JPS59128210A - 結晶性アルミノシリケ−ト、その製造方法及びそのアルミノシリケ−トから成るモノアルキルベンゼンのアルキル化用触媒 - Google Patents

結晶性アルミノシリケ−ト、その製造方法及びそのアルミノシリケ−トから成るモノアルキルベンゼンのアルキル化用触媒

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JPS59128210A
JPS59128210A JP57228283A JP22828382A JPS59128210A JP S59128210 A JPS59128210 A JP S59128210A JP 57228283 A JP57228283 A JP 57228283A JP 22828382 A JP22828382 A JP 22828382A JP S59128210 A JPS59128210 A JP S59128210A
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aluminosilicate
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Masazumi Chono
丁野 昌純
Hiroshi Ishida
浩 石田
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なアルミノシリケート、その製造方法及び
そのアルミノシリケートから成るモノアルキルベンゼン
のアルキル化用触媒に関し、さらに詳しくいえば、従来
から公知の結晶性アルミノシリケートとは異なったX線
回折パターンを示し、かつ特異な特性を有する結晶性ア
ルミノシリケートに関するものである。
結晶性アルミノシリケートは、一般にゼオライトと称さ
れる物質であって、5i04とAzo4  とが酸素原
子を介して交さ結合している剛性の三次元構造を有して
お9、この中のアルミニウム原子とケイ素原子の和と酸
素原子との比は1.2であり、またアルミニウムを含有
する四面体の電子価は、結晶内に種々のカチオンを含有
することによって平衡が保たれている。
この結晶性アルミノンリケードは天然品又は合成品とし
て入手でき、吸着剤や触媒などとして広く利用されてい
る。
最近、シリカ供給物質、アルミナ供給物質、アルカリ金
属供給物質及び水の組成物に、テトラアルキルアンモニ
ウムイオンを添加して合成された結晶性アルミノシリケ
ート(ゼオライト)、すなわちZSM−5(モービルオ
イル社製)id、従来のゼオライト、例えばフォージャ
サイト型ゼオライト(X、Y型)とは異なる種々の特性
を有している。すなわち、このZSM−!5は特異なX
線回折パターンを示す新規な結晶構造をもっていること
、またその5i02 / A/=203比が犬きくて高
い耐熱性及び酸強度を有していることなどから、これを
触媒として用いた場合、メタノールからの炭化水素の製
造や芳香族炭1こ水素類の不均化、アルキル化及び異性
化反応などに優れた効果を発揮するものとして注目され
ている。
一般に、シリカ含有量の多い結晶性アルミノシリケート
は、シリカ供給物質、アルミナ供給物質とともに、アル
カリ金属カチオン及びそれと組合せて使用するその他の
カチオンを共存させて製造されており、このその他のカ
チオンの種類及び組合せ、さらにはその製造条件などに
よって、得られた結晶性アルミノシリケートの構造及び
その特性が異なる。
本発明者らは、新規な結晶性アルミノシリケートについ
て鋭意研究を進めた結果、特定の有機アミン、すなわち
1分子中に3個の第一級アミン基をもつアミンを有機カ
チオン源として使用し、特定の製造条件下にて製造する
ことにより、従来から公知の結晶性アルミノシリケート
とは明らかに異なったX線回折パターンを示す。特異な
特性を有する新規な結晶性アルミノシリケートが得られ
ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成する
に至った。
すなわち、本発明は、式 %式% (式中のM[アルカリ金属イオン、アンモニウムイオン
及び水素イオン、Xは10−1000である)に相当す
る組成を有し、かつX線回折パターンにおいて、次記の
回折角(2θ)及び相対強度により特徴づけられる少な
くとも7本の回折線を有する結晶性アルミノシリケート
を提供するものである。
このものは、シリカ供給物質、アルミナ供給物質、アル
カリ金属供給物質水及び窒素含有有機カチオン供給源と
して1分子中に3個の第1級アミン基を有するアミン(
A)を含有し、かつそれぞれの成分モル比が Eii02 / AA203 = 10〜10000H
’−/5i02  = 0.05〜1,0H20/5i
02  ””  5〜50A / 5i02  = 0
.5〜10(ただし、OH−はアルカリ金属供給物質に
由来するものであり、Aは1分子中に3個の第1級アミ
ン基をもつ炭素数3以上の脂肪族トリアミンである) の範囲である均一組成物を、ioo〜250℃の温度に
加熱して結晶が生成するのに十分な時間反応させること
によって製造され、このようにして得られた結晶性アル
ミノシリケートは、モノアルキルベンゼンのアルキル化
用触媒として好適である。
上記の方法によシ製造された結晶性アルミノシリケート
(以下AZ−1で表わす)は、従来得られているゼオラ
イト、例えばZSM−5などと比較して明らかに異なる
X線回折パターンを示す。第1表に本発明のAZ−1と
特公昭46−10064号公報に基いて製造したZSM
−5のX線回折チーターの1例を示した。
第1表 注)各ゼオライトは合成後、洗浄、脱水、乾燥して50
0℃の温度で焼成したものである。
第1表から明らかなように、本発明のAZ−1はZSM
−5と比較してピーク(回折角)の相対強度が顕著に異
なシ、特にAZ−1の最強ピークが2θ;8.7である
のに対し、ZSM−5のそれは23.1であって、両者
の各X線回折パターンにおける2θ−8,7と23.1
の強度比を求めると、AZ−1はZSM−5の約4倍と
なっている。
捷だ、両者の回折角(2θ)7.8と867の強度比も
顕著に異なっている。すなわち2θ=7.8に対する8
、7の強度比がZSM−5では約歿であるのに対し、A
Z−1はその約10倍の約5である。
さらに、AZ−1の8.7と8.9の回折角は明らかに
2本のピークに分裂している。
このように、本発明のAZ−1が特異なX線回折パター
ンを示すことは、このものがZSM−5とは異なった特
異かつ新規な結晶構造を有するものであることを示して
おり、また次に示すような特性を発揮することから、そ
の特異性は物性面からも明らかである。
すなわち、AZ−1はその吸着特性において特異性が著
しく、例えばピリジン及び4−メチルキノリンの吸着量
を325℃の温度で2時間後に測定した結果、AZ−1
はZSM−5と比較してピリジン/4−メチルキノリン
の吸着量比が大幅に異なることが見出された。その結果
を第2表に示す。
第    2    表 このピリジン吸着量は、ゼオライトの細孔内酸性度に対
応し、4−メチルキノリンの吸着量は細孔外酸性度に対
応することから、AZ−1はZSM−5に比べて細孔内
酸性点の割合が大きいことが分る。
このような酸性点の分布が異なる原因は明らかではない
が、これによってAZ−1が従来の結晶性アルミノシリ
ケート、例えばZSM−5とは異なった特異な結晶構造
及び表面構造を有するものであると考えられる。
この特性は、例えばモノアルキルベンゼンのアルギル化
反応によりジアルキルベンゼンを製造スる際に顕著な効
果を発揮する。
すなわち、本発明のAZ−1を触媒として用い、モノア
ルキルベンゼンのアルキル化反応を行った場合、驚くべ
きことにp−ジアルキルベンゼンが極めて高選択率で得
られることが判った。これは、AZ−1の新規な結晶構
造及び表面構造による酸性点の分布の特異性に由来する
