチル−４−ピペリジル）、マロン酸ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、
アジピン酸ビス（２，２゜６・、６−テトラメチル−４
−ピペリジル）、フマル酸ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（２，２
゜６．６−テトラメチル−４−ピベリヅル）％ヘキサヒ
トＯテレフタル酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）、テレフタル酸ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）からなる群から選
ばれるビイリソン誘導体、Ｎ、Ｎ’ −ジブチルジチオ
カルバミン酸ニッケル、Ｎ、Ｎ’ −ジイソブチルジチ
オカルバミン酸ニッケル、卦よびＮ、Ｎ＋ −ツメチ
ルジチオカルバミン酸ニッケルから選ばれる特許請求の
範囲第１５項記載のポリオレフィン組成物。 ａｎ （ａ）がＮ、Ｎ＋ −ジブチルジチオカルバミ
ン酸ニッケル、Ｎ、Ｎ’ −ジイソブチルジチオカルバ
ミン酸ニッケル Ｎ 、 ｐ４ ＋ −ジメチルジチオ
カルバミン酸ニッケルの１つである特許請求の範囲第１
６項記載の２リオレフィン組成物。 珀 （ａ）がセバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）である特許請求の範囲第１６
項記載のポリオレフィン組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/453,399 US4487870A (en) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | UV Stabilizer system and UV stabilized polyolefins |
| US453399 | 1982-12-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59133239A true JPS59133239A (ja) | 1984-07-31 |
Family
ID=23800419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58252389A Pending JPS59133239A (ja) | 1982-12-27 | 1983-12-27 | 紫外線安定剤系および紫外線安定化ポリオレフイン |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4487870A (ja) |
| JP (1) | JPS59133239A (ja) |
| CA (1) | CA1262984A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4952812A (en) * | 1986-08-26 | 1990-08-28 | Baxter International Inc. | Irradiation of blood products |
| US4866282A (en) * | 1986-08-26 | 1989-09-12 | Baxter International Inc. | Irradiation of blood products |
| DE3724223A1 (de) * | 1987-07-22 | 1989-02-02 | Huels Chemische Werke Ag | Stabilisatorsystem |
| JP2582385B2 (ja) * | 1987-12-11 | 1997-02-19 | 旭電化工業株式会社 | 安定化された合成樹脂組成物 |
| GR1000415B (el) * | 1990-10-03 | 1992-06-30 | Plastika Kritis Avee | Σταθεροποιηση φυλλων πολλαπλων στρωσεων (co-extrusion) ανα στρωμα. |
| US6100208A (en) * | 1996-10-31 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Outdoor fabric |
| DE60134551D1 (de) * | 2000-05-31 | 2008-08-07 | Zeon Corp | Harzzusammensetzung |
| DE10209203A1 (de) * | 2002-03-04 | 2003-09-25 | Ulrich Steiner | Verfahren zur Abspaltung von labilen funktionellen Gruppen aus chemischen Verbindungen |
| CN105566204B (zh) * | 2014-10-17 | 2018-06-19 | 上海东升新材料有限公司 | 一种光稳定剂中间体2,2,6,6-四甲基-4-哌啶酯类化合物及其制备方法 |
| CN111747885B (zh) * | 2020-06-22 | 2021-07-27 | 宿迁联盛科技股份有限公司 | 一种光稳定剂中间体及其制备方法 |
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| JPS5157748A (ja) * | 1974-11-18 | 1976-05-20 | Dainippon Ink & Chemicals | Echirennbiniruesuterukyojugotaisoseibutsu |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3248359A (en) * | 1961-04-27 | 1966-04-26 | Du Pont | Polyolefin compositions |
| US4021432A (en) * | 1971-11-30 | 1977-05-03 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidine derivatives |
| DE2811550A1 (de) * | 1978-03-16 | 1979-09-20 | Bayer Ag | Elastomere thermoplastische mischungen aus polypropylen und aethylen- vinylacetat-copolymerisaten |
-
1982
- 1982-12-27 US US06/453,399 patent/US4487870A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-11-29 CA CA000442150A patent/CA1262984A/en not_active Expired
- 1983-12-27 JP JP58252389A patent/JPS59133239A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50116529A (ja) * | 1973-12-10 | 1975-09-11 | ||
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4487870A (en) | 1984-12-11 |
| CA1262984A (en) | 1989-11-14 |
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