ものであると思われるO 従来、結晶性アルミノンリケードを触媒として用い、芳
香族化合物をアルキル化する方法は公知で1、またモノ
アルキルベンゼンをアルキル化してジアルキルベンゼン
を製造する方法も知られている。しかしながら、この場
合、得られるジアルキルベンゼンの各異性体(o  +
m +p一体)の組成は平衡組成、例えばエチルトルエ
ンの場合は通常〇一体: 1s、s %、m一体:50
係、p一体: 31.5 qbの組成である。
これに対し、本発明のAZ−1は、特別な変性処理、例
えば〇一体、m一体の生成を抑制するような変性処理を
何ら施すことなく、未変性の状態で触媒として用いられ
、平衡組成の3倍以上といった高選択率でp一体を与え
る。
本発明の方法で用いるシリカ供給物質としては従来の結
晶性アルミノシリケートの製造に通常使用されているも
のであれば特に制限がなく、例え   ′ば、シリカ粉
末、ケイ酸、コロイド状ノリ力、ケイ酸ナトリウム水溶
液などが用いられる。
また、本発明の方法で用いるアルミナ供給物質としては
、従来の結晶性アルミノシリケートの製造に通常使用さ
れているものであれば特に制限はなく、例えば、アルミ
ナ粉末、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウムなど
が用いられる。
これらのシリカ供給物質とアルミナ供給物質との使用割
合は、5i027 Al−203とのモル比が10/1
ないし1000/1、好ましくは、2o/1ないし30
0/1の範囲になるように選ぶのが好ましい。
次に、アルカリ金属供給物質としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの水酸化物が用いられるが、水
酸化ナトリウムが特に好ましい。
アルカリ金属供給物質の使用量は、5i02 1モル換
算当50.05〜1.0の範囲である。
本発明方法においては、シリカ供給物質、アルミナ供給
物質及びアルカリ金属供給物質より結晶性アルミノシリ
ケートを製造する際に、有機カチオン源として1分子中
に3個の第一級アミン基をもつアミンを共存させること
が必要である。このアミンは炭素数3以上の脂肪族トリ
アミンであっで、好ましくは9以上のものが用いられる
。特に好適なアミンは、式 %式% で示される1、8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタ
ン(以下トリアミンと略称する)である。
本発明方法におけるアミンの使用量は、5i021モル
当シ帆5〜10モルの範囲である。
1だ、本発明方法においては、結晶性アルミノシリケー
トの製造を水溶液中で行う必要がある。
この際の水の量は5i021モル当95〜50モルの範
囲である。
本発明においては、前記のシリカ供給物質、アルミナ供
給物質、アルカリ金属イオン供給物質、アミン及び水を
、前記したような組成比を有する原料組成物として使用
する必要があり、また本発明に基づく特異なX線回折パ
ターンを示す結晶構造のゼオライトを得るためには、さ
らに次に示すような条件下で製造することが重要である
まず、前記の原料組成物をゼオライトの結晶化前に、よ
くかきまぜて混合を行う。この場合、例えば回転ミキサ
ー、ホモジナイザーなどを用い、線速100m/s以上
の条件でかき1ぜて混合することが好ましい。丑だ、こ
の原料組成物のpHを、例えば酸を適時添加して11.
5〜12.5の範囲に調整することが好ましい。
次に、このようにして調製された原料組成物を、常圧又
は自己発生圧力下で、100〜250℃の温度に加熱し
てゼオライトを結晶化させる。この時の反応時間は温度
や圧力によって左右されるが、通常5〜100時間であ
る。
本発明の結晶性アルミノシリケートを触媒としテ用い、
モノアルギルベンゼンのアルキル化反応を行う場合、通
常反応温度は200〜700℃、反応圧力は0.1〜1
00気圧の範囲であシ、またモノアルキルベンゼンとア
ルキル化剤との使用割合は、モル比で11ないし20.
1の範囲である。
この反応に用いるモノアルギルベンゼントシては、例え
ばトルエン、エチルベンゼンなどが好ましく、またアル
キル化剤としては、例えばエチレン、メタノール、エタ
ノールなどが好ましく挙げられる。
さらに、この反応を実施するに際し、希釈剤としてメタ
ン、エタンなどの低級炭化水素、窒素、二酸化炭素など
を、アルキル化剤1モルに対し0.1〜10モルの割合
で加えてもよい。また、触媒寿命を延ばす目的で水素を
アルキル化剤1モルに対し1〜30モルの割合で共存さ
せてもよい。
この反応によって得られるp−ジアルキルベンゼンとし
ては、例えばエチルトルエン、ジエチルベンゼン、キシ
レンなどが挙ケられる。
本発明の結晶性アルミノシリケートは、前記の反応に使
用する場合、種々の耐熱性、耐久性、多孔性などを有す
る無機材料に混合、成形して使用することが望ましい。
この無機材料としては、例えばシリカ、アルミナ、シリ
カアルミナ、マグネシア、粘土などが挙げられる。
さらにこの反応は、反応型式として、例えば固定尿、移
動床、流動床などが用いられ、また回分式、半連続式又
は連続式などの操作で実施される。
本発明の結晶性アルミノンリケードは、必要に応じて所
望するカチオン、例えばプロトン、プロトン前駆体並び
に元素周期律表IA、IIA、IIB、IVA、■B、
■の各族及び希土類に属する金属のカチオンの中から選
ばれた少なくとも1種とイオン交換することができる。
またこの結晶性アルミノシリケートは、生成物を乾燥し
た状態、300℃以上で焼成した状態又はイオン交換さ
れた状態で、触媒や吸着剤などとして用いられる。
特に本発明の結晶性アルミノシリケートを触媒として用
いる場合、モノアルギルベンゼンのアルキル化反応によ
るジアルキルベンゼン製造において顕著な特性を発揮す
る。
すなわチ、キシレン、エチルトルエン、ジエチルベンゼ
ンなどのジアルキルベンゼンは化学原料の中間体として
重要なものであシ、例えばキシレンは酸化されてフタル
酸に、エチルトルエン、ジエチルベンゼンは脱水素さr
して、それぞれメチルスチレン、ジビニルベンゼンとな
って有用な高分子用モノマーとして使用さ九る。しかし
、この高分子用モノマーとしては、これらはいずれもパ
ラ異性体が特に有用であって、従来の方法ではそれぞれ
の製造プロセスによって得られる他の異性体(オルソ異
性体、メタ異性体)を分離する必要があるが、これらの
異性体は沸点が近似しているため分離工程が極めて煩雑
となること、脱水素工程においてオルソ異性体が環化反
応を起しやすいことなど、製造プロセス上棟々の問題点
がある。しかしながら、本発明の結晶性アルミノシリケ
ートを触媒として前記のアルキル化反応に用いた場合、
パラ異性体が高選択率で得られ、その生成物はそれぞれ
の平衡組成の3倍以上のパラ一体を有する組成となり、
したがって前記の製造プロセス上の問題点が大幅に軽減
されることになる。
本発明の結晶性アルミノシリケートは、前記以外の触媒
の用途として、例えば炭化水素類のクランキング反応、
重合反応、トルエンよシキシレンとベンゼンを得る反応
のような不均化反応、エチルベンゼンからキシレンを得
る反応のような異性化反応、アルコールからオレフィン
を得る反応のような脱水反応、オレフィンからアルコー
ルを得る反応のような水利反応などに用いることができ
る。
また、本発明の結晶性アルミノシリケートは吸着剤とし
て、例えば芳香族化合物における異性体の吸着分離に使
用することもできる。
なお、本発明における結晶性アルミノシリケートのX線
回折データーは、X線回折計としてガイガーフレックス
(理学電機製)を、X線としてCd、Kd線を使用した
。この測定において、結晶性アルミノシリケート自体の
バラツキ及び測定誤差などにより、数係程度の相対誤差
を生じることがあるが、回折角相互の相対的位置及び相
対的強度に関しては不変である。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
実施例1 1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン107、
硫酸アルミニウム(At2C8O4)z、・18H20
)0.51i’、水酸化ナトリウム帆5グを水151に
とかし、さらに、シリカゾル(30% 5i02) 2
0グを加えて均質な溶液を得た。この溶液にかきまぜな
がら20%硫酸を滴下してpH12に調整して均質なゲ
ルを得た。さらに、このゲルをミキサーに入れ、、10
1000rp線速度100m/sec )で10分間混
合しゲル化を促進した。このゲルをテフロン製試験管に
仕込みステンレス製耐圧容器中で、170℃、48時間
静置して結晶化を行った。
得られた生成物を、ろ過、洗浄したのち、120℃で3
時間乾燥してさらに500℃で4時間焼成したのちのX
線回折パターンを第1図に示す。
実施例2 ■、8−ジアミノー4−アミノメチルオクタン52、硫
酸アルミニウム0.3グ、水酸化ナトリウム0.42を
水152にとかして均質な溶液を得た。
この溶液に、かきまぜながら20%硫酸を滴下してpH
12に調整して、均質なゲルを得た。さらにこのゲルを
ホモジナイザーで5000rpm、15分間高速かくは
んしてゲル化を促進した。このゲルをテフロン製試験管
に仕込み、ステンレス製耐圧容器中で、160℃、72
時間静置して結晶化を行った。
得られた生成物をろ過、洗浄したのち、120℃で3時
間乾燥し、さらに500℃で4時間焼成したのちのX線
回折パターンを第2図に示す。
実施例3 1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン1002
、硫酸アルミニウム47、水酸化ナトリウム51を水2
00りにとかし、さらにシリカゾル(30係5i02 
) 250グを加えて均質な溶液を得た。この溶液にか
きまぜながら20%硫酸を滴下してpH12,5に調整
して均質なゲルを得た。さらに、このゲルをミキサーに
入れ2000rpm、、 20分間高速かくはんした。
このゲルを、テフロン内張pオートクレーブ中に仕込み
、50rpmでかきまぜながら、150℃、24時間結
晶化させた。
得られた生成物をろ過、洗浄したのち、100℃で3時
間乾燥し、さらに500℃で4時間焼成したのちのX線
回折パターンを第3図に示す。
実施例4 1.8−ジアミノ−4−アミノメチルオクタン2゜2、
硫酸アルミニウムi、o ′?、水酸化ナトリウム0.
52を水15グにとかし、さらにシリカゾル(30%5
i02 )を加えて均質な溶液を得た。この溶液に、か
きまぜながら20%硫酸3.02を滴下して均質なゲル
を得た。このゲルを、ミキサー中で、2000rpm、
  20分間がくはん混合してゲル化を促進した。この
ゲルを、テフロン製試験管に仕込み、ステンレス製耐圧
容器中で、180℃で20時間静置(〜て結晶化を行っ
た。
得られた生成物を、ろ過、洗浄して、120℃で3時間
乾燥したのち、さらに500℃で4時間焼成したのちの
X線回折パターンを第4図に示す。
比較例 Q brandケイ酸塩水溶液(Na2O8,9wt 
%、510228.9 wt %、 H2O62,2W
t % ) 30Q fにlO%テトラプロピルアンモ
ニウムノ1イドロキサイド水溶液2007を加え、さら
に水100グに硝酸アルミニウム(At(Noす39H
20)5g?を溶かした溶液を加えて均質な溶液を得た
。さらに硝酸をか@1ぜながら滴下して、pH10〜1
0.5に調整して均質なゲルを得た。このゲルをテフロ
ン内張9オートクレーブに仕込み、か@まぜながら18
0℃、24時間結晶化させた。
得られた生成物を、ろ過、洗浄したのち、120℃3時
間乾燥し、さらに500℃、4時間焼成したのちのX線
回折パターンを第5図に示す。この回折パターンは、通
常のZSM−5の回折パターンと一致した。
なお、実施例1〜4及び比較例で得られた結晶性アルミ
ノシリケートの回折角(2θ)と相対強度との関係を第
3表に示す。
第    3    表 実施例5 実施例1で得たAZ−1を用いてトルエンとエチレンか
らのエチルトルエンの合成反応を行った。
実験条件は、触媒としてAZ−12f、トルエン/エチ
レンモル比2.3 、 WH8V 4hr−1、反応温
度420℃で、常圧流通法で行った。
反応開始後、2時間から3時間の成績は、トルエン転化
率(エチレン基準)5(1、エチルトルエン収率48%
、エチルトルエン中のパラ体)割合90係であった。
実施例6 実施例2で得たAZ−1を用いて水素共存下でトルエン
とエチレンカラのエチルトルエンの合成反応を行った。
実験条件は、触媒としてAZ−120g、トルエン/エ
チレン/H2モル比2/1/4、WH8V 4 hr−
’、反応温度400℃、圧力3Kg/cr/Lで行った
反応開始後、2〜3時間、20〜21時間の成績を第4
表に示す。
第    4    表 実施例7 実施例3で得られたAZ−1を用いて、トルエンとメタ
ノールからのキシレンの合成反応を行った。実験条件は
、触媒としてAZ−129、トルエン/メタノール/N
2モル比2/1/12、WH8V 4 hr”−”  
反応温度500℃で常圧流通法で行った。
反応開始後、1〜2時間の成績は、トルエン転化率20
係、キシレン収率19循、キシレン中のパラ体の割合8
0qbでめった。
実施例8 反応温度が600℃であること以外は、実施例7と同じ
条件でトルエンとメタノールからのキシレンの合成反応
を行った。
反応開始後、2〜3時間の成績は、トルエン転化率30
%、キシレン収率28%、キシレン中のパラ体の割合7
5係であった。
実施例9 実施例2で得られたAZ−1を用いてエチルベンセンと
エチレンからのジエチルベンゼンの合成反応を行った。
実験条件は、エチルベンゼン/エチレンモル比2.5、
AZ−12f、WH8V 40hr−’反応温度450
℃で常圧流通法で行った。
反応開始後、2〜3時間の成績(は、エチルベンゼン転
化率40%、ジエチルベンゼン収率38%ジエチルベン
ゼン中のパラ体の割合75%であった。
実施例10 実施例3で得られたAZ−1を用いてトルエンとエタノ
ールからのエチルトルエンの合成反応を行った。実験条
件は、AZ−12f、トルエン/エタノールモル比3.
0、WH8V 40hr ’  、反応温度400℃で
、常圧流通法で行った。
反応開始後、2〜3時間の成績はトルエン転化率45%
、エチルトルエン収率43係、エチルトルエン中のパラ
体の割合は85%であった。
【図面の簡単な説明】
第1〜第4図は、実施例で得られた本発明の結晶性アル
ミノシリケートのX線回折パターンであり、第5図は比
較例で得られたZSM−5のX線回折パターンである。 特許出願人 旭化成工業株式会社 代理人 阿 形  明 手続補正書 昭和59年3 月2E日 昭和57年特許願第228283号 3袖止をする若 小作との関係 特許出願人 住 所 大阪府大阪市北区堂島兵1丁目2番6号代表者
 宮  崎     輝 4代 理 人 5 補正命令の日イ」  自発 6 補正により増加する発明の数 0 8補正の内容 (1)特許請求の範囲全別紙のとお9訂正します。 (2)明細書第6ページ下よ92行「を示す。特異全「
全示す特異な」に訂正します。 同第7ページ末行(表の最下欄)の「236±8.4」
を「233±02」に訂正します。 (4)同第8ページ第14行の「均一組成物」を質組成
物」に訂正します。 (5)  同第9ページ第1表最下欄の723.6J全
「233」に訂正します。 (6)同第12ページ下よ92〜1行の[〇一体:18
5%、m一体:50係、p一体:315%JkrO−1
0%、m一体60係、p一体=30%]に訂正します。 (7)同第15ページ第15行の「線速100m/s−
」全「刃先端の線速1.Qm/eθC以上」に訂正す。 (8)同第16ページ第13行の「メタノール」の前に
「プロピレン、」全加入し1丁。 (9)同第16ページ下より3行の[01〜lOモルj
kro、1〜20モル」に訂正しt−r。 QQ  同第18ページ第7行の「キンレン」の次ニ「
、ンメン」を加入します。 (1])同第18ページ第7行の[ルベンゼン]の次に
口、ンメンJffi加入します。 (尊 同第20ページ下よ94行の「(線速度100m
/sθC月’er(刃先端の線速1.o m /see
 ) J K訂正します。 (13同第24ページ第3表の最下欄の「23.6±0
.2」全「23.a±o、2」に訂正し1丁。 特許請求の範囲 1式 %式% (式中のMはアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン
又は水素イオン、Xは10〜1000である)に相当す
る組成含有し、かつX線回折パターンにおいて、次記の
回折角(2θ)及び相対強度により特徴づけられる少な
くとも7本の回折線を有する結晶性アルミノンリケード
。 2 シリカ供給物質、アルミナ供給物質、アルカリ金属
供給物質、水及び窒素含有有機カチオン供給源として1
分子中に3個の第一級アミ7基をもつアミンFA) k
含有し、かつそれぞれの成分モル比が SiO2/At203−10〜1oo。 OH/5io=0.05〜1.0 H2O/EliO2”5〜50 A/s工o2−0.5〜lO (ただし、OH−はアルカリ金属供給物質に由来するも
のであり、Aば1分子中に3個の第一級アミ)基をもつ
炭素数3以上の脂肪族トリアミンであるン の範囲である均質組成物k、100〜250℃の混度に
加熱して結晶が生成するのに十分な時間反応させること
全特徴とする結晶性アルミノシリケートの製造方法。 3式 %式% (式中のMはアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン
又は水素イオン、Xは10〜1000である)に相当す
る組成を有し、かつX線回折パターンにおいて、次記の
回折角(2θ)及び相対強度により特徴づけられる少な
くとも7本の回折線含有する結晶性アルミノシリケート
から成るモノアルキルベンゼンのアルキル化用触媒。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1式 %式% (式中のMはアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン
    又は水素イオン、Xは10〜1000である) に相当する組成を有し、かつX線回折パターンにおいて
    、次記の回折角(2θ)及び相対強度により特徴づけら
    れる少なくとも7本の回折線を有する結晶性アルミノシ
    リケート。 2 シリカ供給物質、アルミナ供給物質、アルカリ金属
    供給物質、水及び窒素含有有機カチオン供給源として1
    分子中に3個の第一級アミン基をもつアミン(A)を含
    有し、かつそnぞnの成分モル比が 5i02/ At203 = )0〜10000H”−
    /5i02  = 0−05〜1.0H20/5i02
      = 5〜50 A / 5i02  = 0.5〜10(ただし、OH
    −はアルカリ金属供給物質に由来するものであり、Aば
    1分子中に3個の第一級アミン基をもつ炭素数3以上の
    脂肪族トリアミンである) の範囲である均一組成物を、100〜250 ℃の温度
    に加熱して結晶が生成するのに十分な時間反応させるこ
    とを特徴とする結晶性アルミノシリケートの製造方法。 3式 %式% (式中のMはアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン
    又は水素イオン、X(は1o〜1000である) に相当する組成を有し、かつX線回折パターン妬おいで
    、次記の回折角(2θ)及び相対強度により特徴づけら
    れる少なくとも7本の回折線を有する結晶性アルミノシ
    リケートがら成るモノアルキルベンゼンのアルキル化用
    触媒。
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